복합 반투막, 이의 제조방법, 및 이를 사용한 엘리먼트,유체 분리장치 및 붕소 함유 물의 처리 방법 document_id A220623052441

최근, 복합 반투막을 통해서 해수를 탈염시키는 것이 시도되어 왔으며, 현재, 전 세계적으로 수처리 플랜트에 실제 사용에 적용되고 있다. 복합 반투막은 일반적으로 다공성 지지 필름상에 코팅된 분리 작용층을 포함한다. 분리 작용층이 가교된 방향족 폴리아미드를 사용함으로써 형성되는 경우, 층은 벤젠 고리를 함유하기 때문에 단단하고 강하다는 이점과 층이 방향족 다작용성 아민 및 방향족 다작용성 산 할라이드의 계면 중축합에 의해서 용이하게 형성될 수 있다는 이점이 있으며, 그 밖의 이점, 예컨대, 높은 염 제거율 및 높은 투과 유속이 공지되어 있다(JP-A-1-180208 및 JP-A-2-115027). 그러나, 본 기술 분야에서의 물 품질 표준은 최근 더욱 강화되고 있다. 특히, 해수에서 일반적인 처리로 식수로 허용되는 수준으로 미량의 붕소를 제거하는 것은 어려우며, 일부 복합 반투막이 이러한 문제를 해소시키고자 제안되었다((JP-A-11-19493 및 JP-A-2001-259388). 그러나, 이들 막은, pH가 6.5이며, 붕소함량이 5ppm이고, TDS 농도가 3.5중량%인 25℃의 해수가 5.5 MPa의 작동 압력하에 투과되는 경우, 0.5m3/m2·일(day) 이하의 막 투과 유속 및 최대 약 91 내지 92%의 붕소 제거율을 나타내는 것으로 예상되기 때문에, 더 높은 용질-거부 성능을 지니는 복합 반투막의 개발이 요구되고 있다. 복합 반투막의 용질-거부 성능을 개선시키는 수단으로서, 신규한 반응물이 반응 용액에 첨가되는 방법이 예시되어 있다. 이러한 방법은 통상의 방법과 그리 다르지 않기 때문에, 개선된 간단한 방법으로서 유용하다. 예를 들어, 복합 반투막에서, 가교된 폴리아미드는 분자에 둘 이상의 아미노기를 지니는 폴리아민 성분, 및 신규한 반응물로서 분자내에 둘 이상의 할로게노카르보닐기를 지니는 선형 지방족 폴리-산 할라이드를 포함하는 산 성분에 의해서 구성됨이 기재되어 있다(일본 특허 제3,031,763호). 상기 방법이 높은 염 제거율 및 높은 투과 유속를 지니는 복합 반투막 및 그 제조방법을 제공하고 있다고 기재되어 있지만, 그러한 방법에 따라서 붕소 거부를 더 증가시키는 것은 여전히 불가능하다. 한편, 시약을 반투막과 접촉시켜서 선택적인 분리 성능을 개선시키고 이의 보유성을 개선시키는 처리를 수행하는 것이 시도되어 왔다. 예를 들어, 복합 반투막을 서로 반응성인 두 종류 이상의 수용성 화합물 함유 수용액과 연속적으로 접촉시키는 방법이 언급될 수 있다(JP-A-59-115704). 이러한 방법은 반투막의 탈염율의 장시간 안정성을 개선시키는 데는 유용하지만, 붕소 제거율이 95% 만큼 높게 도달하도록 개선되지는 않았다. 또한, 후처리를 위한 음이온성 계면활성제를 사용하는 방법이 언급되고 있다(JP -A-62- 110706). 이러한 방법은 반투막의 무균화에서 투과유속의 저하를 억제하는데 유용하지만, 붕소 제거율이 95% 만큼 높게 도달하도록 개선되지는 않았다. 추가로, 분리 작용 폴리아미드층의 표면을 하나 이상의 알데히드기를 지니는 화합물의 용액으로 코팅하는 방법이 또한 언급되고 있다(JP- A-2004-243198). 이러한 방법은 노화 안정성 및 높은 투과 유속을 얻는데 유용하지만, 붕소 제거율이 95% 만큼 높게 도달하도록 개선되지는 않았다. 또한, 아민 반응성 시약 또는 산화제를 폴리아미드 복합막에 작용시키는 방법이 또한 언급될 수 있지만(미국특허 제4,964,998호), 붕소 제거율이 95% 만큼 높게 도달하도록 개선되지는 않았다. 발명의 개시 본 발명의 목적은 붕산과 같이 중성 영역에서 비해리성인 물질에 대해서도 높은 염 제거율 및 높은 거부 성능을 지니는 복합 반투막을 제공하고, 이의 제조방법을 제공하는 것이다. 상기된 목적 및 그 밖의 목적을 달성하기 위해서, 본 발명은 다공성 지지 필름상에 형성된 다작용성 아민과 다작용성 산 할라이드의 반응물을 포함한 분리 작용층을 포함하는 복합 반투막으로서, 수용성 유기물질을 분리 작용층과 접촉시킴으로써 적합한 투과 유속과 95% 이상의 붕소 제거율을 지니는 복합 반투막을 제공하고 있다. 특히, 본 발명은 하기 복합 반투막에 관한 것이다: (1) 다공성 지지 필름상에 형성된 다작용성 아민과 다작용성 산 할라이드의 반응물을 포함한 분리 작용층을 포함하는 복합 반투막으로서, 수용성 유기물질이 분리 작용층과 접촉되며, pH가 6.5이고 붕소 농도가 5ppm이고 TDS 농도가 3.5중량%인 25℃의 해수가 5.5MPa의 작동 압력하에 투과되는 경우에 분리 작용층이 95% 이상의 붕소 제거율을 지니는 복합 반투막. (2) 상기 (1)에 따른 복합 반투막으로서, 양전자 소멸 수명 스펙트로스코프(Positron Annihilation Lifetime Spectroscopy)로 측정되는 경우 분리 작용층의 평균 기공 반경이 0.25nm 내지 0.35nm이며, 공극율이 0.2nm3% 내지 0.3nm3%인 복합 반투막. (3) 상기 (1) 또는 (2)에 따른 복합 반투막으로서, 수용성 유기 물질이 분리 작용층을 구성하는 아미노기와 접촉되어 공유 결합을 형성하는 물질인 복합 반투막. (4) 상기 (1) 또는 (2)에 따른 복합 반투막으로서, 수용성 유기 물질이 계면활성제인 복합 반투막. (5) 상기 (1) 또는 (2)에 따른 복합 반투막으로서, 처리하고자 하는 복합 반투막을 수용성 유기 물질과 접촉시킴으로써 얻을 수 있으며, pH가 6.5이고 붕소 농도가 5ppm이고 TDS 농도가 3.5중량%인 25℃의 해수가 5.5MPa의 작동 압력하에 투과되는 경우에 염 제거율이 99.5% 이상이거나 염 투과계수가 3 x 10-8 m/s 이하인 복합 반투막. (6) 상기 (1) 또는 (2)에 따른 복합 반투막으로서, 다작용성 아민이 방향족 다작용성 아민인 복합 반투막. (7) 상기 (3)에 따른 복합 반투막으로서, 수용성 유기 물질이 포르밀기를 지니는 화합물, 포르밀기를 지니는 화합물의 유도체, 옥실라닐기를 지니는 화합물, 옥실라닐기를 지니는 화합물의 유도체, 산 할라이드, 탄산염 유도체, 카르바메이트 유도체 및 알킬 할라이드로 이루어진 군으로부터 선택된 화합물 또는 유도체를 포함하는 복합 반투막. (8) 상기 (7)에 따른 복합 반투막으로서, 포르밀기를 지니는 화합물이 공유결합을 통해서 아민에 결합할 수 있는 둘 이상의 작용기를 지니는 알데히드인 복합 반투막. (9) 상기 (7)에 따른 복합 반투막으로서, 옥실라닐기를 지니는 화합물이 공유결합을 통해서 아민에 결합할 수 있는 둘 이상의 작용기를 지니는 에폭시드인 복합 반투막. (10) 상기 (1) 또는 (2)에 따른 복합 반투막으로서, 수용성 유기 물질의 분자량이 1,000 이하인 복합 반투막. (11) 다공성 지지 필름상에서 다작용성 아민을 다작용성 산 할라이드와 접촉시켜 다중 축합에 의해서 폴리아미드를 포함하는 분리 작용층을 형성시키고; pH가 6.5이고 붕소 농도가 5ppm이고 TDS 농도가 3.5중량%인 25℃의 해수가 5.5MPa의 작동 압력하에 투과되는 경우에 붕소 제거율이 95% 이상이 될 때까지 분리 작용층을 수용성 유기 물질과 접촉시킴을 포함하여, 복합 반투막을 생성시키는 방법. (12) 상기 (11)에 따른 방법으로서, 양전자 소멸 수명 스펙트로스코프(Positron Annihilation Lifetime Spectroscopy)로 측정되는 경우 분리 작용층의 평균 기공 반경이 0.25nm 내지 0.35nm이며, 공극율이 0.2nm3% 내지 0.3nm3%인 방법. (13) 상기 (11) 또는 (12)에 따른 방법으로서, 수용성 유기 물질이 분리 작용층을 구성하는 아미노기와 접촉되어 공유 결합을 형성하는 물질인 방법. (14) 상기 (11) 또는 (12)에 따른 방법으로서, 수용성 유기 물질이 계면활성제인 방법. (15) 상기 (11) 또는 (12)에 따른 방법으로서, 수용성 유기 물질이 처리하고자 하는 복합 반투막과 접촉되며, pH가 6.5이고 붕소 농도가 5ppm이고 TDS 농도가 3.5중량%인 25℃의 해수가 5.5MPa의 작동 압력하에 투과되는 경우에, 그러한 복합 반투막의 염 제거율이 99.5% 이상이거나 염 투과계수가 3 x 10-8 m/s 이하인 방법. (16) 상기 (11) 또는 (12)에 따른 방법으로서, 다작용성 아민이 방향족 다작용성 아민인 방법. (17) 상기 (13)에 따른 방법으로서, 수용성 유기 물질이 포르밀기를 지니는 화합물, 포르밀기를 지니는 화합물의 유도체, 옥실라닐기를 지니는 화합물, 옥실라닐기를 지니는 화합물의 유도체, 산 할라이드, 탄산염 유도체, 카르바메이트 유도체 및 알킬 할라이드로 이루어진 군으로부터 선택된 화합물 또는 유도체를 포함하는 방법. (18) 상기 (17)에 따른 방법으로서, 포르밀기를 지니는 화합물이 공유결합을 통해서 아민에 결합할 수 있는 둘 이상의 작용기를 지니는 알데히드인 방법. (19) 상기 (17)에 따른 방법으로서, 옥실라닐기를 지니는 화합물이 공유결합을 통해서 아민에 결합할 수 있는 둘 이상의 작용기를 지니는 에폭시드인 방법. (20) 상기 (11) 또는 (12)에 따른 방법으로서, 수용성 유기 물질의 분자량이 1,000 이하인 방법. (21) 상기 (1) 또는 (2)에 따른 복합 반투막 또는 상기 (11) 또는 (12)에 따른 방법에 의해서 생성된 복합 반투막을 포함하는 복합 반투막 엘리먼트(element). (22) 상기 (21)에 따른 복합 반투막 엘리먼트를 포함하는 유체 분리 장치. (23) 상기 (1) 또는 (2)에 따른 복합 반투막 또는 상기 (11) 또는 (12)에 따른 방법에 의해서 생성된 복합 반투막을 사용함을 포함하는 붕소 함유 물 처리 방법. 