법랑질 병소 침투 방법 및 수단 document_id A220623067627

산업국가에서는, 성인 인구의 약 98 ％가 1종 이상의 우식병소를 나타내거나 이미 치아 충전물을 갖고 있다. 결국에는 공동화(cavitation)를 초래할 수 있는 임의의 우식병소는 치아 경조직의 탈석회화(demineralization)에 의해 개시된다. "초기 법랑질 우식"이라고 지칭되는 초기 단계에서는, 치아 표면은 가시적인 침식 징후 없이 온전한 상태이지만, 이러한 표면 아래에 있는 탈석회화된 부위는 점점 더 다공질이 된다. 오늘날, 인접면 우식을 치료하는 유일한 비-수술적 방법은 불소 화합물을 도포함으로써 재석회화를 향상시키고 환자의 구강 위생을 개선함으로써 병소의 진행을 저지하는 것이다. 치아의 평활면은 개선된 세정 전략에 대해 보다 민감하게 반응하는 반면에, 인접면은 세정하기가 특히 어렵다. 그럼에도 불구하고, 상아질에 도달한 인접면 병소에서의 재석회화는 달성되기 어려운 것처럼 보이는데, 왜냐하면 이러한 경계로부터 병소의 가시적인 공동화가 대부분의 사례에서 확립된다는 것이 여러 임상 연구를 통해 밝혀졌기 때문이다(문헌[Rugg-Gunn AJ. Approximal carious lesions. A comparison of the radiological and clinical appearances. Br Dent J, 1972, 133:481-484]; 문헌[De Araujo FB 등, Diagnosis of approximal caries: radiographic versus clinical examination using tooth separation. Am J Dent, 1992, 5:245 - 248]; 및 문헌[Ratledge 등, A clinical and microbiological study of approximal carious lesions. Part 1: The relationship between cavitation, radiographic lesion depth, the site-specific gingival index and the level of infection of the dentine. Caries Res, 2001, 35:3-7]을 참고). 더욱이, 시험관 내 연구를 통해, 심지어는 병소 내의 많은 공동화가 법랑질까지 계속된다는 것이 밝혀졌다. 공동화된 법랑질 병소는 환자에 의해 충분히 세정될 수 없으며, 진행될 것이다(문헌[Marthaler TM 및 Germann M. Radiographic and visual appearance of small smooth surface caries lesions studied on extracted teeth. Caries Res, 1970, 4:224-242]; 및 문헌[Kogon SL 등, Can radiographic criteria be used to distinguish between cavitated and noncavitated approximal enamel caries? Dentomaillofac Radiol, 1987, 16:33-36]을 참고). 따라서, 공동화가 우식 과정의 이러한 초기 단계에서조차 일어난다면, 임상 조건에서 재석회화가 달성될 가능성은 거의 없는 것으로 보인다. 이는 불소 화합물 도포 및 개선된 구강 위생을 통해서는 인접면 우식의 진행을 둔화시킬 수 있을 뿐 그것을 돌이킬 수는 없다는 임상적 연구결과를 설명해준다(문헌[Mejare I 등, Caries development from 11 to 22 years of age: A prospective radiographic study. Prevalence and distribution. Caries Res, 1998, 32:10-16]을 참고). 일단 공동화가 일어나면, 침습성 치료 방법이 일반적으로 처방된다. 그러나, 우식 치아질을 도려내는 작업에는 항상 비-우식, 즉 건강한 치아 경조직이 제거됨이 동반된다. 접근이 어려운 인접면 우식병소의 경우, 제거되는 우식 치아와 온전한 치아의 비율은 특히 나쁘다. 더욱이, 삽입된 충전재와 내생 치아질 사이의 연결부는 우식병소 자체에 대해 취약하고, 충전재가 오래 되어 충전재를 다시 충전할 때 건강한 치아질을 추가로 제거하게 된다. 따라서, 초기 단계의 우식, 및 특히 인접면 초기 우식병소의 치료 방법이, 나중에 침습성 치료 절차가 필요하지 않게 하기 위해서, 매우 바람직하다. 초기 법랑질 우식의 명백한 징후 중 하나는 백색 반점 병소이다. 이러한 병소는, 병소의 표면은 비교적 온전한 반면에(소위 "허위로 온전한 표면층") 대부분의 법랑질에 무기질이 손실됨을 특징으로 한다. 비-수술적 치과술의 유망한 접근방식은 법랑질 병소를 치과용 접착제 및 치면열구전색제와 같은 저점도 광-경화성 수지로써 전색하는 것일 것이다. 병소 본체 내의 작은 세공은 산과 용해된 무기질을 위한 확산 경로로서 작용하므로, 병소의 전진 선단부에서 법랑질이 용해될 수 있게 한다. 제안된 요법의 목적은 표면을 전색할 뿐만 아니라 이러한 세공을 침투시킴으로써, 병소 본체가 추가로 공격하는 것을 멈추게 하는 것이다. 더욱이, 수지 물질이 경화된 후에, 병소 내의 취약한 법랑질 골격의 기계적 지지체가 달성될 것이다. 따라서, 세공을 광-경화성 수지로써 침투시켜 전색시키면, 병소의 진행을 저지하고, 취약한 병소 구조를 기계적으로 안정시킬 수 있다. 저점도 수지로써 전색함으로써 우식을 저지하려는 생각은 1970년대 이후로 여러 시험관 내 실험에서 계속되어 왔다(문헌[Robinson C 등, Arrest and control of carious lesions: A study based on preliminary experiments with resorcinol-formaldehyde resin. J Dent Res, 1976, 55:812-818]; 문헌[Davila JM 등, Adhesive penetration in human artificial and natural white spots. J Dent Res, 1975, 54:999-1008]; 문헌[Gray GB and Shellis P. Infiltration of resin into white spot caries-like lesions of enamel: An in vitro study. Eur J Prosthodont Restor Dent, 2002, 10:27-32]; 문헌[Garcia-Godoy F 등, Caries progression of white spot lesions sealed with an unfilled resin. J Clin Pediatr Dent, 1997, 21:141-143]; 문헌[Robinson C 등, In vitro studies of the penetration of adhesive resins into artificial caries-like lesions. Caries Res, 2001, 35:136-141]; 및 문헌[Schmidlin PR 등, Penetration of a bonding agent into de- and remineralized enamel in vitro. J Adhes Dent, 2004, 6:111-115]을 참고). 