띠형상 워크의 노광 장치 및 띠형상 워크의 노광 장치에있어서의 포커스 조정 방법 document_id A220623057491

액정 등의 디스플레이 패널, 휴대전화, 디지털 카메라, IC 카드 등에서는, 두께 25μm～125μm 정도의 폴리에스테르나 폴리이미드 등의 수지 필름 상에 집적 회로를 실장한 필름 회로 기판이 이용되고 있다. 필름 회로 기판은, 그 제조 공정에 있어서는, 예를 들면 폭 160mm, 두께 100μm, 길이 수백 m인 띠형상의 워크이고, 통상 릴에 감겨져 있다. 또, 필름 회로 기판은, 상기의 수지 필름 상에, 도전체(예를 들면 구리박)가 붙여져 있다. 필름 회로 기판의 제조는, 레지스트를 도포하는 공정, 원하는 회로 패턴을 전사하는 노광 공정, 레지스트의 현상 공정, 필요 없는 도전체를 제거하는 에칭 공정 등을, 예를 들면 4회에서 5회, 반복함으로써 행해진다. 각 공정에 있어서는, 필름 회로 기판이 릴로부터 풀어내어져, 처리 가공되고, 다시 릴에 감겨진다. 이하 필름 회로 기판의 것을 띠형상 워크라고 부른다. 상기 띠형상 워크를 반송하면서 각 노광 영역에 회로 패턴 전사하는 노광 장치는 예를 들면 특허 문헌 1 등에 개시되어 있다. 도 5에 띠형상 워크의 노광 장치의 구성의 일례를 나타낸다. 띠형상 워크(W)(이하, 간단히 워크(W)라고도 한다)는, 워크(W)를 보호하는 스페이서와 서로 겹쳐져 권출(卷出) 롤(1)에 롤형상으로 감겨져 있다. 권출 롤(1)로부터 인출할 때, 스페이서는 스페이서 권취(卷取) 롤(1a)에 감겨진다. 권출 롤(1)로부터 나온 띠형상 워크(W)는, 늘어짐부(A1), 중간 가이드 롤(R2)을 거쳐 인코더 롤(R3)과 누름 롤(R3')에 의해 사이에 끼워져 지지된다. 인코더 롤(R3)은, 워크 반송 시, 후술하는 반송 롤에 있어서 슬립이 발생하고 있지 않는지를 확인하기 위한 롤이다. 권출 롤(1)로부터 인출된 띠형상 워크(W)는, 노광부(3)를 거쳐, 반송 롤(R4)과 누름 롤(R4')에 의해 사이에 끼워져 지지된다. 워크(W)는, 반송 롤(R4)이 회전함으로써 설정된 소정량 반송되어, 노광부(3)의 워크 스테이지(10) 상으로 이송된다. 노광부(3) 상에는, 램프(4a)와 집광경(4b)으로 구성되는 광 조사부(4)와, 워크에 노광하는 패턴(마스크 패턴)을 갖는 마스크(M)와, 투영 렌즈(5)가 설치되어 있다. 또, 워크 스테이지(10)는 워크 스테이지 구동 기구(6) 상에 부착되어 있고, 상하, 좌우 방향으로 구동 가능함과 더불어, 워크 스테이지면에 수직인 축을 중심으로 하여 회전 가능하다. 노광부(3)에서, 띠형상 워크(W)는, 노광되는 영역의 이면측이, 워크 스테이지(10)의 표면에 진공 흡착 등의 유지 수단에 의해 유지된다. 이것은, 투영 렌즈(5)에 의해 투영되는 마스크 패턴의 결상 위치에, 워크(W)의 노광하는 영역을 고정하여, 노광 중에 워크(W)가 광축 방향 또는 반송 방향으로 이동하는 것을 방지하기 위해서이다. 도 6은, 도 5의 노광 장치의, 마스크, 투영 렌즈, 워크 스테이지의 부분을 추출하여 도시한 사시도이다. 상기 도면에 나타낸 바와 같이, 마스크(M)에는, 2개소 얼라인먼트 마크(마스크 마크)(MAM)가 형성되고, 워크(W)에는 노광 영역마다 마스크 마크(MAM)의 수에 대응하여 2개소의 얼라인먼트 마크(워크 마크)(WAM)가 형성되어 있다. 또한, 본 예에서는 워크 마크(WAM)는, 띠형상 워크(W)의 주변부에 형성된 스루홀이지만, 띠형상 워크(W)가 광투과성인 경우는, 워크(W) 상에 마크(WAM)를 형성한 것이어도 된다. 또, 워크 스테이지(10)에는, 투영 렌즈(5)에 의해 마스크 마크(MAM)가 투영되는 위치(2개소)에, 노치(10a) 또는 관통구멍이 형성되고, 그 아래쪽에는 얼라인먼트 현미경(2대)(12)이 배치된다. 얼라인먼트 현미경(12)은, 워크 스테이지(10)의 노치(10a) 또는 관통구멍을 통해, 마스크 마크(MAM)와 워크 마크(WAM)를 검출한다. 워크 마크(WAM)가, 워크 스테이지(10)의 노치(10a) 상, 즉 얼라인먼트 현미경(12) 상으로까지 반송되면, 워크 스테이지(10)에 흡착 유지된다. 얼라인먼트광 조명 수단(11)이, 도시하지 않은 이동 기구에 의해, 마스크(M)의 위쪽에 삽입된다. 얼라인먼트광 조명 수단(11)으로부터, 얼라인먼트광이, 마스크 마크(MAM)에 조사되고, 투영 렌즈(5)에 의해 마스크 마크상이, 워크 마크(WAM)인 스루홀을 통과하여 얼라인먼트 현미경(12) 상에 투영된다. 얼라인먼트 현미경(12)은, 투영된 마스크 마크상을 검출한다. 동시에 워크 마크(WAM)인 스루홀의 에지의 상도 검출한다. 도 5에 나타낸 제어부(20)는, 얼라인먼트 현미경(12)에 의해 검출한 마스크 마크(MAM)상과 워크 마크(WAM)의 에지상을 입력하여 화상 처리한다. 그리고, 이 마스크 마크(MAM)와 워크 마크(WAM)의 위치 정보에 의거해, 양자가 소정의 위치 관계가 되도록 워크 스테이지 구동 기구(6)를 구동하여, 회로 등의 마스크 패턴을 형성한 마스크(M)와 워크(W)의 노광 영역을 위치 맞춤한다. 위치 맞춤 종료 후, 광 조사부(4)로부터 방사되는 노광광이 마스크(M), 투영 렌즈(5)를 통해 워크(W)에 조사되고, 마스크 패턴이 워크(W)에 전사된다. 노광이 종료되면, 띠형상 워크(W)는 반송 롤(R4)과 누름 롤(R4')에 의해 사이에 끼워져 지지되고, 다음의 노광 영역이 워크 스테이지(10) 상에 오도록 반송되어 노광된다. 이와 같이 하여 띠형상 워크(W)는 순차적으로 노광되고, 가이드 롤(R5), 늘어짐부(A2)를 거쳐 권취 롤(2)에 감겨진다. 그 때, 스페이서 권출 롤(2a)로부터 스페이서가 송출되고, 노광이 완료된 띠형상 워크(W)는, 스페이서와 함께 권취 롤(2)에 감겨진다. 워크 스테이지(10)의 표면 위치는, 미리 상기 워크 스테이지 구동 기구(6)에 의해, 투영 렌즈(5)의 포커스 위치로 조절되어 있다. [특허 문헌 1] 일본국 특허 제2886675호 공보