도면의 간단한 설명 도 1은 복합 반투막내의 분리 작용층의 공극율과 붕소 제거율 사이의 관계를 나타내는 그래프이다. 본 발명을 수행하는 최상의 방식 본 발명은 높은 염 제거 성능을 지니며 중성 영역에서 비해리성이어서 통상의 역삼투막으로는 높은 범위로 거의 제거되지 않는 물질도 높은 제거율로 거부할 수 있는 복합 반투막을 제공한다. 따라서, 복합 반투막은, 특히 해수의 탈염에서, 이전에는 높은 범위로 거의 제거되지 않았던 붕소를 높은 제거율로 거부할 수 있기 때문에, 역삼투에 의한 식수를 제조하는데 적합하게 사용될 수 있다. 본 발명의 복합 반투막은 염수 또는 해수로부터 붕소 함량이 적은 신선한 물을 얻기 위한 복합 반투막으로서 적합하게 사용되며, 이러한 복합 반투막은 수용성 유기 물질이 다공성 지지 필름 상에 형성된 다작용성 아민과 다작용성 산 할라이드의 반응 생성물을 포함하는 분리 작용층과 접촉되어서, pH가 6.5이고 붕소 농도가 5ppm이고 TDS 농도가 3.5중량%인 25℃의 해수가 5.5MPa의 작동 압력하에 투과되는 경우에 붕소 제거율이 95% 이상인 복합 반투막이다. 일반적으로, TDS는 "(질량)÷(용적)" 또는 중량비로 나타내는 전체 용존 고형물의 양을 의미한다. 정의에 따르면, 이러한 양은 물이 0.45μm 필터를 통해서 39.5 내지 40.5℃의 온도에서 여과되는 경우의 잔류물 중량을 기준으로 계산될 수 있으며, 더욱 통상적으로는, 실질적인 염 함량(S)로부터 전환된다. 본 발명의 복합막중의 다공성 지지 필름은 실질적으로 이온 등의 분리 성능을 지니지 않으며, 막의 분리 성능을 실질적으로 지니는 분리 작용층을 보강하는데 사용된다. 다공성 지지 필름중의 기공 크기 및 기공 분포는 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어, 지지 필름은 균일한 기공을 지니거나, 기공 크기가 분리 작용층으로 코팅된 필름 면 측으로부터 그의 다른 측까지 점진적으로 증가하는 방식으로 분포된 기공을 지니는 것이 바람직하며, 필름의 분리 작용층-코팅된 면 측상의 기공 크기가 바람직하게는 0.1 내지 100nm이다. 다공성 지지 필름의 물질 및 형태는 또한 특별히 제한되지는 않는다. 예를 들어, 폴리에스테르와 방향족 폴리아미드로부터 선택된 하나 이상의 물질을 주성분으로 포함하는 섬유로 강화된 폴리설폰, 셀룰로오즈 아세테이트, 폴리비닐 클로라이드 또는 이의 혼합물이 바람직하다. 높은 화학, 기계 및 열 안정성을 지니는 폴리설폰이 사용되는 물질에 특별히 바람직하다. 특히, 하기된 화학식의 반복 단위를 지니는 폴리설폰이 더욱 바람직한데, 그 이유는 이의 기공 크기 조절이 용이하고 치수 안정성이 높기 때문이다. 예를 들어, 폴리설폰의 N,N-디메틸포름아미드 (DMF) 용액이 기재 물질, 예컨대, 폴리에스테르의 조밀한 직포 또는 부직포에 캐스팅되어서 그 위에서 소정의 두께를 지닌 층을 형성한 다음, 물 중의 습식-고형화에 의해서 다공성 지지 필름을 형성시킨다. 그와 같이 형성된 지지 필름 표면의 주요 부분은 10nm 이하의 직경을 지니는 기공을 지닌다. 상기된 다공성 지지 필름 및 기재 물질의 두께는 엘리먼트가 생성되는 경우의 복합 반투막의 강도 및 충진 밀도에 영향을 줄 것이다. 충분한 기계적 강도 및 충진 밀도를 얻기 위해서, 두께는 바람직하게는 50 내지 300μm, 더욱 바람직하게는 100 내지 250 μm이다. 또한 다공성 지지체의 두께는 바람직하게는 10 내지 200μm, 더욱 바람직하게는 30 내지 100 μm이다. 다공성 지지 필름 형성은 주사전자현미경(scanning electron microscope), 투과전자현미경(transmission electron microscope), 또는 원자력현미경(atomic force microscope)에 의해서 관찰될 수 있다. 예를 들어, 주사전자현미경으로 관찰을 수행하는 경우에 다공성 지지체는 기재 물질로부터 벗겨내고, 그 후에 동결절편법(freeze-sectioning method)으로 절편화시켜서 단면 관찰을 위한 샘플을 생성시킨다. 이러한 샘플은 백금, 백금-팔라듐 또는 루테늄 테트록시드, 바람직하게는 루테늄 테트록시드로 얇게 코팅되며, 고분해 전계방사형 주사전자현미경(high resolution field emission type scanning electron microscope: UHR-FE-SEM)으로 3 내지 6kV의 가속 전압에서 관찰이 수행된다. 고분해 전계방사형 주사전자현미경의 경우에, 예를 들어, 히다치 리미티드(Hitachi Ltd.)에 의해서 제작된 모델 S-900 형 전자 현미경이 사용될 수 있다. 다공성 지지체의 필름 두께 및 표면 기공의 직경은 수득된 전자 현미경사진으로부터 측정된다. 본 발명에서 언급되는 두께 및 기공 직경은 평균값이다. 분리 작용층은 산 또는 알칼리에 대해서 화학적으로 안정한 가교된 폴리아민이거나 주성분으로서 가교된 폴리아민을 함유하는 것이 바람직하다. 가교된 폴리아민은 다작용성 아민과 다작용성 산 할라이드의 계면 중축합에 의해서 형성되며, 다작용성 아민과 다작용성 산 할라이드중 하나 이상은 삼작용성 이상의 다작용성 화합물을 함유한다. 분리 작용층의 두께는 충분한 분리 성능 및 물 투과량을 얻기 위해서 일반적으로 0.01 내지 1μm, 바람직하게는 0.1 내지 0.5 μm이다. 다작용성 아민은 한 분자내에 둘 이상의 일차 및/또는 이차 아미노기를 지니는 아민을 의미한다. 그러한 예에는 둘 이상의 아미노기가 오르토-, 메타- 또는 파라-위치에서 벤젠 고리에 결합되는 방향족 다작용성 아민, 예컨대, 페닐렌디아민, 크실릴렌디아민, 1,3,5-트리아미노벤젠, 1,2,4-트리아미노벤젠, 및 3,5-디아미노벤조산; 지방족 아민, 예컨대, 에틸렌디아민 및 프로필렌디아민; 지환족 다작용성 아민, 예컨대, 1,2-디아미노시클로헥산, 1,4-디아미노시클로헥산, 피페라진, 1,3-비스피페리딜프로판, 및 4-아미노메틸피페라진; 등이 포함된다. 물론, 한 분자내에 2 내지 4개의 일차 및/또는 이차 아미노기를 지니는 방향족 다작용성 아민이 막의 선택적 분리성, 투과성 및 내열성면에서 바람직하다. 다작용성 방향족 아민으로서, m-페닐렌디아민, p-페닐렌디아민, 및 1,3,5-트리아미노벤젠이 바람직하다. 이들 중에, m-페닐렌디아민(이하 "m-PDA"라 칭함)이 이용성 및 취급성 면에서 더욱 바람직하다. 이들 다작용성 아민은 단독으로 또는 이의 혼합물로서 사용될 수 있다. 다작용성 산 할라이드는 한 분자내에 둘 이상의 할로게노카르보닐기를 지니는 산 할라이드를 의미한다. 이의 예에는 삼작용성 산 할라이드, 예를 들어, 트리메스산 클로라이드(trimesic acid chloride), 1,3,5-시클로헥산트리카르복실산 트리클로라이드, 1,2,4-시클로부탄트리카르복실산 트리클로라이드, 등; 및 이작용성 산 할라이드, 예를 들어, 방향족 이작용성 산 할라이드, 예컨대, 바이페닐디카르복실산 디클로라이드, 아조벤젠디카르복실산 디클로라이드, 테레프탈산 클로라이드, 이소프탈산 클로라이드, 및 나프탈렌디카르복실산 클로라이드; 지방족 이작용성 산 할라이드, 예컨대, 아디포일 클로라이드 및 세박코일 클로라이드; 지환족 이작용성 산 할라이드, 예컨대, 시클로펜탄디카르복실산 디클로라이드, 시클로헥산디카르복실산 디클로라이드, 및 테트라히드로푸란디카르복실산 디클로라이드; 등이 포함된다. 