실리콘 에멀젼, 이의 제조방법 및 화장품 성분 document_id A220623053571

다양한 계면활성제를 함유하는 실리콘 에멀젼은 일반적으로 현탁 중합 또는 유화 중합에 의해 제조된다. 그러나, 이러한 에멀젼은 통상, 사이클릭 오가노실록산 사량체를 포함하여 상당한 농도의 휘발성 사이클릭 오가노실록산 올리고머를 함유한다. 더욱이, 오가노실록산 올리고머의 농도는 통상 폴리오가노실록산의 분자량 증가에 수반하여 증가한다. 실리콘 에멀젼을 화장품의 제조에 사용하는 경우에는, 에멀젼 중의 사이클릭 오가노실록산 올리고머의 양을 제한할 필요가 있다. 그러나, 잔류 사이클릭 오가노실록산을 선택적으로 제거하는 것은 어렵고 비용이 들 수 있다. 더욱이, 사이클릭 오가노실록산 올리고머를 제거하는 방법, 예를 들면, 투과증발(pervaporation)은 에멀젼의 열화를 유발할 수 있다. 따라서, 사이클릭 오가노실록산의 함량이 낮은 고분자량 폴리오가노실록산을 함유하는 실리콘 에멀젼이 요구되고 있다. 발명의 요약 본 발명은, 사이클릭 오가노실록산 사량체를 10%(w/w) 이하로 함유하는 폴리오가노실록산(A), 화학식 의 계면활성제(B)[여기서, R2는 각각 독립적으로 -H 또는 -F이고, R3은 -H, 하이드로카빌 또는 치환된 하이드로카빌이며, R4는 각각 독립적으로 R3 또는 -(CH2CH2O)mR3(여기서, m은 1 내지 20이다)이고, M은 금속 이온 또는 암모늄 이온이다] 및 물(C)을 포함하는, 실리콘 에멀젼에 관한 것이다. 또한, 본 발명은, 화학식 HO(R12SiO)nH의 오가노실록산(A')(여기서, R1은 각각 독립적으로 하이드로카빌 또는 치환된 하이드로카빌이고, n은 오가노실록산의 중량 평균 분자량이 92 내지 100,000으로 되도록 하는 값이다), 화학식 의 계면활성제(B')[여기서, R2는 각각 독립적으로 -H 또는 -F이고, R3은 -H, 하이드로카빌 또는 치환된 하이드로카빌이며, R4는 각각 독립적으로 R3 또는 -(CH2CH2O)mR3(여기서, m은 1 내지 20이다)이고, X는 -OH 또는 -O-M(여기서, M은 금속 이온 또는 암모늄 이온이다)이다] 및 물(C)를 포함하는 혼합물을 유화시키는 단계(i), 유화 혼합물의 오가노실록산을 산 촉매의 존재하에 중합시켜, 중량 평균 분자량이 오가노실록산의 중량 평균 분자량의 2배 이상인 폴리오가노실록산을 제조하는 단계(ii) 및 산 촉매를 중화시키는 단계(iii)를 포함하는, 실리콘 에멀젼의 제조방법에 관한 것이다. 추가로, 본 발명은 상술한 실리콘 에멀젼을 포함하는 화장품 성분에 관한 것이다. 본 발명의 실리콘 에멀젼은 사이클릭 오가노실록산 올리고머의 농도가 매우 낮고 안정성이 높다. 특히, 실리콘 에멀젼은, 사이클릭 오가노실록산 사량체를 10%(w/w) 이하로 함유하는 비교적 고분자량 폴리오가노실록산을 포함한다. 실리콘 에멀젼의 제조방법은 용이하게 입수가능한 출발 물질 및 통상의 장치를 사용한다. 더욱이, 당해 방법은 최소 수의 단계로 수행할 수 있고, 제조 공정에 대해 조정할 수 있다. 중요하게는, 당해 방법은 사이클릭 오가노실록산 올리고머의 함량이 매우 낮은 실리콘 에멀젼을 생성한다. 본 발명의 실리콘 에멀젼은, 도료, 피복물 및 개인 위생 제품을 포함하여, 다양한 화장품의 성분으로서 유용하다. 특히, 실리콘 에멀젼은 화장품 조성물, 예를 들면, 스킨 크림, 파운데이션, 아이 쉐도우, 바디 워시, 샴프, 헤어 린스 및 헤어 컨디셔너의 성분으로서 사용될 수 있다.