실리콘-함유 가스를 포함하는 가스 스트림을 처리하는 방법, 자연 발화성 가스를 포함하는 가스 스트림을 처리하는 방법, 실리콘-함유 가스를 포함하는 가스 스트림을 처리하는 장치, 및 프로세스 챔버를 배기하는 시스템 document_id A220623053617

실리콘 웨이퍼 또는 평판 디스플레이 상에 공정층을 증착하기 위하여 자연 발화성 가스를 사용하는 것이 공지되어 있다. 그러한 가스는 실란, 디실란, 디클로로 실란, 및 트리클로로 실란을 포함한다. 자연 발화성 가스는, 공기와 접촉시 자발적이고 제어되지 않는 발화 반응을 발생시킬 수 있다는 점에서 위험할 수 있다. 공정 장비로부터의 폐기된 배기 가스 스트림 내에서 자연 발화성 가스의 존재로 인한 비제어의 발화 반응의 위험을 최소화하기 위하여, 자연 발화성 가스가 공기와 반응하도록 하는 인화 한계점 이하의 농도로 상기 자연 발화성 가스를 제거하기 위하여 "연소 박스" 또는 "연소 튜브" 를 설치하는 것이 공지되어 있다. 그러한 연소 튜브 장치는, 자연 발화성 가스-함유류를 수용하기 위한 입구를 가지는 반응 챔버와, 그 반응 챔버 내에서 제어 및 억제된 발화 반응을 생성하기 위한 공기류와, 상기 챔버로부터 폐기류를 이송하는 배출 덕트를 포함한다. 실란이, 예를 들면 연소하거나 하여 다량의 실리카 분말이 형성될 때, 그것은 급속히 반응 챔버, 입구 및 하류의 덕트를 막을 수 있게 된다. 그 결과, 장치를 정규적으로 청소할 필요가 있고 그것은 비용을 증가시키고 공정 장비의 고장을 초래한다. 추가로, 장애가 발생한다면 장치 내 온도가 급속히 증가할 수 있고 잠재적으로 화재의 위험도 있을 수 있다. 추가로, 프로세스 챔버로부터 폐기류를 배기하기 위한 펌핑 메커니즘 중에 또는 그 직후 인화하지 않는 레벨까지 (종종 1% 이하 레벨이 권고된다), 실란 베어링 가스를 희석제 가스로, 통상적으로는 질소로 희석시키는 것이 통상적 관행이어 왔다. 그러한 희석제로 인하여 비효율적인 연소 튜브를 계속적으로 사용하여야 했다.