다작용성 아민과의 반응성 면에서, 다작용성 산 할라이드는 바람직하게는 다작용성 산 클로라이드이다. 막의 선택적 분리성 및 내열성 면에서, 한 분자내에 2 내지 4 개의 카르보닐 클로라이드기를 지닌 다작용성 방향족 산 클로라이드가 바람직하다. 물론, 이용성 및 취급성 면에서 트리메스산 클로라이드가 더욱 바람직하다. 이들 다작용성 산 할라이드는 단독으로 또는 이의 혼합물로서 사용될 수 있다. 수용성 유기 물질은 물에 0.01ppm 이상 용해될 수 있는 유기 화합물을 의미한다. 바람직한 유기 화합물은 분리 작용층의 조성 및 형태에 따라서 선택된다. 선택 기준은 실질적으로 분리 성능을 지니는 분리 작용층에 대한 상호작용의 세기이며, 공유결합, 정전기적 상호작용, 수소 결합, 배위 결합 및 비극성 상호작용(판데르발스 결합, CH-π 상호작용, π-π 쌓임 상호작용, 등)을 총체적으로 기준으로 하여 판단된다. 상호작용의 세기는 바람직하게는 10 kJ/mol 이상이다. 추가로, 무기 화합물이 또한 필요에 따라서 혼합될 수 있다. 수용성 유기 물질은 바람직하게는 액체 또는 가스의 형태, 수용성 유기 물질의 용액, 또는 수용성 유기 물질과 화학적 불활성 가스의 혼합물이다. 또한, 수용성 유기 물질의 수용액이 더욱 바람직하며, 취급면에서 용이하다. 이와 같이 얻은 복합 반투막은, pH가 6.5이고 붕소 농도가 5ppm이고 TDS 농도가 3.5중량%인 25℃의 해수가 5.5MPa의 작동 압력하에 투과되는 경우에, 붕소 제거율이 95% 이상이다. 물 투과 유속은 바람직하게는 상기된 측정 조건 하에서 0.2 내지 2.0 m3/m2/일, 더욱 바람직하게는 0.4 내지 1.5m3/m2/일이다. 추가로, 상기된 성능을 지니는 복합 반투막을 얻기 위해서 수용성 유기 물질을 접촉시키면, 처리되는 복합 반투막은, pH가 6.5이고 붕소 농도가 5ppm이고 TDS 농도가 3.5중량%인 25℃의 해수가 5.5MPa의 작동 압력하에 투과되는 경우에, 바람직하게는 염 제거율이 99.5% 이상이거나 염 투과 계수가 3 x10-8m/s 이하이다. 이러한 범위를 만족시키지 않는 처리되는 복합 반투막을 처리하는 경우에, 종종 처리 효율이 현저하게 저하되는 장시간 동안 고농도의 수용성 유기 물질과 접촉시키는 것이 필요하다. 더욱 바람직하게는, 염 제거율은 99.7% 이상이거나, 염 투과계수가 3 x 10-8m/s 이하이다. 염 투과계수에서 언급되고 있는 "염"은 실질적인 염 함량(S)에서의 "염"과 동일한 의미를 지닌다. 가교된 방향족 폴리아미드를 성분으로 함유하는 폴리머를 포함하는 분리 작용층의 경우에, 분리 작용층을 구성하는 아미노기와 접촉하여 공유 결합을 형성하는 유기 물질, 또는 계면활성제가 수용성 유기 물질로 적합하게 사용될 수 있다. 분리 작용층중의 아미노기는 폴리아미드 분자 쇄의 단부에 존재하거나 분리 작용층의 공간에 흡수되어 보유된 저분자량 화합물(단량체 및/또는 올리고머)에 존재하며, 아미노기와 접촉하여 공유결합을 형성하는 수용성 유기 물질은 아미노기와 함께 공유 결합을 형성하거나 염기 촉매로서 아미노기와의 자가-반응에 의해서 공유 결합을 형성하는 하나 이상의 원소를 지니는 화합물을 의미함이 고려되고 있다. 특히, 이러한 유기 화합물은, 예를 들어, 할로겐화된 카브로닐기, 포르밀기, 할로겐화된 알킬기, 히드록실기, 옥실라닐기, 및 이소시아네이트기, 산 무수물, 에스테르, 탄소 이중 결합을 지니는 화합물, 설폰산 할라이트 등 중의 하나 이상의 작용기를 지니는 화합물을 포함한다. 이들 중에, 특히, 붕소 제거율을 개선시키는 높은 효과를 지니는 화합물은 포르밀기 또는 옥실라닐기 및/또는 이의 유도체를 지니는 화합물이기 때문에, 그러한 화합물 또는 이의 유도체를 함유하는 유기 물질이 수용성 유기 물질로서 바람직하게 사용된다. 유도체는 공지된 합성 반응을 이용함으로써 상기된 바와 같은 작용기에 의해서 토토머 전환을 할 수 있는 작용기를 지니는 유기 물질인 신톤(synthon)을 의미한다. 포르밀기를 지니는 화합물은 지방족, 방향족 또는 헤테로시클릭 화합물중 어느 하나일 수 있다. 예를 들어, 이들은 포름알데히드, 파라포름알데히드, 아세트알데히드, 프로피온알데히드, 부틸알데히드, 이소부틸알데히드, 팔미토알데히드, 스테아릴알데히드, 올레알데히드, 글리시딜알데히드, 3-히드록시프로판알, 리보오스, 글리옥실릭알데히드, 2,4-헥사디엔알, 벤즈알데히드, 살리실알데히드, 2-나프트알데히드, 히드록시벤즈알데히드, 디히드록시벤즈알데히드, 디메틸아미노벤즈알데히드, 포르밀벤즈알데히드, 니코틴알데히드, 이소니코닌알데히드, 2-푸르알데히드, 글리콜알데히드, 락트알데히드, 글리셀알데히드, 타르타르알데히드, 시트르알데히드, 피루브알데히드, 아세토아세트알데히드, 벤질알데히드, 안트라닐알데히드, 프로피올알데히드, 아크롤레인, 메트라크롤레인, 크로톤알데히드, 신남알데히드, 글리옥살, 말론알데히드, 2-클로로말론알데히드, 석신알데히드, 글루타르알데히드, 아디프알데히드, 말레알데히드, 푸마르알데히드, 프탈알데히드, 이소프탈알데히드, 테레프탈알데히드 및 에틸렌디아민테트라아세트알데히드를 포함한다. 이의 유도체는 예를 들어, 수화 생성물, 아세탈, 및 아황산수소 부가물을 포함한다. 추가로, 아미드와 공유 결합할 수 있는 둘 이상의 작용기를 지니는 알데히드가 다양한 상호작용을 예상할 수 있는 화합물로서 바람직하다. 특히, 이들은 글리시딜알데히드, 아크롤레인, 메타크롤레인, 글리옥살, 말론알데히드, 2-클로로말론알데히드, 석신알데히드, 글루타르알데히드, 아디프알데히드, 프탈알데히드, 이소프탈알데히드, 및 테레프탈알데히드를 포함한다. 옥실라닐기를 지니는 화합물은, 예를 들어, 에피클로로히드린, 글리시딜알데히드, 알릴 글리시딜 에테르, 2-에틸헥실 글리시딜 에테르, 페닐 글리시딜 에테르, 페놀 펜타에틸렌 글리콜 글리시딜 에테르, p-3차-부틸페닐 글리시딜 에테르, 디브로모페닐 글리시딜 에테르, 라우릴 알코올 펜타데카에틸렌 글리콜 글리시딜 에테르, 레조르시놀 디글리시딜 에테르, 네오펜틸 글리콜 디글리시딜 에테르, 1,6-헥산디올 디글리시딜 에테르, 글리세롤 폴리글리시딜 에테르, 펜타에리트리톨 폴리글리시딜 에테르, 디글리세롤 폴리글리시딜 에테르, 폴리글리세롤 폴리글리시딜 에테르, 소르비톨 폴리글리시딜 에테르, 디글리시딜테레프탈레이트, 디글리시딜-o-프탈레이트, N-글리시딜프탈이미드, 에틸렌 글리콜 디글리시딜 에테르, 디에틸렌 글리콜 디글리시딜 에테르, 폴리에틸렌 글리콜 디글리시딜 에테르, 프로필렌 글리콜 디글리시딜 에테르, 트리프로필렌 글리콜 디글리시딜 에테르, 폴리프로필렌 글리콜 디글리시딜 에테르, 글리세린 디글리시딜 에테르, 및 트리메티롤 프로판 트리글리시딜 에테르를 포함한다. 이의 유도체는 할로겐화수소에 의한 고리-폐쇄 생성물을 포함한다. 또한, 아민과 공유 결합할 수 있는 둘 이상의 작용기를 지니는 에폭시드가 다양한 상호작용을 예상할 수 있는 화합물로서 바람직하다. 특히, 이들은 에피클로로히드린, 글리시딜 알데히드, 알릴 글리시딜 에테르, 레조르시놀 디글리시딜 에테르, 네오펜틸 글리콜 디글리시딜 에테르, 1,6-헥산디올 디글리시딜 에테르, 글리세롤 폴리글리시딜 에테르, 펜타에리트리톨 폴리글리시딜 에테르, 디글리세롤 폴리글리시딜 에테르, 폴리글리세롤 폴리글리시딜 에테르, 소르비톨 폴리글리시딜 에테르, 디글리시딜테레프탈레이트, 디글리시딜-o-프탈레이트, 에틸렌 글리콜 디글리시딜 에테르, 디에틸렌 글리콜 디글리시딜 에테르, 폴리에틸렌 글리콜 디글리시딜 에테르, 프로필렌 글리콜 디글리시딜 에테르, 트리프로필렌 글리콜 디글리시딜 에테르, 폴리프로필렌 글리콜 디글리시딜 에테르, 글리세린 디글리시딜 에테르, 및 트리메틸올 프로판 트리글리시딜 에테르을 포함한다. 