전색제(sealant)는 인공 병소의 본체에 거의 완전히 침투하여(문헌[Gray GB and Shellis P. Infiltration of resin into white spot caries-like lesions of enamel: An in vitro study. Eur J Prosthodont Restor Dent, 2002, 10:27 - 32]; 및 문헌[Meyer-Lueckel, H 등, Influence of the application time on the penetration of different adhesives and a fissure sealant into artificial subsurface lesions in bovine enamel. Dent Mater 2006, 22:22-28]을 참고), 병소 내의 접근가능한 세공 부피를 충분히 감소시킬 수 있다는 것을 알게 될 것이다(문헌[Robinson C 등, In vitro studies of the penetration of adhesive resins into artificial caries-like lesions. Caries Res, 2001, 35:136-141]). 더욱이, 전색제는 탈석회화 조건에서 병소의 진행을 추가로 방해할 수 있다는 것을 알게 되었다(문헌[Robinson C 등, Arrest and control of carious lesions: A study based on preliminary experiments with resorcinol-formaldehyde resin. J Dent Res, 1976, 55:812-818]; 문헌[Garcia-Godoy F 등, Caries progression of whit spot lesions sealed with an unfilled resin. J Clin Pediatr Dent, 1997, 21:141-143]; 문헌[Robinson 등, In vitro studies of the penetration of adhesive resins into artificial caries-like lesions. Caries Res, 2001, 35:136-141]; 문헌[Muller J 등, Inhibition of lesion progression by penetration of resins in vitro: Influence of the application procedure. Oper Dent 2006, 31:338-345]; 및 문헌[Paries S 등, Progression of sealed initial bovine enamel lesions under demineralizing conditions in vitro. Caries Res, 2006, 40:124-129]을 참고). 그러나, 자연 법랑질 병소를 전색하는데에 있어서의 문제점들 중 하나는, "허위로 온전한 표면층"이 병소의 우식 본체에 비해 보다 높은 무기질 함량을 갖는다는 것이다. 그 결과, 이러한 층은 전색제가 병소 본체에 침투하는 것을 방해하고 심지어는 장벽으로서 작용할 수 있다. 결국, 표면층은 피상적으로는 전색될 수 있지만, 우식 본체는 수지에 의해 불충분하게 침투될 수 있다. 최악에는, 우식이 "전색물" 아래로 추가로 진행된다. 법랑질 병소 내로의 전색제의 침투를 향상하려는 노력이 이루어져 왔다. 시험관 내 모델에서, 온전한 표면층, 병소 본체 및 진행성 탈석회화 선단부를 갖는 인공 법랑질 병소를 만들었다. 이러한 인공적으로 유도된 병소를 인산으로써 5초 동안 부식시켰더니 보다 깊은 침투깊이가 달성되었음을 알게 되었다(문헌[Gray GB 및 Shellis P. Infiltration of resin into white spot caries-like lesions of enamel: An in vitro study. Eur Prosthodont Restor Dent, 2002, 10:27-32]을 참고). 따라서, 부식을 통한 법랑질 부위의 이러한 전처리 또는 "컨디셔닝"은 생체 내에서 전색제의 침투를 개선할 것이다. 그러나, 인공적으로 유도된 법랑질 병소는, 이것이 규칙적이고 비교적 얇은 "허위로 온전한 표면층"을 갖고 있다는 점에서 자연 병소와 상이하다. 이와 대조적으로, 자연 법랑질 병소는 통상적으로 보다 고도로 석회화된 다양한 두께의 표면층을 보인다. 따라서, 인산으로써 컨디셔닝하는 것이 비록 시험관 내에서는 성공적으로 보이지만, 생체 내에서는 반드시 이점을 제공하는 것은 아니다. WO 00/09030에는 치아에 색을 부여하면서 우식 및 치주 질환으로부터 치아를 보호하는 치아-코팅 방법이 개시되어 있다. 이러한 코팅 방법은 (a) 예를 들면 산 또는 레이저로써 치아를 부식시키는 단계; (b) 부식된 치아에 보호성 물질을 도포하는 단계; 및 (c) 치아를 전색하는 단계로 이루어진다. 산 부식의 경우, 통상적으로 사용되는 물질, 예를 들면 인산, 말레산, 시트르산 및 피루브산이 언급된다. 그럼에도 불구하고, 생체 내 연구에서, 통상적인 접착제를 인산겔로써 전처리된 법랑질 병소에 도포하면 대조군에 비해 우식 진행이 지연된다는 것이 보고되었다(문헌[Martignon 등, Caries Res, 2006, 40:382-388]을 참고). 그러나, 환자들을 단지 2년 동안 모니터링하였고, 성공적인 침투를 분석하기 위해 다소 둔감한 방법인 X-레이 검사를 통해 진단을 수행하였다. 따라서, 심지어는 저자도 시인한 바와 같이, 이러한 연구 결과는 약간 주의해서 보아야 한다. 더욱이, 이러한 초기 성공이 보다 오랜 시간이 지난 후에도 유지될지는 명확하지 않은데, 왜냐하면 약간 피상적인 "전색물"이 생체 내에서의 물리적 하중 때문에 파괴될 수 있기 때문이다. 이전의 연구에서는 접착 목적으로 최적화된 상업적으로 입수가능한 접착제 및 치면열구전색제만이 표면하 법랑질 병소에의 침투에 사용되어 왔다. 이러한 법랑질 병소에 빠르게 침투하도록 최적화된 복합 수지("침투제(infiltrant)")가 보다 우수한 전색 결과를 달성할 수 있다. 이러한 복합 수지를 개발하기 위해서는, 법랑질 병소의 침투 동안에 일어나는 과정을 보다 잘 이해할 필요가 있다. 물리적으로, 다공질 고체(법랑질 병소) 내로 액체(경화되지 않은 수지)가 침투하는 것은 와시번(Washburn) 방정식에 의해 기술된다(하기 수학식 1을 참고). 이러한 방정식은 다공질 고체가 개방 모세관 다발이라고 가정한다(문헌[Buckton G. Interfacial phenomena in drug delivery and targeting. Chur, 1995]을 참고). 이 경우에 액체의 침투는 모세관력에 의해 추진된다. 