포토리소그래피 시스템 document_id A220623058635

집적 회로의 제조에서, 인쇄 회로기판, 또는 포토레지스트-코팅 기판은 포토리소그래피, 즉, 기판상에 소정의 패턴을 이미징하기 위한 노광 공정을 거친다. 마스크-또는 망선이 없는 포토리소그래피 시스템에서, DMD(디지털 마이크로-미러 디바이스) 또는 LCD(액정 디바이스)와 같은, 복수의 2차원으로 배열된 셀을 가진 공간 광 변조기가 사용된다. 광원으로부터의 광은 변조 셀에 반사되고, 각각의 셀(예를 들면, 미러로서 실행될 수 있다)은 패턴 데이터를 근거로 이미지의 부분을 조사한다. 노광 공정에서, 포토레지스트로 코팅된 재료는 테이블에 배열되고, 그리고 테이블은 감광 재료에 대하여 스캐닝 방향으로 움직여서 공간 광 변조기의 조사 영역인 노광 영역을 스캐닝한다. 공간 광 변조기의 각각의 셀은 변조되는데, 즉 패턴 데이터와 노광 영역의 상대 위치에 따라서 온/오프 변환된다. 노광 공정후에, 현상 공정, 에칭 공정, 레지스트 제거 공정, 등이 실행된다. 노광 방법으로서, 스텝 0026# 리피트(Step 0026# Repeat) 공정, 또는 연속 스캐닝 방법이 사용된다. 더욱이, 동일 영역에서 광을 반복적으로 조명하는 다중-노광 방법이 이용될 수 있다. CAD 시스템과 연결된 포토리소그래피 시스템에서, 패턴 데이터(예를 들면, 벡터 데이터)는 포토리소그래피 시스템에 전송되고, 그리고 패턴 데이터는 광 변조 셀을 제어하는데 사용되는 래스터 데이터(raster data)로 전환된다. 각각의 광 변조 셀(마이크로-미러가 될 수 있다)은 상응하는 래스터 데이터에 의해 제어된다. 패턴 데이터의 입력, 패턴 데이터의 처리, 그리고 셀의 제어는 노광 영역의 상대 운동에 따라서 반복적으로 실행된다. 말하자면, 패턴 데이터는 노광 영역이 노광될 소정의 영역에 도달할 때마다 새롭게 된다. 이들 포토리소그래피 시스템은 일본 특허 공개 2003-57836A, 및 동 2003-15309A에 개시되어 있다. 패턴 데이터의 방대한 양의 빈번한 갱신은 시간이 많이 들며, 그리고 전체적인 노광 시간, 즉 작업량에 영향을 준다. 예를 들면 데이터 처리의 부하를 줄이기 위해서, 좌표 정보를 가진 벡터 데이터는 좌표 변형 공정을 거치고, 그리고 전송된 벡터 데이터의 일부가 샘플링된다. 또한, DMD의 반사 표면은 복수의 영역으로 분할되고, 그리고 미러는 래스터 데이터가 미러에 전송된 후, 각각의 영역에서 리셋된다. 이들 포토리소그래피 시스템은 일본 특허 공개 2005-84198A 및 동 2005-55881A에 개시되어 있다. 공간 광 변조기는 많은 셀(예를 들면, 1024×768셀)로 이루어져 있다. 래스터 데이터를 저장하기 위해 필요한 메모리 용량과 래스터 데이터의 양은 셀의 수에 의존한다. 더욱이, 복수의 공간 광 변조기는 노광 영역이 기판에 비하여 작고, 그리고 패턴 데이터와 메모리가 공간 광 변조기의 수에 따라서 준비되어야 하므로 포토리소그래피 시스템에서 배열되어야 한다. 그러므로, 래스터 데이터를 발생시키기 위한 데이터-변형 공정과 데이터-전송 공정은 상당한 시간이 필요하고, 그리고 작업량의 개선이 필요하다. 특히 다중-노광 방법의 경우에, 데이터-전송 그리고 데이터-변형 공정의 빈도는 셧(shot)-노광 방법에 비해 크다. 결과적으로, 테이블과 노광 피치의 상대 운동은 데이터의 처리를 위해 필요한 긴 기간으로 인해 제한된다.