할로겐화된 카르보닐기를 지니는 화합물은 방향족 산 할라이드, 예컨대, 트리메스산 클로라이드, 테레프탈산 클로라이드, 이소프탈산 클로라이드, 바이페닐디카르복실산 디클로라이드, 나프탈렌디카르복실산 디클로라이드, 벤조일 클로라이드, 2-시아노벤조일 클로라이드, 3-시아노벤조일 클로라이드, 4-시아노벤조일 클로라이드, 2-니트로벤조일 클로라이드, 3-니트로벤조일 클로라이드, 4-니트로벤조일 클로라이드, 2-디메틸아미노벤조일 클로라이드, 3-디메틸아미노벤조일 클로라이드, 4-디메틸아미노벤조일 클로라이드, 2-푸로일 클로라이드, 1-나프토일 클로라이드, 2-나프토일 클로라이드, 2-니코티노일 클로라이드, 이소니코티노일 클로라이드, 피콜리노일 클로라이드, 2-피라진 카르보닐 클로라이드, 이속사졸-5-카르보닐 클로라이드, 및 2-퀴녹살린카르보닐 클로라이드, 및 지방족 산 할라이드, 예컨대, 옥살릴 클로라이드, 푸마릴 클로라이드, 말로닐 클로라이드, 디메틸말로닐 클로라이드, 석시닐 클로라이드, 글리타릴 클로라이드, 2,2''-옥시디아세틸 클로라이드, 아디포일 클로라이드, 세바코일 클로라이드, 시클로펜탄디카르복실산 디클로라이드, 시클로헥산디카르복실산 디클로라이드, 테트라히드로푸란디카르복실산 디클로라이드, 아세틸 클로라이드, 프로피오닐 클로라이드, 부티릴 클로라이드, 발레릴 클로라이드, 이소발레릴 클로라이드, 메타크로일 클로라이드, 피바로일 클로라이드, 신나모일 클로라이드, 크로토닐 클로라이드, 에틸말로닐 클로라이드, 페닐아세틸 클로라이드, 시클로프로판카르보닐 클로라이드, 시클로부탄카르보닐 클로라이드, 시클로펜탄카르보닐 클로라이드, 시클로헥산카르보닐 클로라이드, 메톡시아세틸 클로라이드, 에톡시아세틸 클로라이드, 페닐옥시아세틸 클로라이드, 2- 메틸페닐옥시아세틸 클로라이드, 2-에틸페닐옥시아세틸 클로라이드, (4-클로로페닐)옥시아세틸 클로라이드, (페닐티오)아세틸 클로라이드, 벤질옥시아세틸 클로라이드, 2-플루오로프로피오닐 클로라이드, 2-클로로프로피오닐 클로라이드, 2-브로모프로피오닐 클로라이드, 헵타플루오로부틸 클로라이드, 아세톡시아세틸 클로라이드, 트리플루오로아세틸 클로라이드, 트리클로로아세틸 클로라이드, (-)-멘틸옥시아세틸 클로라이드, 및 이소옥사졸-5-카르보닐 클로라이드를 포함한다. 할로겐화된 알킬기를 지니는 화합물은 클로로에탄, 1-클로로프로판, 2-클로로프로판, 1-클로로부탄, 2-클로로부탄, 1-클로로-2-메틸프로판, 1-클로로-1,1-디메틸에탄, 벤질 클로라이드, 알릴 클로라이드, 프로파길 클로라이드, 1,2-디클로로에탄, 1,3-디클로로프로판, 1,4-디클로로부탄, 1,5-디클로로펜탄, 2-클로로에탄올, 3-클로로프로판올, 2-클로로에틸 메틸 에테르, 3-클로로프로필 메틸 에테르, 비스(2-클로로에틸) 에테르, 클로로아세톤, 2-클로로아세토페논, 메틸 클로로아세테이트, N,N-디메틸클로로 아세토아미드 등을 포함한다. 할로겐 원자는 염소로 제한되지 않으며, 브롬 또는 요오드일 수도 있다. 에스테르는 카르보네이트 에스테르 화합물, 예컨대, 디메틸 카르보네이트, 디에틸 카르보네이트, 디알릴 카르보네이트, 비스(2-클로로에틸) 카르보네이트, 디페닐 카르보네이트, 비스(4-니트로페닐) 카르보네이트, 알릴에틸 카르보네이트, 에틸렌 카르보네이트, 비닐렌 카르보네이트, 4-메틸-1,3-디옥솔란-2-온, 디메틸 디카르보네이트, 디에틸 디카르보네이트, 디-3차-부틸 디카르보네이트, 및 디벤질 디카르보네이트, 및 카르바메이트 에스테르 화합물, 예컨대, 에틸 N-에틸 카르바메이트, 메틸 N-페닐 카르바메이트, 에틸 N-(2-클로로에틸) 카르바메이트, 에틸 1-피페리딘카르바메이트, 에틸 1-피페라진카르바메이트, 메틸 1-모르폴린카르바메이트, N-메틸우레탄, N-페닐우레탄, 2-옥사졸리디논, 및 3-메틸-2-옥사졸리딘을 포함한다. 계면활성제가 분리 작용층과 접촉되는 경우, 공유 결합이 아닌 상호작용이 둘 사이에서 발생됨이 고려된다. 이러한 경우에, 정전기적 상호작용에 기인한 효과를 제공하는 관점으로, 분리 작용층의 표면 전하를 나타내는 ζ 포텐셜이 음성인 경우에는 양이온성 계면활성제를 사용하고 ζ 포텐셜이 양성인 경우에는 음이온성 계면활성제를 사용하는 것이 바람직하다. 양이온 계면활성제로서, 사차 암모늄 염이 적합하게 사용될 수 있으며, 그러한 예는 알킬트리메틸암모늄 클로라이드, 디스테아릴디메틸벤질암모늄 클로라이드, 스테아릴디메틸벤질암모늄 클로라이드, 스테아릴트리메틸벤질암모늄 클로라이드, 세틸트리메틸암모늄 클로라이드, 세틸피리듐 클로라이드, 벤즈알코늄 클로라이드, 트리-n-옥틸암모늄 클로라이드, 벤즈에토늄 클로라이드, 및 라우릴트리메틸암모늄 클로라이드를 포함한다. 음이온성 계면활성제로서, 알킬 설포네이트 염 및 설페이트 에스테르가 바람직하게 사용될 수 있다. 또한, 수용성 유기 물질의 분자량은 바람직하게는 1,000 이하이다. 분자량이 1,000을 초과하면, 물질이 분리 작용층의 내부로 덜 확산되고 종종 상호작용에 장시간이 요구되어 충분한 효과를 얻는데 실패한다. 분자량은 더욱 바람직하게는 800 이하이고, 가장 바람직하게는 500이하이다. 용질 투과계수는 이하 기재된 방법에 따라서 얻을 수 있다. 하기 식은 비평형 열역학을 근거로 하는 역삼투 수송 방정식으로 공지되어 있다 Jv = Lp(ΔP - σ · Δπ) (1) Js = P(Cm - Cp) + (1 - σ)C · Jv (2) 여기서, Jv는 막을 통한 투과유량(m3/m2/s)이고; Lp는 막의 순수한 물 투과계수(m3/m2/s/Pa)이고; ΔP는 막의 양측에서의 압력차(Pa)이고; σ는 막의 용질 반사계수이고; Δπ는 막의 양측에서의 삼투압차(Pa)이고; Js는 용질 막투과유속(mol/m2/s); P는 용질의 투과계수(m/s)이고; Cm은 막 표면상의 용질 농도(mol/m3)이고; Cp는 막을 통한 투과 농도(mol/m3)이고; C는 막의 양측에서의 농도(mol/m3)이다. 막의 양측에서의 평균 농도 C는 막의 양측에서의 농도차가 극히 큰 경우, 예를 들어, 역삼투막의 경우에는 어떠한 실질적인 의미를 지니지 않는다. 따라서, 막 두께에 대해서 식(2)을 통합함으로써 유도되는 하기 식이 이용된다: R= σ(1 - F)/(1 - σF) (3) 여기서, F = exp-(1 - σ)Jv/P (4) 이고, R은 진정한 거부이고 하기와 같이 정의된다: R = 1- Cp/Cm (5) ΔP가 변하면, Lp가 식(1)에서와 같이 계산된다. Jv가 변하면서 R이 측정되는 경우, 및 식(3) 및 (4)이 R 및 1/Jv의 플롯팅에 대해서 곡선인 경우, P 및 σ가 동시에 얻어질 수 있다. 상기된 구성에 의해서, 본 발명의 복합 반투막은, pH가 6.5이고 붕소 농도가 5ppm이고 TDS 농도가 3.5중량%인 25℃의 해수가 5.5MPa의 작동 압력하에 투과되는 경우에, 붕소 제거율이 95% 이상이다. 이러한 복합 반투막은 현재까지 공지되지 않았으며 해수의 탈염시에 붕소를 제거하는데 유용한 높은 붕소 제거 성능을 제공한다. 또한 붕소 농도는 ICP 방출 분광분석 장치를 사용함으로써 측정될 수 있다. 또한, 본 발명의 복합 반투막에서, 복합 반투막의 분리 작용층이 양전자 소멸 수명 스펙트로스코프(Positron Annihilation Lifetime Spectroscopy)로 측정되는 경우 평균 기공 반경이 0.25nm 내지 0.35nm이며, 공극율이 0.2nm3% 내지 0.3nm3%인 것이 바람직하다. 양전자 소멸 수명 스펙트로스코프는 샘플 중의 양전자의 입사로부터 이의 소멸까지의 기간(수백 피코초 내지 수십 나노초 정도)을 측정하고 0.1 내지 10nm 범위의 기공 크기, 이의 수 밀도(number density) 및 이의 크기 분포와 같은 정보를 소멸 수명을 근거로 하는 비파괴적으로 평가하는 기술이다. 이러한 장치에 대한 상세한 설명은, 예를 들어, 문헌[Jikken Kagaku Koza (Experimental Chemistry Course), 4th edition, Vol. 14, p. 485, edited by The Chemical Society of Japan; Maruzen (1992)]에 기재되어 있다. 이러한 방법은 양전자 빔 공급원의 종류에 따라 두 형태로 분류된다. 하나는 방사성 동위원소 (22Na)를 사용하는 22Na 방법이고 그러한 방법은 수지, 분말, 섬유, 및 유체 등의 기공을 평가하는데 적합하다. 다른 한 방법은 양전자 빔 공급원으로서 전자 빔-형 가속기로부터 방출되는 양전자 빔을 이용하는 양전자 빔 방법이고, 이러한 방법은 다양한 지지체에 형성된 약 수백 nm의 두께를 지닌 얇은 필름에 대한 기공을 평가하는데 유용하다. 특히, 후자의 양전자 빔 방법은 복합 반투막의 분리 작용층을 측정하는 방법으로 더욱 바람직한데, 그 이유는 복합 반투막이 측정되는 샘플인 경우에도 분리 작용층이 건조한 상태의 샘플을 유지시킴으로써 측정되어 복합 반투막으로부터의 분리 작용층의 분리와 같은 어떠한 특정의 과정을 요하지 않을 수 있기 때문이다. 양전자 빔 방법에서, 샘플 표면으로부터 깊이 방향으로의 측정 영역은 샘플상에 충돌하는 양전자 빔의 에너지 양에 의해서 조정된다. 에너지를 증가시키면, 샘플 표면으로부터의 더 깊은 부분이 측정 영역으로 포함되지만, 그 깊이는 샘플의 밀도에 좌우된다. 