상기 식에서, d는 액체 수지가 이동한 거리이고, γ는 (공기에 대한) 액체 수지의 표면장력이고, θ는 (법랑질에 대한) 액체 수지의 접촉각이고, η는 액체 수지의 동적점도이고, r은 모세관 (세공) 반경이고, t는 침투시간이다. 와시번 방정식에서 괄호가 쳐진 부분이 침투계수(PC, 수학식 2, 하기 참고)이다(문헌[Fan PL 등, Penetrativity of sealants, J Dent Res, 1975, 54:262-264]을 참고). PC는 공기에 대한 액체의 표면장력(γ), 법랑질에 대한 액체의 접촉각(θ)의 코사인값 및 액체의 동적점도(η)로 이루어진다. 이 계수가 클수록, 액체는 주어진 모세관 또는 다공질 층에 더 빨리 침투한다. 이는, 접촉각의 영향이 비교적 낮은 경우, 높은 표면장력, 낮은 점도 및 낮은 접촉각에서, 높은 PC가 달성될 수 있음을 의미한다. 상기 식에서, PC는 침투계수이고, γ는 (공기에 대한) 액체 수지의 표면장력이고, θ는 (법랑질에 대한) 액체 수지의 접촉각이고, η는 액체 수지의 동적점도이다. 이전에, 상업적인 전색제의 침투계수(PC)와 열구 내로 침투하는 이것의 능력 사이의 양의 상관관계가 밝혀졌다(문헌[O'Brien WJ 등, Penetrativity of sealants and glazes. The effectiveness of a sealant depends on its ability to penetrate into fissures. Oper Dent, 1987, 3:51-56]을 참고). 더욱이, 저점도 전색제는 부식된 법랑질에 도포 시 보다 깊은 침투를 보였다(문헌[Irinoda Y 등, Effect of sealant viscosity on the penetration of resin into etched human enamel. Oper Dent 2000, 25:274-282]을 참고). 그러나, 지금까지의 연구는 우식병소에의 수지 침투에 대한 PC의 영향에 중점을 두지 않았다. 5종의 상업적으로 입수가능한 접착제와 1종의 치면열구전색제의 인공 법랑질 병소로의 침투가 근래 연구의 주제였다(문헌[Meyer-Lueckel, H 등, Influence of the application time on the penetration of different adhesives and a fissure sealant into artificial subsurface lesions in bovine enamel. Dent Mater, 2006, 22:22-28]을 참고). 침투깊이는 침투시간에 따라 달라지는 것 같았다. 이러한 연구에서, 성능이 가장 우수한 상업적으로 입수가능한 물질인 엑사이트(Excite, 등록상표)는 30초 이내에 105 ㎛ 침투하여 인공 법랑질 병소를 완전히 충전하였다. 와시번 방정식(수학식 1을 참고)으로부터 유래된 침투깊이와 침투시간 사이의 제곱 상관관계를 보아, 상업적으로 입수가능한 물질을 자연 병소에 깊이 침투(1000 ㎛ 초과)시키려면, 엄청난 침투시간이 필요하다는 것을 알 수 있다. 이는 보다 빠른 침투 복합체가 필요하다는 것을 강조한다. 그러나, 120 초를 초과하는 도포시간은, 경제상의 이유 때문에, 치과의사의 일상적인 사례에서 사용이 허용되기에 어렵다. 따라서, 우식의 진행을 방해하기 위해서 초기 또는 심지어는 진행된 법랑질 병소를 치료하는 개선된 비-수술적 방법이 여전히 강력히 요구된다. 따라서, 본 발명의 목적은 초기 또는 진행된 법랑질 병소에의 수지의 침투를 개선할 수 있는 방법 및 수단을 제공하는 것이다. 발명의 요약 하기 방정식을 사용하여, 50 ㎝/s 초과의 침투계수를 갖거나 50 ㎝/s 초과의 침투계수를 갖는 저점도 광-경화성 수지를 포함하는, 법랑질에 침투시키기 위한 침투제를 식별하는 방법을 사용함으로써, 본 발명의 목적을 달성한다. 003c#수학식 2003e# 상기 식에서, PC는 침투계수이고, γ는 (공기에 대한) 액체 수지의 표면장력이고, θ는 (법랑질에 대한) 액체 수지의 접촉각이고, η는 액체 수지의 동적점도이다. 한 실시양태에서, 이 방법은 (a) 잠재적 침투제를 제공하고; (b) 잠재적 침투제가 나타내는 접촉각, 표면장력 및 동적점도의 특성값을 결정하고; (c) 상기 결정된 (b)의 특성값에 수학식 2를 적용함으로써 잠재적 침투제의 침투계수를 결정함을 포함한다. 한 실시양태에서, 이 방법은 (d) 침투제가 50 ㎝/s 초과의 침투계수를 갖는 경우 이 잠재적 침투제를 선택함을 추가로 포함한다. 이 방법의 바람직한 실시양태에서, (d)의 선택 작업이 50 ㎝/s 미만의 침투계수를 갖는 기타 잠재적 침투제로부터 잠재적 침투제를 분리함을 포함한다. 대안적인 실시양태에서, 이 방법은 (d) 잠재적 침투제의 경화능을 평가함을 추가로 포함한다. 또다른 대안적인 실시양태에서, 이 방법은 (d) 경화 후 잠재적 침투제의 점조도를 평가함을 포함한다. 또다른 대안적인 실시양태에서, 이 방법은 (d) 잠재적 침투제의 침투지수를 결정함을 포함한다. 또한, 하기 방정식을 사용하여, 50 ㎝/s 초과의 침투계수를 갖거나 50 ㎝/s 초과의 침투계수를 갖는 저점도 광-경화성 수지를 포함하는 침투제를 식별하는 본 발명에 따르는 방법에 의해 식별된 침투제를 사용함으로써, 본 발명의 목적을 달성한다. 003c#수학식 2003e# 상기 식에서, PC는 침투계수이고, γ는 (공기에 대한) 액체 수지의 표면장력이고, θ는 (법랑질에 대한) 액체 수지의 접촉각이고, η는 액체 수지의 동적점도이다. 또한, 비스-GMA, 2,2-비스[4-(2-히드록시-3-메타크릴옥시프로폭시)페닐]프로판; 비스-PMA, 프로폭실화 비스페놀-A-디메타크릴레이트; 비스-EMA, 에톡실화 비스페놀-A-디메타크릴레이트; 비스-MA, 비스페놀-A-디메타크릴레이트; UDMA, 1,6-비스(메타크릴옥시-2-에톡시카르보닐아미노)-2,4,4-트리메틸헥산; UPGMA, 우레탄 비스페놀-A-디메타크릴레이트; TEGDMA, 트리에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트; TEGMMA 트리에틸렌 글리콜 모노메타크릴레이트; TEEGDMA, 테트라에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트; DEGDMA, 디에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트; EGDMA, 에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트; DDDMA, 1,10-데칸디올 디메타크릴레이트; HDDMA, 1,6-헥산디올 디메타크릴레이트; PDDMA, 1,5-펜탄디올 디메타크릴레이트; BDDMA, 1,4-부탄디올 디메타크릴레이트; MBDDMA ½, BDDMA-메탄올-부가물 ½; DBDDMA ½, BDDMA-자동-부가물 ½; PRDMA, 1,2-프로판디올 디메타크릴레이트; DMTCDDA, 비스(아크릴옥시메틸) 트리클로데칸; BEMA, 벤질 메타크릴레이트; SIMA, 3-트리메톡시실란 프로필메타크릴레이트; SYHEMA ½, ½-시클로헥센 메타크릴레이트; TYMPTMA, 트리메틸올프로판 트리메타크릴레이트; MMA, 메틸 메타크릴레이트; MAA, 메타크릴산; 및 HEMA, 2-히드록시에틸 메타크릴레이트로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 저점도 수지를 포함하는 침투제를 사용함으로써, 본 발명의 목적을 달성한다. 