복합 반투막의 분리 작용층의 측정에서, 약 1keV의 에너지를 지닌 양전자 빔이 충격되는 경우에 샘플 표면으로부터 50 내지 150 nm 깊이의 영역이 일반적으로 측정된다. 또한, 약 150 내지 300nm의 두께를 지니는 분리 작용층의 경우에, 분리 작용층의 중심 부분이 선택적으로 측정될 수 있다. 양전자와 전자는 쿨롱힘에 의해서 서로 합해져서 중성 수소-유사 원자인 포지트로늄 Ps를 형성한다. Ps는 역-평행 또는 평행인 양전자 및 전자의 스핀에 따라서 파라-포지트로늄 p-Ps 및 오르토-포지트로늄 o-Ps을 함유한다. 이러한 두 종은 스핀 통계에 의하면 1:3의 비로 형성된다. 각각의 종의 평균 수명은 p-Ps의 경우 125ps이고 o-Ps의 경우 140ns이다. 합체된 상태에서의 물질에서, 본래 합체된 o-Ps에 비해서 다른 전자와 중첩되는 o-Ps의 확율이 증가하여 o-Ps의 평균 수명을 수 ns로 감소시킨다. 그러한 중첩 현상은 픽오프 소멸(pickoff annihilation)이라 한다. 절연 물질중의 o-Ps의 소멸은 o-Ps가 물질의 기공 벽에 존재하는 전자와 중첩됨에 기인하기 때문에, 더 작은 기공 크기는 소멸 속도를 더 증가시킨다. 즉, o-Ps의 소멸 수명 τ은 절연 물질중에 존재하는 기공의 크기와 관련될 수 있다. o-Ps의 상기된 픽오프 소멸에 기인한 소멸 수명 τ은 양전자 소멸 수명 스펙트로스코프에 의해서 측정된 양전자 소멸 수명 곡선을 비선형 최소 자승 프로그램, 포지트론피트(POSITRONFIT)에 따라서 4개의 성분으로 나눔으로써 얻은 4 개의 성분의 분석 결과로부터 유도될 수 있다(이에 대한 상세한 설명은, 예를 들어, 문헌[P Kierkegaard, et al, Computer Physics Communications, Vol. 3, p. 240, North Holland Publishing Co. (1972)]에 기재되어 있다). 본 발명의 복합 반투막의 분리 작용층에서의 평균 기공 반경 R은 상기 양전자 소멸 수명 τ에 근거한 하기 식(6)에 의해서 얻는다. 식(6)은 o-Ps가 ΔR의 두께를 지닌 전자층내의 반경 R을 지닌 기공에 존재하는 것을 가정한 경우에 대한 관계이며, ΔR은 실험적으로 0.166nm인 것으로 측정된다(이에 대한 상세한 설명은 문헌[Nakanishi et al; Journal of Polymer Science, Part B: Polymer Physics, Vol. 27, p. 1419, John Wiley 0026# Sons, Inc. (1989)]에 기재되어 있다. 본 발명의 복합 반투막의 분리 작용층 중의 공극율은 하기 방법에 의해서 얻을 수 있다. 상기된 방법에 의해서 얻은 복합 반투막의 분리 작용층의 평균 기공 반경이 R(nm)임을 가정하면, 구의 대략적인 평균 기공 용적 V(nm3)은 V=(4πR3)/3으로 나타낼 수 있다. 이러한 용적으로부터, 복합 반투막의 분리 작용층의 공극율(nm3%)이 V x I로 표현될 수 있다. 여기서, I는 양전자의 전체 충격 수에 대한 o-Ps의 비율(%)이다. 공극율 V x I의 일부 사용 예가, 예를 들어, 상기 나카니시(Nakanishi)의 문헌 등에 기재되어 있다. 충분한 투과된 물의 양뿐만 아니라 충분한 용질 제거 용량을 나타내는 복합 반투막의 경우에, 평균 기공 반경은 바람직하게는 0.25nm 내지 0.35nm이다. 또한, 동시에 0.2nm3% 내지 0.3nm3%의 공극율이 바람직한데, 그 이유는 그러한 복합 반투막이 붕산과 같이 중성 영역에서 비해리성인 용질에 대해서 높은 제거율을 나타내며 충분한 투과된 물의 양을 유지하기 때문이다. 본 발명의 복합 반투막을 생성시키는 방법이 이하 기재된다. 복합 반투막을 구성하는 분리 작용층의 기초가, 예를 들어, 상기된 다작용성 아민을 포함하는 수용액과 다작용성 산 할라이드를 포함하는 수-불혼화성 유기 용매의 용액의 계면 중축합에 의해서 다공성 지지 필름의 표면상에 형성될 수 있다. 다작용성 아민을 포함하는 수용액중의 다작용성 아민의 농도는 바람직하게는 2.5 내지 10중량%, 더욱 바람직하게는 3 내지 5중량%이다. 농도가 이러한 범위내에 있는 경우, 충분한 염 제거 성능 및 물 투과성이 얻어질 수 있다. 다작용성 아민을 포함하는 수용액은 다작용성 아민과 다작용성 산 할라이드의 반응에 영향을 주지 않는 어떠한 그 밖의 계면활성제, 유기 용매, 알칼리성 화합물 및 항산화제를 함유할 수 있다. 계면활성제는 다공성 지지 필름 표면의 습윤성을 개선시키고, 아민 수용액과 비극성 용매 사이의 표면 장력을 감소시키는데 효과적이다. 유기 용매는 계면 중축합을 위한 촉매로서 작용하며, 이를 반응 시스템에 첨가하면 계면 중축합을 촉진시킬 수 있다. 다공성 지지 필름상에서의 계면 중축합을 수행하기 위해서, 다작용성 아민의 상기된 수용액이 먼저 필름과 접촉된다. 바람직하게는 용액은 필름의 표면과 균일하게 연속적으로 접촉된다. 특히, 예를 들어, 다공성 지지 필름은 다작용성 아민을 포함하는 수용액으로 코팅되거나 그에 침지될 수 있다. 다작용성 아민을 포함하는 수용액과 다공성 지지 필름 사이의 접촉시간은 바람직하게는 1초 내지 10분, 더욱 바람직하게는 10초 내지 3 분이다. 다작용성 아민을 포함하는 수용액이 다공성 지지 필름과 접촉된 후에, 필름은 탈수되어 액체 방울이 필름 상에 유지되지 않게 한다. 탈수는 필름 상에 유지된 일부의 액체 방울이 표면 결함이 되게 하는 필름 성능의 저하를 억제할 수 있다. 탈수는, 예를 들어, JP-A-2-78428호에 기재된 바와 같이 수행될 수 있다. 특히, 다공성 지지 필름은 다작용성 아민을 포함하는 수용액과 접촉된 후에 수직으로 유지되어 과량의 수용액이 자발적으로 아래로 흐르게 하거나, 공기 노즐을 통해서 필름에 블로잉되는 질소 기체 등에 노출시켜서 강제로 탈수되게 한다. 탈수시킨 후에, 필름 표면은 건조되어 수용액 중의 물 부분을 제거할 수 있다. 이어서, 지지 필름은, 다작용성 아민을 포함하는 수용액과 접촉된 후에, 다작용성 산 할라이드를 포함하는 유기 용매 용액과 접촉되어서 계면 중축합에 의해서 폴리아미드를 포함하는 가교된 분리 작용층의 골격을 형성한다. 유기 용매 용액중의 다작용성 산 할라이드의 농도는 바람직하게는 0.01 내지 10중량%, 더욱 바람직하게는 0.02 내지 2.0중량%이다. 농도가 이러한 범위내에 있는 경우에, 충분한 반응 속도가 얻어지며, 부반응이 억제된다. 또한, 아실화 촉매, 예컨대, N,N-디메틸포름아미드가 바람직하게는 유기 용매 용액에 첨가되어 계면 중축합을 촉진시킨다. 바람직하게는, 유기 용매는 물과 불혼화성이며, 산 할라이드를 용해시키고 다공성 지지 필름을 파괴하지 않는다. 이를 위해서, 아미노 화합물 및 산 할라이드에 대한 어떠한 불활성 용매가 사용될 수 있다. 바람직한 예는 탄화수소 화합물, 예컨대, n-헥산, n-옥탄, 및 n-데칸을 포함한다. 다작용성 산 할라이드를 포함하는 유기 용매 용액을 아민 화합물 수용액의 상과 접촉시키는 방법은 다공성 지지 필름을 다작용성 아민을 포함하는 수용액으로 코팅하는 방법과 유사한 방법으로 수행될 수 있다. 산 할라이드를 포함하는 유기 용매 용액이 계면 중축합을 위해서 아미노 화합물 수용액의 상과 접촉되어 상기된 바와 같은 방법으로 다공성 지지 필름상에 가교된 폴리아미드를 포함한 분리 작용층을 형성시킨 후에, 과량의 용매는 필름으로부터 제거되는 것이 바람직하다. 이를 제거하기 위해서, 예를 들어, 필름은 수직으로 고정되어 과량의 유기 용매가 자발적으로 아래로 흐르게 한다. 상기 방법에 의해서 얻은 복합 반투막은 50 내지 150℃, 바람직하게는 70 내지 130℃에서 1초 내지 10분, 바람직하게는 1 내지 8분 동안 고온수 처리 단계 등을 부가함으로써 복합 반투막의 제거 성능 및 물 투과성이 개선될 수 있다. 반면, 지방족 아실기가 분리 작용층에 추가로 결합되는 복합 반투막이 적합한 성능을 지닌다. 그러한 복합 반투막은, 예를 들어, 상기 다작용성 산 할라이드의 수용액과 접촉시킨 후에 지지 필름을 상기 다작용성 산 할라이드 및 이와는 다른 지방족 산 할라이드를 포함하는 유기 용매 용액과 접촉시키거나, 상기 다작용성 산 할라이드의 수용액과 접촉시킨 후에 지지 필름을 상기 다작용성 산 할라이드와 접촉시켜서 계면 중축합에 의해서 다공성 지지 필름상에 가교된 폴리아미드를 포함하는 분리 작용층을 형성시키고, 이어서 추가로 상기 다작용성 산 할라이드와는 상이한 지방족 산 할라이드를 포함하는 유기 용매 용액을 접촉시킴으로써 제조된다. 이러한 경우에, 유기 용매 용액중의 다작용성 산 할라이드의 농도는 바람직하게는 0.01 내지 10중량%, 더욱 바람직하게는 0.02 내지 2중량%이다. 상기 농도가 0.01 중량% 이상인 경우에, 충분한 반응속도가 얻어질 수 있다. 상기 농도가 10중량%이하인 경우에 부반응이 억제될 수 있다. 또한, 분리 작용층이 다작용성 산 할라이드를 단일의 유기 용매 용액중의 지방족 산 할라이드와 혼합함으로써 형성되는 경우, 지방족 산 할라이드의 농도는 다작용성 산 할라이드 당 5mol% 내지 50mol%, 더욱 바람직하게는 10mol% 내지 30 mol%이다. 상기 농도가 5mol% 이상인 경우, 제거 성능이 충분하게 얻어질 수 있다. 상기 농도가 50mol% 이하인 경우에, 염 제거 성능 및 투과 유속의 감소가 억제될 수 있다. 본 발명에서는, 다작용성 아민의 수용액과 다작용성 산 할라이드를 함유하는 유기 용매 용액의 계면 중축합에 의해서 형성된 가교된 폴리아미드 분리 작용층이 수용성 유기 물질과 접촉되어 복합 반투막을 형성시킨다. 수용성 유기 물질을 가교된 폴리아미드 분리 작용층과 접촉시키는 방법은 특별히 제한이 없다. 그러한 방법은, 예를 들어, 전체 반투막을 수용성 유기 물질내로 침지시키는 방법 또는 수용성 유기 물질이 액체인 경우에 분리 작용층의 표면상에 수용성 유기 물질을 코팅하는 방법, 또는 수용성 유기 물질이 가스인 경우에 수용성 유기 물질의 대기중에 반투막을 통과시키는 방법을 포함한다. 또한, 처리되는 복합 반투막을 공격하지 않고 용액을 처리되는 복합 반투막에 코팅하는 용매중에 수용성 유기 물질을 용해시키는 방법, 또는 처리되는 복합 반투막을 용액에 침지시키는 방법이 이용될 수 있다. 처리되는 복합 반투막을 공격하지 않는 용매는 처리되는 복합 반투막의 반투막 층의 골격 또는 다공성 지지막 층을 현저하게 용해시키거나 팽창시키지 않으며 필름 성능을 크게 손상시키지 않는 용매이다. 바람직한 예는 물, 알코올, 및 탄화수소 등을 포함한다. 이들 중에서, 수용성 유기 물질의 용해도, 용이한 취급 및 경제성을 고려하면 물의 사용이 바람직하다. 이러한 경우에, 수용성 유기 물질의 농도는 용매를 기준으로 바람직하게는 10ppm 내지 50중량%, 더욱 바람직하게는 0.01 내지 20중량%이다. 그 이유는 0.01중량% 이상의 농도에서 접촉이 충분하고 본 발명의 효과로서 붕소 제거 성능이 달성될 수 있으며 20중량% 이하에서 용매에 대한 충분한 용해도가 나타나고 비용이 감소되기 때문이다. 접촉에 의한 충분한 효과를 얻기 위해서, 접촉은 바람직하게는 0℃ 내지 100℃ 온도의 대기중에서 수행된다. 온도는 바람직하게는 70℃ 이하이다. 반응이 100℃ 이상의 온도에서 수행되는 경우, 필름은 열 수축되어 물의 투과량을 저하시키는 경향이 있다. 반응 시간은 바람직하게는 10초 내지 500 시간이다. 반응시간이 10초 미만인 경우, 반응은 충분하게 진행되지 않으며, 500 시간을 초과하면, 반응효율이 현저하게 떨어진다. 그와 같이 얻은 복합 반투막은 그대로 사용될 수 있지만, 잔류물이 바람직하게는, 예를 들어, 사용 전에 세척수에 의해서 제거된다. 막을 0 내지 100℃ 온도의 물로 세척하여 잔류 수용성 유기 물질 등을 제거하는 것이 바람직하다. 또한, 세척은 상기 온도 범위내의 물내로 지지막을 침지시키거나, 그러한 온도범위의 물을 블로잉함으로써 수행될 수 있다. 사용되는 물의 온도가 0℃ 미만인 경우, 아민 화합물 또는 수용성 유기 물질이 복합 반투막에 유지되어 물의 투과를 저하시키는 경향이 있다. 또한, 세척이 오토클레이브(autoclave) 또는 스팀을 사용하여 100℃를 초과하는 온도에서 수행되는 경우, 막이 열 수축되어 물의 투과량을 저하시키는 경향이 있다. 또한, 후속하여 막을 표준 압력하에서 pH 6 내지 13의 염소-함유 수용액과 접촉시켜서 필름의 물 투과성 및 거부율을 향상시키는 것이 또한 바람직하다. 본 발명에 의해서 형성된 복합 반투막은 나선형의 복합 반투막 엘리먼트용으로 적합하며, 여기서 본 발명의 막은 다수의 구멍이 형성된 물 수집 튜브 둘레에 감기는데, 미정제 물 통과 물질, 예컨대, 플라스틱 네트 및 투과수 통과 물질, 예컨대, 트리코트(tricot) 및 임의로 엘리먼트의 내압성을 증가시키기 위한 필름과 함께 감긴다. 그러한 엘리먼트는 직렬로 또는 병렬로 연결되고 압력 용기 내에 수납되어 복합 반투막 모듈을 구성할 수 있다. 본 발명에서, 삼투막 엘리먼트(예를 들어, 물 수집 튜브에 연결되고 나선상으로 감긴 엔벨로프-유사 막)를 표준 온도의 수용성 유기 물질을 함유하는 수용액내로 침지시키는 방법이 이용될 수 있다. 침지시간은 온도에 따라서 상이하지만, 바람직하게는 1초 내지 500 시간, 더욱 바람직하게는 10초 내지 24시간이다. 침지시간이 1초 미만인 경우, 붕소 제거율을 개선시키는 상기 효과가 만족할 만하게 달성될 수 없으며, 500 시간을 초과하는 경우, 붕소 제거율의 개선이 포화되어 불필요하게 장시간을 소모하고 있는 것이다. 또한, 본 발명에서, 수용성 유기 물질을 함유하는 수용액에 의한 처리는 역삼투막 모듈을 조립하고 이어서 압력하에 수용성 유기 물질을 함유하는 수용액을 통과시킴으로써 수행될 수 있다. 복합 반투막 및 이의 엘리먼트와 모듈은 그에 미정제 물을 공급하는 펌프와 조합되고 미정제 물 예비처리를 위한 장치와 조합되어 유체 분리 장치를 구성한다. 이러한 분리장치를 사용함으로써, 미정제 물은 투과수, 예컨대, 식수와 막을 통과하지 못한 진한 물로 분리될 수 있으며, 목적하는 물을 얻을 수 있다. 유체 분리 장치의 작동 압력이 높은 경우, 붕소 제거율은 높아지지만, 작동을 위해 요구되는 에너지가 또한 높아진다. 따라서, 복합 반투막의 내구성을 고려하면, 미정제 물이 막을 통과하는 작동압력은 바람직하게는 1.0 내지 10MPa이다. 처리되는 미정제 물의 온도가 높은 경우, 붕소 제거율이 증가하지만; 온도가 낮은 경우, 막투과 유속이 감소한다. 따라서, 온도는 바람직하게는 5 ℃ 내지 45℃ 이다. 미정제 물의 pH가 높으면, 미정제 물중의 붕소가 보라이드 이온으로 해리되어 붕소 제거율이 증가한다. 그러나, 해수와 같은 높은 기수(汽水)는 마그네슘 스케일을 형성시킬 수 있으며, 높은 pH 물은 막을 손상시킬 수 있다. 따라서, 장치는 중성 영역에서 작동되는 것이 바람직하다. 본 발명은 실시예 및 비교예를 근거로 하여 이하 보다 상세히 설명된다. 달리 명시하지 않는 한, "%"는 "중량%"이다. 실시예 및 비교예에서의 측정은 다음과 같이 수행되었다. 염 제거율: 온도가 25℃로 조절되고 pH가 6.5로 조절된(그리고, TDS 농도가 약 3.5%로 조절되고 붕소 농도가 약 5.0ppm으로 조절된) 해수를 5.5MPa의 작동 압력하에 복합 반투막에 가하고, 투과물의 염 농도를 측정한다. 막을 통한 염 제거는 하기 식에 따라서 결정된다: 염 제거율=100 x 1-(투과물 중의 염 농도/해수 중의 염 농도). 막 투과 유속: 해수를 복합 반투막에 가하고, 하루당 m2 막을 통과한 투과물의 양(m3)은 막 투과 유속(m3/m2/일)을 나타낸다. 붕소 제거율: 미정제 물과 투과물 중의 붕소 농도는 ICP 방출 분광광도계로 측정되며, 붕소 거부가 다음과 같이 측정된다: 붕소 제거율= 100 x 1-(투과물 중의 붕소농도/미정제 물 중의 붕소 농도). 염 투과계수: 염 투과계수는 문헌[Compendium of Membrane Separation Technology (Maku Shori Gijyutsu Taikei), The first volume, p. 171, edited by Masayuki Nakagaki, published by Fuji-technosystem (1991)]에 기재된 하기 식에 따라서 측정된다: 염 투과계수(m/s)=(100-염 제거율)/염 제거율 x 막 투과유속 x 115.7 x 10-7. 양전자 빔 방법에 의한 양전자 소멸 수명 스펙트로스코프: 복합 반투막에서의 분리 작용층의 양전자 소멸 수명 스펙트로스코프가 어떠한 가공 없이 측정되는 경우에, 측정은 다음과 같은 양전자 빔 방법을 이용함으로써 수행될 수 있다. 특히, 분리 작용층은 감압하에 실온에서 건조되며, 1.5 cm x 1.5 cm의 사각으로 시험 샘플로서 절달된다. 양전자 빔 발생기가 장착된 얇은 막-상응하는 양전자 소멸 수명 스펙트로스코프 장치(장치는 예를 들어, 문헌[Radiation Physics and Chemistry, 58, 603, Pergamon (2000)]에서 상세히 설명되어 있다)에서, 시험 샘플은 1 keV의 빔 밀도 및 진공중의 실온에서 및 광전자증배기를 이용한 바륨 바이플루오라이드로 제조된 섬광 계수기에 의한 5,000,000의 전체 계수에서 측정되며, 분석은 포지트론피트(POSITRONFIT)에 의해서 수행된다. 