한 실시양태에서, 침투제는, CQ, 캄포로퀴논; BL, 벤질; DMBZ, 디메톡시벤조인; CEMA, N-(2-시아노에틸)N-메틸아닐린; DMABEE, 4-N,N-디에틸아미노벤조산 에틸 에스테르; DMABBEE, 4-N,N-디에틸아미노벤조산 부틸 에톡시 에스테르; DMABEHE, 4-N,N-디에틸아미노벤조산 2-에틸헥실 에스테르; DMAEMA, N,N-디에틸 아미노에틸 메타크릴레이트; DEMAEEA, N,N-(비스-에틸메타크릴레이트)-2-에톡시에틸아민; HMBP, 2-히드록시-4-메톡시 벤조페논; TINP, 2(2'-히드록시-5'-메틸페닐) 벤조트리아졸; TIN326, 티누빈(Tinuvin) 326; TIN350, 티누빈 350; TIN328, 티누빈 328; HQME, 히드록시퀴논 모노메틸 에스테르; BHT 2,6-디-t-부틸-4-메틸 페놀; MBP 2,2-메틸렌-비스(6-t-부틸페놀); MBEP, 2,2-메틸렌비스(6-t-부틸-4-에틸페놀); BPE, 벤조산 페닐에스테르; MMMA, 메틸 메타크릴레이트 메탄올 부가물; CA, 캄포르산 무수물; HC ½, 2(3)-엔도-히드록시에피캄포르; TPP, 트리페닐 포스판; TPSb, 트리페닐 스티반; DMDDA, 디메틸 도데실아민; DMTDA, 디메틸 테트라데실아민; DCHP, 디시클로헥실 프탈레이트; DEHP, 비스-(2-에틸헥실)프탈레이트; 및 포름알데히드를 포함하는 군에서 선택된 첨가제를 추가로 포함한다. 한 실시양태에서, 침투제는 50 ㎝/s 초과의 침투계수를 갖거나 50 ㎝/s 초과의 침투계수를 갖는 저점도 광-경화성 수지를 포함한다. 바람직하게는 치과용 복합 수지, 치과용 접착 수지 및/또는 열구 전색 수지를 포함하는 군에서 선택된 1종 이상의 수지 또는 저점도 수지를 포함하는, 50 ㎝/s 초과의 침투계수를 갖거나 50 ㎝/s 초과의 침투계수를 갖는 저점도 광-경화성 수지를 포함하는 침투제를 사용함으로써, 본 발명의 목적을 달성한다. 침투제의 한 실시양태에서, 수지는 메타크릴레이트 및/또는 디메타크릴레이트 및/또는 트리메타크릴레이트를 포함하는 군에서 선택되고, 바람직하게는 비스-GMA, 2,2-비스[4-(2-히드록시-3-메타크릴옥시프로폭시)페닐]프로판; 비스-PMA, 프로폭실화 비스페놀-A-디메타크릴레이트; 비스-EMA, 에톡실화 비스페놀-A-디메타크릴레이트; 비스-MA, 비스페놀-A-디메타크릴레이트; UDMA, 1,6-비스(메타크릴옥시-2-에톡시카르보닐아미노)-2,4,4-트리메틸헥산; UPGMA, 우레탄 비스페놀-A-디메타크릴레이트; TEGDMA, 트리에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트; TEGMMA 트리에틸렌 글리콜 모노메타크릴레이트; TEEGDMA, 테트라에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트; DEGDMA, 디에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트; EGDMA, 에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트; DDDMA, 1,10-데칸디올 디메타크릴레이트; HDDMA, 1,6-헥산디올 디메타크릴레이트; PDDMA, 1,5-펜탄디올 디메타크릴레이트; BDDMA, 1,4-부탄디올 디메타크릴레이트; MBDDMA ½, BDDMA-메탄올-부가물 ½; DBDDMA ½, BDDMA-자동-부가물 ½; PRDMA, 1,2-프로판디올 디메타크릴레이트; DMTCDDA, 비스(아크릴옥시메틸) 트리클로데칸; BEMA, 벤질 메타크릴레이트; SIMA, 3-트리메톡시실란 프로필메타크릴레이트; SYHEMA ½, ½-시클로헥센 메타크릴레이트; TYMPTMA, 트리메틸올프로판 트리메타크릴레이트; MMA, 메틸 메타크릴레이트; MAA, 메타크릴산; 및 HEMA, 2-히드록시에틸 메타크릴레이트를 포함하는 군에서 선택된다. 바람직한 실시양태에서, 메타크릴레이트는 산기, 바람직하게는 카르복실산기, 포스폰산기, 인산기, 술폰산기 또는 붕산기를 갖는 단량체를 포함한다. 이러한 한 예는 MDP, 10-메타크릴로일데실디히드로젠 포스페이트이다. 바람직한 실시양태에서, 침투제는 경화를 위한 1종 이상의 첨가제를 추가로 포함한다. 첨가제들을 조합하여 1-성분 침투제 또는 2-성분 침투제를 제조할 수 있다. 첨가제는 광-경화성 및/또는 자체-경화성 침투제를 제공할 수 있다. 보다 바람직한 실시양태에서, 첨가제는 CQ, 캄포로퀴논; BL, 벤질; DMBZ, 디메톡시벤조인; CEMA, N-(2-시아노에틸)N-메틸아닐린; DMABEE, 4-N,N-디에틸아미노벤조산 에틸 에스테르; DMABBEE, 4-N,N-디에틸아미노벤조산 부틸 에톡시 에스테르; DMABEHE, 4-N,N-디에틸아미노벤조산 2-에틸헥실 에스테르; DMAEMA, N,N-디에틸 아미노에틸 메타크릴레이트; DEMAEEA, N,N-(비스-에틸메타크릴레이트)-2-에톡시에틸아민; HMBP, 2-히드록시-4-메톡시 벤조페논; TINP, 2(2'-히드록시-5'-메틸페닐) 벤조트리아졸; TIN326, 티누빈 326; TIN350, 티누빈 350; TIN328, 티누빈 328; HQME, 히드록시퀴논 모노메틸 에스테르; BHT 2,6-디-t-부틸-4-메틸 페놀; MBP 2,2-메틸렌-비스(6-t-부틸페놀); MBEP, 2,2-메틸렌비스(6-t-부틸-4-에틸페놀); BPE, 벤조산 페닐에스테르; MMMA, 메틸 메타크릴레이트 메탄올 부가물; CA, 캄포르산 무수물; HC ½, 2(3)-엔도-히드록시에피캄포르; TPP, 트리페닐 포스판; TPSb, 트리페닐 스티반; DMDDA, 디메틸 도데실아민; DMTDA, 디메틸 테트라데실아민; DCHP, 디시클로헥실 프탈레이트; DEHP, 비스-(2-에틸헥실)프탈레이트; 및 포름알데히드를 포함하는 군에서 선택된다. 이러한 첨가제는 광-경화성 침투제를 제공한다. 대안적인 바람직한 실시양태에서, 첨가제는 유기산 또는 이것의 염을 포함하는 군에서 선택되고, 바람직하게는 술핀산 및 이것의 염, 바르비투르산 및 이것의 염, 및 바르비투르산 유도체를 포함하는 군에서 선택된다. 