평균 기공 반경 R, 평균 기공 용적 V, 상대적 세기 I 및 공극율 V x I가 분석에 의해서 얻은 4 번째의 성분의 평균 수명 τ으로부터 분석될 수 있다. 약어: 하기 약어가 이하의 표에서 사용되고 있다. PolyAm: 다작용성 폴리아민 MonoAm: 일작용성 아민 AcH(Ar): 다작용성 산 할라이드 AcH(Al): 지방족 산 할라이드 PEG20000: 폴리에틸렌 글리콜 (평균 분자량: 약 20000) mPDA: 메타페닐렌디아민 TMC: 트리메소일 클로라이드 OC: 옥살릴 클로라이드 MA: 메틸아민 EA: 에틸아민 TPC: 테레프탈로일 클로라이드 AC: 아세틸 클로라이드 FC: 푸마릴 클로라이드 SC: 석시닐 클로라이드 ε-CL: ε- 카프로락탐 참조예 1 및 2 15.3% 폴리설폰의 N,N-디메틸포름아미드(DMF) 용액을 실온(25℃)에서 200μm의 두께로 폴리에스테르 부직포(투과성: 0.5 내지 1cc/cm2·sec)상에 캐스팅하고, 이어서, 순수한 물에 즉시 침지시키고 5 분 동안 유지시켜 다공성 지지 필름을 제조하였다. 형성된 다공성 지지 필름(두께: 210 내지 215μm)을 표 1에 기재된 다작용성 아민을 함유하는 아민 수용액중에 2 분 동안 침지시키고, 이어서, 수직 방향으로 점진적으로 들어올리고, 공기 노즐로부터의 질소 블로(blow)에 노출시켜서, 지지 필름의 표면으로부터 과량의 용액을 제거하고, 이어서, 표 1에 기재된 다작용성 산 할라이드를 함유하는 n-데칸 용액을 그에 가하여 그 표면을 완전히 적시고, 그대로 1분 동안 유지시켰다. 이어서, 필름을 2분 동안 수직으로 유지시켜서 그로부터 과량의 용액을 제거하고, 필름을 탈수시켰다. 이어서, 필름을 90℃의 고온수로 2 분 동안 세척하고, pH가 7로 조정되고 염소 농도가 200mg/l로 조절된 차아염소산나트륨의 수용액에 2 분 동안 침지시키고, 이어서 1,000mg/l의 아황산수소나트륨을 지니는 수용액 중에 침지시켜서 과량의 차아염소산나트륨을 감소시키고 제거하였다. 또한, 필름을 다시 95℃의 고온수로 2 분 동안 세척하였다. 얻은 복합 반투막을 평가하였고, 막 투과 유속, 염 제거율, 붕소 제거율 및 염 투과계수가 표 1에 기재되어 있다. 참조예 3 pH 7 및 염소 농도 200mg/l를 지니도록 조절된 차아염소산나트륨 수용액에 2분 동안 침지시키는 것이 없는 것을 제외하고는 참조예 2에서와 동일한 방법으로 복합 반투막을 생성시켰다. 얻은 복합 반투막을 평가하였고, 막 투과 유속, 염 제거율, 붕소 제거율 및 염 투과계수가 표 1에 기재되어 있다. 표 1 실시예 1 내지 22 표 2에 기재된 수용성 유기 물질을 물에 용해시켜 용액을 제조하기 위한 일정 농도를 달성시켰다. 필요한 경우, 약 10%의 이소프로필 알코올을 그에 첨가하였다. 참조예 1 내지 3에서 얻은 복합 반투막 각각을 일정 시간 동안 실온의 상기 수용액에 침지시켰다. 이어서, 막을 순수한 물로 세척하여 새로운 복합 반투막을 얻었다. 그와 같이 얻은 복합 반투막을 평가하였고, 막 투과 유속, 염 제거율, 붕소 제거율 및 염 투과계수가 표 2에 기재되어 있다. 실시예 23 참조예 3에서 얻은 복합 반투막을 실온에서 60분 동안 1% 글루타르알데히드 수용액중에 침지시켰다. 이어서, 이러한 막을 순수한 물로 세척하고, pH가 7로 조정되고 염소 농도가 200mg/l로 조절된 차아염소산나트륨의 수용액에 2 분 동안 침지시키고, 이어서 1,000mg/l의 아황산수소나트륨을 지니는 수용액 중에 침지시켜서 과량의 차아염소산나트륨을 감소시키고 제거하였다. 또한, 필름을 다시 95℃의 고온수로 2 분 동안 세척하였다. 얻은 복합 반투막을 평가하였고, 막 투과 유속, 염 제거율, 붕소 제거율 및 염 투과계수가 표 2에 기재되어 있다. 표 2 비교예 1 내지 10 참조예 1에서 얻은 복합 반투막을 실온에서 1 시간 동안 표 3에 기재된 각각의 수용성 화합물 0.1% 수용액에 침지시킨 다음, 순수한 물로 세척하여 새로운 복합 반투막을 얻었다. 그와 같이 얻은 복합 반투막을 평가하였고, 막 투과 유속, 염 제거율, 붕소 제거율 및 염 투과계수가 표 3에 기재되어 있다. 표 3 비교예 11, 12 및 15 내지 22 참조예 1 및 2에서와 동일한 다공성 지지 필름을 표 4에 기재된 아민과 첨가제가 용해되어 있는 수용액에 2분 동안 침지시키고, 이어서, 수직 방향으로 점진적으로 들어올리고, 공기 노즐로부터의 질소 블로(blow)에 노출시켜서, 지지 필름의 표면으로부터 과량의 용액을 제거하고, 이어서, 표 4에 기재된 농도로 제조된 다작용성 방향족 산 할라이드 및 지방족 산 할라이드의 n-데칸 혼합 용액을 그에 가하여 그 표면을 완전히 적시고, 그대로 1분 동안 유지시켰다. 이어서, 필름을 1분 동안 수직으로 유지시키고 탈수시켰다. 이어서, 이를 공기중에서 건조시켜 테칸 용매를 제거하고, 이어서 흐르는 수돗물로 세척하여 필름중에 남아있는 화학물질을 제거하였다. 이어서, 필름을 90℃의 고온수로 2 분 동안 세척하고, pH가 7로 조정되고 염소 농도가 200mg/l로 조절된 차아염소산나트륨의 수용액에 2 분 동안 침지시키고, 이어서 1,000mg/l의 아황산수소나트륨을 지니는 수용액 중에 침지시켰다. 또한, 필름을 다시 95℃의 고온수로 2 분 동안 세척하였다. 그와 같이 얻은 복합 반투막을 평가하였고, 막 투과 유속, 염 제거율, 붕소 제거율 및 염 투과계수가 표 4에 기재되어 있다. 비교예 13 및 14 참조예 1 및 2에서와 동일한 다공성 지지 필름을 표 4에 기재된 다작용성 아민을 함유하는 아민 수용액에 2분 동안 침지시키고, 이어서, 수직 방향으로 점진적으로 들어올리고, 공기 노즐로부터의 질소 블로(blow)에 노출시켜서, 지지 필름의 표면으로부터 과량의 용액을 제거하고, 이어서, 0.12% 트리메소일 클로라이드 및 0.18% 테레프탈로일 클로라이드를 함유하는 n-데칸 용액을 그에 가하여 그 표면을 완전히 적시고, 그대로 1분 동안 유지시켰다. 이어서, 필름을 2분 동안 수직으로 유지시키고 탈수시켜 지지 필름으로부터 과량의 용액을 제거하였다. 이어서 표 4에 기재된 일작용성 아민 및 0.3% 나트륨 도데실 설페이트를 함유하는 아민 수용액을 그에 적용하였다. 이어서, 이를 공기중에서 건조시켜 지지 필름의 표면에서 과량의 용액을 제거하고, 90℃의 고온수로 세척하였다. 이어서, 이를 pH가 7로 조정되고 염소 농도가 200mg/l로 조절된 차아염소산나트륨의 수용액에 2 분 동안 침지시키고, 이어서 1,000mg/l의 아황산수소나트륨을 지니는 수용액 중에 침지시켰다. 또한, 필름을 다시 95℃의 고온수로 2 분 동안 세척하였다. 그와 같이 얻은 복합 반투막을 평가하였고, 막 투과 유속, 염 제거율, 붕소 제거율 및 염 투과계수가 표 4에 기재되어 있다. 표 4 비교예 23 내지 28 참조예 1 및 2에서와 동일한 다공성 지지 필름을 표 4에 기재된 아민과 첨가제가 용해되어 있는 수용액에 2분 동안 침지시키고, 이어서, 수직 방향으로 점진적으로 들어올리고, 공기 노즐로부터의 질소 블로(blow)에 노출시켜서, 지지 필름의 표면으로부터 과량의 용액을 제거하고, 이어서, 표 5에 기재된 농도로 제조된 다작용성 방향족 산 할라이드 및 지방족 산 할라이드의 n-데칸 혼합 용액을 그에 가하여 그 표면을 완전히 적시고, 그대로 1분 동안 유지시켰다. 이어서, 필름을 1분 동안 수직으로 유지시키고 탈수시켰다. 이어서, 이를 공기중에서 건조시켜 테칸 용매를 제거하고, 이어서 흐르는 수돗물로 세척하여 필름중에 남아있는 화학물질을 제거하였다. 이어서, 필름을 90℃의 고온수로 2 분 동안 세척하고, pH가 7로 조정되고 염소 농도가 200mg/l로 조절된 차아염소산나트륨의 수용액에 2 분 동안 침지시키고, 이어서 1,000mg/l의 아황산수소나트륨을 지니는 수용액 중에 침지시켰다. 또한, 필름을 다시 95℃의 고온수로 2 분 동안 세척하였다. 그와 같이 얻은 복합 반투막을 평가하였고, 막 투과 유속, 염 제거율, 붕소 제거율 및 염 투과계수가 표 4에 기재되어 있다. 표 5 비교예 29 내지 31 JP-A-2004-243198호 중의 실시예 1 내지 3에서 기재된 방법에 의해서 제조된 복합 반투막의 막투과 유속, 염 제거율, 붕소 제거율, 및 염 투과 계수를 평가하였다. 상세한 사항은 이하 설명되고 있다. 