술핀산염의 예는 알칼리금속염, 예를 들면 리튬, 나트륨 또는 칼륨 염; 알칼리토금속염, 예를 들면 마그네슘, 칼슘, 스트론튬 또는 바륨 염; 아민염, 예를 들면 메틸아민, 에틸아민, 프로필아민, 부틸아민, 아닐린, 톨루이딘, 페닐디아민 또는 자일릴렌디아민 기를 갖는 1차 아민염, 예를 들면 디메틸아민, 디에틸아민, 디프로필아민, 디부틸아민, 피페리딘, N-메틸아닐린, N-에틸아닐린, 디페닐아민 또는 N-메틸톨루이딘기를 갖는 2차 아민염, 및 트리메틸아민, 트리에틸아민, 피리딘, N,N-디메틸아닐린, N,N-디(베타-히드록시에틸)아닐린, N,N-디에틸아민, N,N-디메틸톨루이딘, N,N-디에틸톨루이딘 또는 N,N-(베타-히드록시에틸)톨루이딘기를 갖는 3차 아민염, 또는 암모늄염, 예를 들면 테트라메틸 암모늄, 테트라에틸 암모늄, 테트라프로필 암모늄 또는 트리메틸벤질 암모늄염이다. 보다 바람직한 실시양태에서, 술핀산은 알칸 술핀산, 지환족 술핀산 및 방향족 술핀산을 포함하는 군에서 선택된다. 특히 바람직한 실시양태에서, 알칸 술핀산은 에탄 술핀산, 프로판 술핀산, 헥산 술핀산, 옥탄 술핀산, 데칸 술핀산 및 도데칸 술핀산을 포함하는 군에서 선택된다. 또다른 특히 바람직한 실시양태에서, 지환족 술핀산은 시클로헥산 또는 시클로옥탄 술핀산이다. 또다른 특히 바람직한 실시양태에서, 방향족 술핀산은 벤젠 술핀산, o-톨루엔 술핀산, p-톨루엔 술핀산, 에틸벤젠 술핀산, 데실벤젠 술핀산, 도데실벤젠 술핀산, 클로로벤젠 술핀산 및 나프탈렌 술핀산을 포함하는 군에서 선택된다. 벤젠 술핀산염의 예는 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 칼슘, 스트론튬, 바륨, 부틸아민, 아닐린, 톨루이딘, 페닐렌디아민, 디에틸아민, 디페닐아민, 트리에틸아민, 암모늄, 테트라메틸암모늄 및 트리메틸벤질암모늄 염이다. o-톨루엔 술핀산염의 예는 리튬, 나트륨, 칼륨, 칼슘, 시클로헥실아민, 아닐린, 암모늄 및 테트라에틸암모늄염이다. p-톨루엔 술핀산염의 예는 리튬, 나트륨, 칼륨, 칼슘, 바륨, 에틸아민, 톨루이딘, N-메틸아닐린, 피리딘, 암모늄 및 테트라메틸암모늄 염이다. 베타-나프탈렌 술핀산염의 예는 나트륨, 스트론튬, 트리에틸아민, N-메틸톨루이딘, 암모늄 및 트리메틸벤질암모늄염이다. 가장 특히 바람직한 방향족 술핀산염은 소디움 벤젠 술피네이트 및 소디움 톨루엔 술피네이트이다. 보다 바람직한 실시양태에서, 바르비투르산은 1,3,5-트리메틸 바르비투르산, 1,3,5-트리에틸바르비투르산, 1,3-디메틸-5-에틸 바르비투르산, 1,5-디메틸 바르비투르산, 1-메틸-5-에틸 바르비투르산, 1-메틸-5-프로필 바르비투르산, 5-에틸 바르비투르산, 5-프로필 바르비투르산, 5-부틸 바르비투르산, 5-메틸-1-부틸 바르비투르산, 1-벤질-5-페닐 바르비투르산, 및 1-시클로헥실-5-에틸 바르비투르산을 포함하는 군에서 선택된다. 또한, 이러한 바르비투르산의 알칼리금속염도 고려된다. 추가의 대안적으로 바람직한 실시양태에서, 첨가제는 과황산염 및 유기 과산화물을 포함하는 군에서 선택된다. 과황산염 및 과산화물을 바람직하게는 침투제의 사용 전에 침투제와 혼합한다. 유기 과산화물의 예는 디아세틸 퍼옥사이드, 디프로필 퍼옥사이드, 디부틸 퍼옥사이드, 디카프릴 퍼옥사이드, 디라우릴 퍼옥사이드, BPO, 디벤조일 퍼옥사이드, p,p'-디클로로 벤조일 퍼옥사이드, p,p'-디메톡시 벤조일 퍼옥사이드, p,p'-디메틸 벤조일 퍼옥사이드 및 p,p'-디니트로 디벤조일 퍼옥사이드이다. 침투제의 바람직한 실시양태에서, 저점도 수지는 22 ％의 비스-GMA, 2,2-비스[4-(2-히드록시-3-메타크릴옥시프로폭시)페닐]프로판; 67 ％의 TEGDMA, 트리에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트; 10 ％의 에탄올; ＞1 ％의 DABE, 에틸 4-(디메틸아미노)벤조에이트, 및 ＞1 ％의 캄포르퀴논을 포함한다. 또한, 우식병소의 예방 및/또는 치료를 필요로 하는 환자의 우식병소를 예방 및/또는 치료하는데 사용되는 의약품의 제조에 본 발명의 침투제를 사용함으로써, 본 발명의 목적을 달성한다. 또한, 약 1 내지 30 ％(w/w)의 염산, 바람직하게는 약 5 내지 15 ％(w/w)의 염산을 포함하는 겔을 기재로 하는, 우식병소의 예방 및/또는 치료를 필요로 하는 환자의 우식병소를 예방 및/또는 치료하기 위한 의약품의 제조에 염산을 사용함으로써, 본 발명의 목적을 달성한다. 또한, (a) 염산을 포함하는 컨디셔너; 및 (b) 침투제를 포함하는, 법랑질 침투 키트를 사용함으로써, 본 발명의 목적을 달성한다. 한 실시양태에서, 키트는 (c) 보다 높은 점도의 광-경화성 단량체 혼합물을 추가로 포함한다. 키트의 한 실시양태에서, 컨디셔너(a)는 약 1 내지 30 ％(w/w)의 염산, 바람직하게는 약 5 내지 15 ％(w/w)의 염산을 포함하는 겔을 기재로 한다. 키트의 한 실시양태에서, 침투제(b)는 본 발명에 따르는 침투제이다. 한 실시양태에서, 키트는 1개 이상의 도포 스트립 및/또는 1개 이상의 세정 스트립 및/또는 분리 수단을 추가로 포함한다. (a) 염산을 포함하는 컨디셔너를 포함하는 도포 스트립; (b) 침투제를 포함하는 도포 스트립; 및 (c) 1개 이상의 세정 스트립을 포함하는, 법랑질 침투 키트를 사용함으로써, 본 발명의 목적을 달성한다. 한 실시양태에서, 키트는 (d) 보다 높은 점도의 광-경화성 단량체 혼합물을 포함하는 도포 스트립을 추가로 포함한다. 한 실시양태에서, 키트는 (e) 분리 수단을 추가로 포함한다. 키트의 한 실시양태에서, 컨디셔너(a)는 약 1 내지 30 ％(w/w)의 염산, 바람직하게는 약 5 내지 15 ％(w/w)의 염산을 포함하는 겔을 기재로 한다. 키트의 한 실시양태에서, 침투제(b)는 본 발명에 따르는 침투제이다. (a) 침투될 법랑질 부위를 염산을 포함하는 컨디셔너에 노출시키는 단계; (b) 단계(a)에서 컨디셔닝된 법랑질 부위를 침투제에 노출시키는 단계; 및 (c) 침투제를 경화시키는 단계를 포함하는, 법랑질 침투 방법을 사용함으로써, 본 발명의 목적을 달성한다. 한 실시양태에서, 컨디셔너는 약 1 내지 30 ％(w/w)의 염산을 포함하는 겔을 기재로 한다. 바람직한 실시양태에서, 컨디셔너는 약 5 내지 15 ％(w/w)의 염산을 포함하는 겔을 기재로 한다. 추가의 실시양태에서, 컨디셔너는 글리세롤, 고도로 분산된 이산화규소 및 메틸렌블루를 포함하는 군에서 선택된 첨가제를 추가로 포함한다. 한 실시양태에서, 침투제는 1종 이상의 저점도 수지를 포함한다. 