비교예 29 길이가 30cm이고 폭이 20cm이며 폴리에스테르 섬유로 제조된 타페타(Taffeta)(날실과 씨실 둘 모두에서 166dtex의 멀티필라멘트 섬유, 얀 밀도: 날실: 90라인/인치, 씨실: 67라인/인치, 두께: 160μm)를 유리 플레이트에 고정시키고, 15.7% 폴리설폰의 N,N-디메틸포름아미드(DMF) 용액을 25℃에서 200μm의 두께로 그 위에 캐스팅하고, 이어서 순수한 물에 즉각적으로 침지시키고, 그 속에 5분 동안 유지시켰다. 이어서, 이를 90℃의 고온수로 2 분 동안 처리하여 다공성 지지 필름(이하, "FT-PS 지지 필름"이라 칭한다)을 제조하였다. FT-PS 지지 필름은 200 내지 210 μm의 두께를 지니며, 0.1 MPa의 압력, 25℃의 액체 온도 및 25℃의 대기 온도에서 측정된 바 0.01 내지 0.03g/cm2·sec·atm의 순수한 물 투과 계수를 지닌다. FT-PS 다공성 지지 필름을 1% m-페닐렌디아민 및 1% ε-카프로락탐을 함유하는 수용액에 1 분 동안 침지시키고, 수직 방향으로 점진적으로 들어올리고 탈수시켜 지지 필름의 표면으로부터 과량의 용액을 제거하고, 이어서 0.06% 트리메소일 클로라이드를 함유하는 n-데칸 혼합 용액을 그에 가하여 그 표면을 완전히 적시고, 그대로 1 분 동안 유지시켰다. 이어서, 필름을 1분 동안 수직으로 고정시키고 탈수시켜 과량의 용액을 제거하였다. 이어서, 30℃의 공기를 필름의 표면상에 8m/s의 풍속으로 1 분 동안 블로잉시켜 필름 표면상의 용매를 제거하였다. 1.0% 글루타르알데히드를 함유하는 수용액을 필름의 표면에 가하고, 그대로 2 분 동안 유지시켰다. 이어서, 이를 90℃의 고온수에 침지시키고, 막 성능을 개선시키기 위해서, pH 7 및 500ppm의 염소 농도를 지니도록 조절된 차아염소산나트륨 수용액에 2분 동안 침지시키고, 이어서 1,000ppm의 아황산수소나트륨을 지니는 수용액에 침지시켜 잔류 차아염소산나트륨을 제거하여 복합 반투막을 얻었다. 비교예 30 글루타르알데히드 대신 포르말린을 사용함을 제외하고는 비교예 29에서와 동일한 방법으로 복합 반투막을 제조 및 평가하였다. 비교예 31 0.4% 글루타르알데히드를 적용시킨 후에 80℃에서 열처리를 수행함을 제외하고는 비교예 29에서와 동일한 방법으로 복합 반투막을 제조 및 평가하였다. 비교예 32 필름의 표면에 대한 1.0% 글루타르알데히드를 함유하는 수용액의 적용 및 2분 동안의 유지를 수행하지 않음을 제외하고는 비교예 29에서와 동일한 방법으로 복합 반투막을 제조 및 평가하였다. 비교예 33 필름의 표면에 대한 1.0% 글루타르알데히드를 함유하는 수용액의 적용 및 2분 동안의 유지를 수행하지 않고, 막 성능을 개선시키기 위해서 pH 7 및 500ppm의 염소 농도를 지니도록 조절된 차아염소산나트륨 수용액에 2분 동안 침지시키는 것을 수행하지 않음을 제외하고는 비교예 29에서와 동일한 방법으로 복합 반투막을 제조 및 평가하였다. 비교예 29 내지 33에서의 복합 반투막을 평가하였고, 막투과 유속, 염 제거율, 붕소 제거율, 및 염 투과 계수가 표 6에 기재되어 있다. 표 6 실시예 24 참조예 1에서와 동일한 방법으로 제조된 복합 반투막을 0.1% 글루타르알데히드 수용액중에 1 시간 동안 침지시키고, 순수한 물로 세척하여 복합 반투막을 제조하였다. 양전자 빔 방법에 의한 양전자 소멸 수명 스팩트로스코프 및 막 투과성 평가를 이러한 복합 반투막에 대해서 수행하였다. 결과를 표 7 및 도 1에 나타내고 있다. 비교예 34 참조예 1 및 2에서와 동일한 다공성 지지 필름을 3.4% mPDA의 수용액에 2 분 동안 침지시키고, 이어서, 이어서, 수직 방향으로 점진적으로 들어올리고, 공기 노즐로부터의 질소 블로(blow)에 노출시켜서, 지지 필름의 표면으로부터 과량의 용액을 제거하고, 이어서, 0.165% TMC의 n-데칸 용액을 그에 가하여 그 표면을 완전히 적시고, 그대로 1분 동안 유지시켰다. 이어서, 필름을 1분 동안 수직으로 유지시키고 탈수시켰다. 이어서, 이를 공기중에서 건조시켜 테칸 용매를 제거하고, 이어서 흐르는 수돗물로 세척하여 필름중에 남아있는 화학물질을 제거하였다. 이어서, 필름을 90℃의 고온수로 2 분 동안 세척하고, pH가 7로 조정되고 염소 농도가 200mg/l로 조절된 차아염소산나트륨의 수용액에 2 분 동안 침지시키고, 이어서 1,000mg/l의 아황산수소나트륨을 지니는 수용액 중에 침지시켰다. 또한, 필름을 다시 95℃의 고온수로 2 분 동안 세척하였다. 그와 같이 얻은 복합 반투막에 대해서 양전자 빔 방법에 의한 양전자 소멸 수명 스팩트로스코프 및 막 투과성 평가를 실시예 24에서와 동일한 방법으로 수행하고 그 결과를 표 7 및 도 1에 나타내고 있다. 비교예 35 참조예 1 및 2에서와 동일한 다공성 지지 필름을 0.55% 트리아미노벤젠, 1.45% mPDA 및 0.15% 에틸렌디아민의 수용액에 2분 동안 침지시키고, 이어서 수직 방향으로 점진적으로 들어올리고, 공기 노즐로부터의 질소 블로(blow)에 노출시켜서, 지지 필름의 표면으로부터 과량의 용액을 제거하고, 이어서, 0.0675% TMC 및 0.0825% 테레프탈로일 클로라이드의 n-데칸 용액을 그에 가하여 그 표면을 완전히 적시고, 그대로 1분 동안 유지시켰다. 이어서, 필름을 1분 동안 수직으로 유지시키고 탈수시켰다. 이어서, 이를 공기중에서 건조시켜 테칸 용매를 제거하고, 1% 탄산나트륨과 0.3% 나트륨 도데실 설페이트의 수용액에 5분 동안 침지시키고, 이어서 흐르는 수돗물로 세척하여 필름중에 남아있는 화학물질을 제거하였다. 이어서, 필름을 70℃의 고온수로 2 분 동안 세척하고, pH가 7로 조정되고 염소 농도가 500mg/l로 조절된 차아염소산나트륨의 수용액에 2 분 동안 침지시키고, 이어서 1,000mg/l의 아황산수소나트륨을 지니는 수용액 중에 침지시켰다. 그와 같이 얻은 복합 반투막에 대해서 양전자 빔 방법에 의한 양전자 소멸 수명 스팩트로스코프 및 막 투과성 평가를 실시예 24에서와 동일한 방법으로 수행하였고 그 결과를 표 7 및 도 1에 나타내고 있다. 비교예 36 참조예 1 및 2에서와 동일한 다공성 지지 필름을 0.46% 트리아미노벤젠, 1.2% mPDA, 0.12% 에틸렌디아민 및 1% ε-카프로락탐의 수용액에 2분 동안 침지시키고, 이어서 수직 방향으로 점진적으로 들어올리고, 공기 노즐로부터의 질소 블로(blow)에 노출시켜서, 지지 필름의 표면으로부터 과량의 용액을 제거하고, 이어서, 0.1% TMC의 n-데칸 용액을 그에 가하여 그 표면을 완전히 적시고, 그대로 1분 동안 유지시켰다. 이어서, 필름을 1분 동안 수직으로 유지시키고 탈수시켰다. 이어서, 이를 공기중에서 건조시켜 테칸 용매를 제거하고, 1% 탄산나트륨과 0.3% 나트륨 도데실 설페이트의 수용액에 5분 동안 침지시키고, 이어서 흐르는 수돗물로 세척하여 필름중에 남아있는 화학물질을 제거하였다. 이어서, 필름을 70℃의 고온수로 2 분 동안 세척하고, pH가 7로 조정되고 염소 농도가 500mg/l로 조절된 차아염소산나트륨의 수용액에 2 분 동안 침지시키고, 이어서 1,000mg/l의 아황산수소나트륨을 지니는 수용액 중에 침지시켰다. 그와 같이 얻은 복합 반투막에 대해서 양전자 빔 방법에 의한 양전자 소멸 수명 스팩트로스코프 및 막 투과성 평가를 실시예 24에서와 동일한 방법으로 수행하였고 그 결과를 표 7 및 도 1에 나타내고 있다. 표 7 상기 결과에서 알 수 있는 바와 같이, 본 발명은 복합 반투막을 수용성 유기 물질과 접촉시킴으로써 95% 이상의 붕소 제거율을 지니도록 하는 효과를 제공하고 있다. 산업상 이용가능성 상기된 바와 같이, 본 발명의 복합 반투막은 높은 염 제거율 및 높은 투과물 투과율을 지니며, 중성 영역에서 비해리성인 물질, 예컨대, 붕소도 거부한다. 따라서, 막은 원자력 발전소에서 냉각수를 처리하는데, 도금 폐수를 처리하는데, 및 고농도의 기수 또는 해수로부터 식수를 생산하는데 유리할 수 있다. 본 발명은 상세한 설명에서 및 본 발명의 특정 구체예를 참조로 기재되고 있지만, 다양한 변경 및 변화가 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않으면서 이루어질 수 있다는 것이 본 기술분야의 전문가에게는 자명할 것이다. 참조된 모든 참조문헌은 그 전체 내용이 본원에 통합되는 것이다. 본 출원은 2004년 11월 15일자 출원된 일본국 특허출원 제2004-330273호를 기초로 하며, 그 전체 내용이 본원에서 참조로 통합되는 것이다.