바람직한 실시양태에서, 저점도 수지는 비스-GMA, 2,2-비스[4-(2-히드록시-3-메타크릴옥시프로폭시)페닐]프로판; 비스-PMA, 프로폭실화 비스페놀-A-디메타크릴레이트; 비스-EMA, 에톡실화 비스페놀-A-디메타크릴레이트; 비스-MA, 비스페놀-A-디메타크릴레이트; UDMA, 1,6-비스(메타크릴옥시-2-에톡시카르보닐아미노)-2,4,4-트리메틸헥산; UPGMA, 우레탄 비스페놀-A-디메타크릴레이트; TEGDMA, 트리에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트; TEGMMA 트리에틸렌 글리콜 모노메타크릴레이트; TEEGDMA, 테트라에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트; DEGDMA, 디에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트; EGDMA, 에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트; DDDMA, 1,10-데칸디올 디메타크릴레이트; HDDMA, 1,6-헥산디올 디메타크릴레이트; PDDMA, 1,5-펜탄디올 디메타크릴레이트; BDDMA, 1,4-부탄디올 디메타크릴레이트; MBDDMA ½, BDDMA-메탄올-부가물 ½; DBDDMA ½, BDDMA-자동-부가물 ½; PRDMA, 1,2-프로판디올 디메타크릴레이트; DMTCDDA, 비스(아크릴옥시메틸) 트리클로데칸; BEMA, 벤질 메타크릴레이트; SIMA, 3-트리메톡시실란 프로필메타크릴레이트; SYHEMA ½, ½-시클로헥센 메타크릴레이트; TYMPTMA, 트리메틸올프로판 트리메타크릴레이트; MMA, 메틸 메타크릴레이트; MAA, 메타크릴산; 및 HEMA, 2-히드록시에틸 메타크릴레이트를 포함하는 군에서 선택된다. 특히 바람직한 실시양태에서, 저점도 수지는 폴리메타크릴산 및 이것의 유도체를 포함하는 군에서 선택된다. 가장 바람직한 실시양태에서, 저점도 수지는 비스-GMA, 2,2-비스[4-(2-히드록시-3-메타크릴옥시프로폭시)페닐]프로판; UDMA, 1,6-비스(메타크릴옥시-2-에톡시카르보닐아미노)-2,4,4-트리메틸헥산; TEGDMA, 트리에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트; 및 HEMA, 2-히드록시에틸 메타크릴레이트를 포함하는 군에서 선택된다. 추가의 실시양태에서, 침투제는 CQ, 캄포로퀴논; BL, 벤질; DMBZ, 디메톡시벤조인; CEMA, N-(2-시아노에틸)N-메틸아닐린; DMABEE, 4-N,N-디에틸아미노벤조산 에틸 에스테르; DMABBEE, 4-N,N-디에틸아미노벤조산 부틸 에톡시 에스테르; DMABEHE, 4-N,N-디에틸아미노벤조산 2-에틸헥실 에스테르; DMAEMA, N,N-디에틸 아미노에틸 메타크릴레이트; DEMAEEA, N,N-(비스-에틸메타크릴레이트)-2-에톡시에틸아민; HMBP, 2-히드록시-4-메톡시 벤조페논; TINP, 2(2'-히드록시-5'-메틸페닐) 벤조트리아졸; TIN326, 티누빈 326; TIN350, 티누빈 350; TIN328, 티누빈 328; HQME, 히드록시퀴논 모노메틸 에스테르; BHT 2,6-디-t-부틸-4-메틸 페놀; MBP 2,2-메틸렌-비스(6-t-부틸페놀); MBEP, 2,2-메틸렌비스(6-t-부틸-4-에틸페놀); BPE, 벤조산 페닐에스테르; MMMA, 메틸 메타크릴레이트 메탄올 부가물; CA, 캄포르산 무수물; HC ½, 2(3)-엔도-히드록시에피캄포르; TPP, 트리페닐 포스판; TPSb, 트리페닐 스티반; DMDDA, 디메틸 도데실아민; DMTDA, 디메틸 테트라데실아민; DCHP, 디시클로헥실 프탈레이트; DEHP, 비스-(2-에틸헥실)프탈레이트; 및 포름알데히드를 포함하는 군에서 선택된 첨가제를 추가로 포함한다. 또한, 우식병소의 예방 및/또는 치료를 필요로 하는 환자의 우식병소를 예방 및/또는 치료하는데에 본 발명에 따르는 법랑질 침투 방법을 사용함으로써, 본 발명의 목적을 달성한다. 한 실시양태에서, 적용대상은 포유동물, 바람직하게는 인간이다. 적어도 (a) 염산을 포함하는 컨디셔너; 및 (b) 침투제를 포함하는, 법랑질 침투 키트를 사용함으로써, 본 발명의 목적을 달성한다. 한 실시양태에서, 컨디셔너는 약 1 내지 30 ％(w/w)의 염산을 포함하는 겔을 기재로 한다. 바람직한 실시양태에서, 컨디셔너는 약 5 내지 15 ％(w/w)의 염산을 포함하는 겔을 기재로 한다. 추가의 실시양태에서, 컨디셔너는 글리세롤, 고도로 분산된 이산화규소 및 메틸렌블루를 포함하는 군에서 선택된 첨가제를 추가로 포함한다. 한 실시양태에서, 침투제는 1종 이상의 저점도 수지를 포함한다. 바람직한 실시양태에서, 저점도 수지는 비스-GMA, 2,2-비스[4-(2-히드록시-3-메타크릴옥시프로폭시)페닐]프로판; 비스-PMA, 프로폭실화 비스페놀-A-디메타크릴레이트; 비스-EMA, 에톡실화 비스페놀-A-디메타크릴레이트; 비스-MA, 비스페놀-A-디메타크릴레이트; UDMA, 1,6-비스(메타크릴옥시-2-에톡시카르보닐아미노)-2,4,4-트리메틸헥산; UPGMA, 우레탄 비스페놀-A-디메타크릴레이트; TEGDMA, 트리에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트; TEGMMA 트리에틸렌 글리콜 모노메타크릴레이트; TEEGDMA, 테트라에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트; DEGDMA, 디에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트; EGDMA, 에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트; DDDMA, 1,10-데칸디올 디메타크릴레이트; HDDMA, 1,6-헥산디올 디메타크릴레이트; PDDMA, 1,5-펜탄디올 디메타크릴레이트; BDDMA, 1,4-부탄디올 디메타크릴레이트; MBDDMA ½, BDDMA-메탄올-부가물 ½; DBDDMA ½, BDDMA-자동-부가물 ½; PRDMA, 1,2-프로판디올 디메타크릴레이트; DMTCDDA, 비스(아크릴옥시메틸) 트리클로데칸; BEMA, 벤질 메타크릴레이트; SIMA, 3-트리메톡시실란 프로필메타크릴레이트; SYHEMA ½, ½-시클로헥센 메타크릴레이트; TYMPTMA, 트리메틸올프로판 트리메타크릴레이트; MMA, 메틸 메타크릴레이트; MAA, 메타크릴산; 및 HEMA, 2-히드록시에틸 메타크릴레이트를 포함하는 군에서 선택된다. 특히 바람직한 실시양태에서, 저점도 수지는 폴리메타크릴산 및 이것의 유도체를 포함하는 군에서 선택된다. 가장 바람직한 실시양태에서, 저점도 수지는 비스-GMA, 2,2-비스[4-(2-히드록시-3-메타크릴옥시프로폭시)페닐]프로판; UDMA, 1,6-비스(메타크릴옥시-2-에톡시카르보닐아미노)-2,4,4-트리메틸헥산; TEGDMA, 트리에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트; 및 HEMA, 2-히드록시에틸 메타크릴레이트를 포함하는 군에서 선택된다. 추가의 실시양태에서, 침투제는 CQ, 캄포로퀴논; BL, 벤질; DMBZ, 디메톡시벤조인; CEMA, N-(2-시아노에틸)N-메틸아닐린; DMABEE, 4-N,N-디에틸아미노벤조산 에틸 에스테르; DMABBEE, 4-N,N-디에틸아미노벤조산 부틸 에톡시 에스테르; DMABEHE, 4-N,N-디에틸아미노벤조산 2-에틸헥실 에스테르; DMAEMA, N,N-디에틸 아미노에틸 메타크릴레이트; DEMAEEA, N,N-(비스-에틸메타크릴레이트)-2-에톡시에틸아민; HMBP, 2-히드록시-4-메톡시 벤조페논; TINP, 2(2'-히드록시-5'-메틸페닐) 벤조트리아졸; TIN326, 티누빈 326; TIN350, 티누빈 350; TIN328, 티누빈 328; HQME, 히드록시퀴논 모노메틸 에스테르; BHT 2,6-디-t-부틸-4-메틸 페놀; MBP 2,2-메틸렌-비스(6-t-부틸페놀); MBEP, 2,2-메틸렌비스(6-t-부틸-4-에틸페놀); BPE, 벤조산 페닐에스테르; MMMA, 메틸 메타크릴레이트 메탄올 부가물; CA, 캄포르산 무수물; HC ½, 2(3)-엔도-히드록시에피캄포르; TPP, 트리페닐 포스판; TPSb, 트리페닐 스티반; DMDDA, 디메틸 도데실아민; DMTDA, 디메틸 테트라데실아민; DCHP, 디시클로헥실 프탈레이트; DEHP, 비스-(2-에틸헥실)프탈레이트; 및 포름알데히드를 포함하는 군에서 선택된 첨가제를 추가로 포함한다. 또한, 우식병소의 예방 및/또는 치료를 필요로 하는 환자의 우식병소를 예방 및/또는 치료하는데에 법랑질 침투 키트를 사용함으로써, 본 발명의 목적을 달성한다. 한 실시양태에서, 적용대상은 포유동물, 바람직하게는 인간이다. 또한, 키트의 제조 방법을 사용함으로써, 본 발명의 목적을 달성한다. 또한, 우식병소를 예방 및/또는 치료를 위한 의약품의 제조에 염산을 사용함으로써, 본 발명의 목적을 달성한다. 한 실시양태에서, 의약품은 약 1 내지 30 ％(w/w)의 염산을 포함하는 겔을 기재로 한다. 바람직한 실시양태에서, 의약품은 약 5 내지 15 ％(w/w)의 염산을 포함하는 겔을 기재로 한다. 추가의 실시양태에서, 의약품은 글리세롤, 고도로 분산된 이산화규소 및 메틸렌블루를 포함하는 군에서 선택된 첨가제를 추가로 포함한다. 또한, 의약품의 제조 방법을 사용함으로써, 본 발명의 목적을 달성한다. 또한, 1종 이상의 저점도 수지를 포함하는 침투제를 사용함으로써, 본 발명의 목적을 달성한다. 한 실시양태에서, 저점도 수지는 비스-GMA, 2,2-비스[4-(2-히드록시-3-메타크릴옥시프로폭시)페닐]프로판; 비스-PMA, 프로폭실화 비스페놀-A-디메타크릴레이트; 비스-EMA, 에톡실화 비스페놀-A-디메타크릴레이트; 비스-MA, 비스페놀-A-디메타크릴레이트; UDMA, 1,6-비스(메타크릴옥시-2-에톡시카르보닐아미노)-2,4,4-트리메틸헥산; UPGMA, 우레탄 비스페놀-A-디메타크릴레이트; TEGDMA, 트리에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트; TEGMMA 트리에틸렌 글리콜 모노메타크릴레이트; TEEGDMA, 테트라에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트; DEGDMA, 디에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트; EGDMA, 에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트; DDDMA, 1,10-데칸디올 디메타크릴레이트; HDDMA, 1,6-헥산디올 디메타크릴레이트; PDDMA, 1,5-펜탄디올 디메타크릴레이트; BDDMA, 1,4-부탄디올 디메타크릴레이트; MBDDMA ½, BDDMA-메탄올-부가물 ½; DBDDMA ½, BDDMA-자동-부가물 ½; PRDMA, 1,2-프로판디올 디메타크릴레이트; DMTCDDA, 비스(아크릴옥시메틸) 트리클로데칸; BEMA, 벤질 메타크릴레이트; SIMA, 3-트리메톡시실란 프로필메타크릴레이트; SYHEMA ½, ½-시클로헥센 메타크릴레이트; TYMPTMA, 트리메틸올프로판 트리메타크릴레이트; MMA, 메틸 메타크릴레이트; MAA, 메타크릴산; 및 HEMA, 2-히드록시에틸 메타크릴레이트를 포함하는 군에서 선택된다. 바람직한 실시양태에서, 저점도 수지는 폴리메타크릴산 및 이것의 유도체를 포함하는 군에서 선택된다. 특히 바람직한 실시양태에서, 저점도 수지는 비스-GMA, 2,2-비스[4-(2-히드록시-3-메타크릴옥시프로폭시)페닐]프로판; UDMA, 1,6-비스(메타크릴옥시-2-에톡시카르보닐아미노)-2,4,4-트리메틸헥산; TEGDMA, 트리에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트; 및 HEMA, 2-히드록시에틸 메타크릴레이트를 포함하는 군에서 선택된다. 추가의 실시양태에서, 침투제는 CQ, 캄포로퀴논; BL, 벤질; DMBZ, 디메톡시벤조인; CEMA, N-(2-시아노에틸)N-메틸아닐린; DMABEE, 4-N,N-디에틸아미노벤조산 에틸 에스테르; DMABBEE, 4-N,N-디에틸아미노벤조산 부틸 에톡시 에스테르; DMABEHE, 4-N,N-디에틸아미노벤조산 2-에틸헥실 에스테르; DMAEMA, N,N-디에틸 아미노에틸 메타크릴레이트; DEMAEEA, N,N-(비스-에틸메타크릴레이트)-2-에톡시에틸아민; HMBP, 2-히드록시-4-메톡시 벤조페논; TINP, 2(2'-히드록시-5'-메틸페닐) 벤조트리아졸; TIN326, 티누빈 326; TIN350, 티누빈 350; TIN328, 티누빈 328; HQME, 히드록시퀴논 모노메틸 에스테르; BHT 2,6-디-t-부틸-4-메틸 페놀; MBP 2,2-메틸렌-비스(6-t-부틸페놀); MBEP, 2,2-메틸렌비스(6-t-부틸-4-에틸페놀); BPE, 벤조산 페닐에스테르; MMMA, 메틸 메타크릴레이트 메탄올 부가물; CA, 캄포르산 무수물; HC ½, 2(3)-엔도-히드록시에피캄포르; TPP, 트리페닐 포스판; TPSb, 트리페닐 스티반; DMDDA, 디메틸 도데실아민; DMTDA, 디메틸 테트라데실아민; DCHP, 디시클로헥실 프탈레이트; DEHP, 비스-(2-에틸헥실)프탈레이트; 및 포름알데히드를 포함하는 군에서 선택된 첨가제를 추가로 포함한다. 또한, 침투제의 제조 방법을 사용함으로써, 본 발명의 목적을 달성한다. 또한, 우식병소의 예방 및/또는 치료를 위한 의약품을 제조하는데에 침투제, 바람직하게는 본 발명에 따르는 침투제를 사용함으로써, 본 발명의 목적을 달성한다. 또한, 의약품의 제조 방법을 사용하여, 본 발명의 목적을 달성한다. 또한, 하기 방정식을 사용하여, 50 ㎝/s 초과의 침투계수를 갖는 침투제, 또는 50 ㎝/s 초과의 침투계수를 갖는 저점도 광-경화성 수지를 포함하는 침투제를 식별하는 방법을 사용함으로써, 본 발명의 목적을 달성한다. 003c#수학식 2003e# 상기 식에서, PC는 침투계수이고, γ는 (공기에 대한) 액체 수지의 표면장력이고, θ는 (법랑질에 대한) 액체 수지의 접촉각이고, η는 액체 수지의 동적점도이다. 또한, 상기 방정식(수학식 2)을 사용하여, 50 ㎝/s 초과의 침투계수를 갖는 침투제, 또는 50 ㎝/s 초과의 침투계수를 갖는 저점도 광-경화성 수지를 포함하는 침투제를 식별하는 방법을 사용하여 식별된 침투제를 사용함으로써, 본 발명의 목적을 달성한다. 또한, 50 ㎝/s 초과의 침투계수를 갖는 침투제, 또는 50 ㎝/s 초과의 침투계수를 갖는 저점도 광-경화성 수지를 포함하는 침투제를 사용함으로써, 본 발명의 목적을 달성한다. 바람직한 실시양태에서, 50 ㎝/s 초과의 침투계수를 상기 수학식 2를 사용하여 결정한다. 특히 바람직한 실시양태에서, 저점도 수지는 22 ％의 비스-GMA, 2,2-비스[4-(2-히드록시-3-메타크릴옥시프로폭시)페닐]프로판; 67 ％의 TEGDMA, 트리에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트; 10 ％의 에탄올; ＞1 ％의 DABE, 에틸 4-(디메틸아미노)벤조에이트, 및 ＞1 ％의 캄포르퀴논을 포함한다. 또한, 본 발명에 따르는 침투제를 사용하여 우식병소를 예방 및/또는 치료하는 방법을 사용함으로써, 본 발명의 목적을 달성한다. 또한, 우식병소의 예방 및/또는 치료를 위한 의약품을 제조하는데에 본 발명에 따르는 침투제를 사용함으로써, 본 발명의 목적을 달성한다. 또한, (a) 침투될 법랑질 부위를 염산을 포함하는 컨디셔너에 노출시키는 단계; (b) 단계(a)에서 컨디셔닝된 법랑질 부위를, 50 ㎝/s 초과의 침투계수를 갖는 침투제 또는 50 ㎝/s 초과의 침투계수를 갖는 저점도 광-경화성 수지를 포함하는 침투제에 노출시키는 단계; 및 (c) 침투제를 경화시키는 단계를 포함하는 법랑질 침투 방법을, 우식병소의 예방 및/또는 치료를 필요로 하는 환자의 우식병소를 예방 및/또는 치료하는데에 사용함으로써, 본 발명의 목적을 달성한다. 한 실시양태에서, 컨디셔너는 약 1 내지 30 ％(w/w)의 염산을 포함하는 겔을 기재로 한다. 바람직한 실시양태에서, 컨디셔너는 약 5 내지 15 ％(w/w)의 염산을 포함하는 겔을 기재로 한다. 한 실시양태에서, 적용대상은 포유동물, 바람직하게는 인간이다. 또한, (a) 염산을 포함하는 컨디셔너; 및 (b) 50 ㎝/s 초과의 침투계수를 갖는 침투제, 또는 50 ㎝/s 초과의 침투계수를 갖는 저점도 광-경화성 수지를 포함하는 침투제를 포함하는 법랑질 침투 키트를 사용함으로써, 본 발명의 목적을 달성한다. 한 실시양태에서, 컨디셔너는 약 1 내지 30 ％(w/w)의 염산을 포함하는 겔을 기재로 한다. 바람직한 실시양태에서, 컨디셔너는 약 5 내지 15 ％(w/w)의 염산을 포함하는 겔을 기재로 한다. 한 실시양태에서, 키트는 염산 및/또는 침투제를 도포하는 장치를 추가로 포함한다. 본원에서 사용된 "노출"이라는 용어는 법랑질에 컨디셔너 또는 침투제를 제공하는 임의의 절차를 지칭한다. 대개, 단순히 도포함으로써, 예를 들면 펴바름으로써, 노출을 달성할 것이다. 이를 위해서, 키트는 도포를 돕기에 적합한 1개 이상의 장치, 예를 위해 솔, 스폰지, 티슈, 피펫, 주사기 등을 추가로 포함할 수 있다. 본 발명에서는 침투제를 도포하기 전에 컨디셔너를 제거할 수 있다고 생각된다. 따라서, 키트는 이러한 목적에 부합되는 임의의 장치를 추가로 포함할 수 있다. 또한 본 발명에서는 잔여 침투제를 제거할 수 있다고 생각된다. 따라서, 키트는 이러한 목적에 부합되는 임의의 장치를 추가로 포함할 수 있다. 바람직하게는, 컨디셔너는 약 60 내지 300 초 동안 도포된 상태로 있도록 허용되고, 더욱 바람직하게는 컨디셔너는 약 90 내지 120 초 동안 도포된 상태로 있도록 허용된다. 바람직하게는, 침투제는 약 120 초 이하 동안 도포된 상태로 있도록 허용되고, 더욱 바람직하게는 침투제는 약 120 초 동안 도포된 상태로 있도록 허용된다. 가장 바람직하게는, 침투제는 50 ㎝/s 초과의 침투계수를 갖고 60 초 미만 동안 도포된 상태로 있도록 허용된다. 바람직하게는, 침투제는 2번 도포된다. "침투될 법랑질 부위"는 바람직하게는 우식병소를 포함하는 부위이다. 그러나, 이러한 병소를 방지하기 위해서, 즉 예방을 위해서, 임의의 우식 손상이 이러한 부위 내에 없을 수도 있다. 컨디셔너는 대안적으로는 수용액을 기재로 하거나 회반죽 내에 함침될 수도 있다. 본 발명에서는 컨디셔너는 약 40 ％(w/w) 이하, 바람직하게는 약 20 내지 37 ％(w/w)의 범위의 인산을 추가로 포함할 수 있다고 생각된다. "침투제의 경화"를 바람직하게는 광-유도된 중합을 통해 달성한다. 인접면에 접근할 수 있도록, 치아교정용 고무줄을 사용하여 우식 치아들의 분리를 수행할 수 있다. 이러한 기술은 진단 목적으로 문헌에 잘 기록되어 있다. 본 발명에 따르는 수지는 추가로 치과용 접착제 및/또는 치면열구전색제로서 사용되는 것으로 생각된다. 위에서 언급된 상기 수지는, 예를 들면 본 발명의 침투제 내에서, 개별적으로 또는 이것들의 임의의 조합으로서 사용될 수 있다. 침투제의 "침투계수"라는 용어는 다공질 고체(우식병소) 내로 빠르게 침투하는 액체(침투제)의 능력을 지칭한다. 이것은 공기에 대한 표면장력(γ), 고체에 대한 접촉각(θ) 및 동적점도(η)라는 물리적 성질로 이루어진다(수학식 2를 참고). (공기에 대한) 침투제의 "표면장력 γ"이란 표면 상에 얇은 막을 형성하도록 액체-기체 계면 상에서 작용하는 힘을 지칭한다. 이는 분자의 보다 적은 면에서의 인력으로 인해 액체 표면에서 분자의 인력이 증가함으로 인해 생긴다. (법랑질에 대한) 침투제의 "접촉각 θ"라는 용어는 액체의 액적(침투제)과 고체 표면(법랑질) 사이의 계면에서의 접선각(tangent angle)을 지칭한다. 침투제의 "동적점도 η"라는 용어는 힘이 인가된 상태에서 유체의 흐름에 대한 저항력의 척도를 지칭한다. 동적점도는, 유체에 의해 단위 간격이 유지될 때 단위 속도(속도구배 또는 전단속도)에서 하나의 수평면을 다른 수평면에 대해 이동시키는데 필요한, 단위 면적당 접선력(전단응력 또는 접선응력)이다. 결론적으로, 본 발명은 법랑질 병소, 예를 들면 초기 또는 진행된 법랑질 병소에의 침투제의 침투를 개선한다. 종래기술에서는, "허위로 온전한 표면층"을 단지 피상적으로 전색하면서도 병소 본체를 수지에 의해 불충분하게 침투된 상태로 둘 위험을 갖는 법랑질 전색 방법이 있었다. 본 발명에 따르는 방법 및 수단, 예를 들면 컨디셔너 및/또는 침투제 또는 저점도 수지를 사용함으로써, 병소 본체를 전색할 수 있게 된다. 첫째로, 침투될 법랑질 부위를 염산을 포함하는 컨디셔너에 노출시킴으로써, "허위로 온전한 표면층"을 제거하여, 침투제가 우식 부위에 침투하는 것을 매우 용이하게 만든다. 둘째로, 상기에서 언급된 수지는 매우 낮은 점도를 나타내므로, 침투제는 병소의 세공에 용이하게 도달하여 그것을 전색한다. 더욱이, 본 발명은 침투제의 침투계수(PC)를 결정하는 방법을 제공함으로써, 침투제를 식별하여, 우수한 침투성을 갖는 동시에 허용가능한 도포 시간을 갖는 침투제를 제조하게 한다. 상기 방법에 따라 결정된 PC를 근거로, 개선된 침투제, 예를 들면 복합체를 개발할 수 있다. 본 발명에 따르는 방법 및 수단을 사용함으로써, 법랑질 병소의 침습적 치료를 방지할 수 있거나 적어도 지연시킬 수 있다. 전색 요법의 비-수술적 특징 때문에, 환자의 순응도가 상당히 향상될 것이다. 이 방법은 저비용으로 잘 실시된다. 마지막으로, 본 발명의 방법은 우식의 순수한 예방과 침습적 치료를 치료학적으로 연결해줄 수 있다.