퍼지 장치 document_id A220623073899

LSI 등의 반도체 장치를 제조하는 공정에 있어서는 웨이퍼나 유리 기판, 레티클 등은 열화나 변성되지 않도록 보관할 필요가 있다. 예컨대, 웨이퍼의 경우에는 산화를 방지하기 위해서 저산소의 상태에서 보관할 필요가 있고, 또한, 레티클의 경우에는 헤이즈의 성장을 억제하기 위해 수분(H2O)을 배제한 분위기내에서 보관할 필요가 있다. 또한, 웨이퍼 등에 파티클(미소 진애)가 부착되는 것을 가능한 한 회피할 필요가 있다. 따라서, 청정한 기체이며, 또한, 보관 대상에 대응한 가스 종류로 이루어지는 기체가 충만된 용기 내에서 웨이퍼 등을 보관하는 경우가 많다. 그러나, 특허문헌: 일본 특허 공개 2001-31212호 공보에 기재되어 있는 경우와 같이, 보관되어 있는 웨이퍼를 복수개의 용기에 걸쳐서 소팅해야만 하는 경우가 있다. 이러한 경우, 용기를 개방할 필요가 생긴다. 그 때문에, 개방된 용기 내에 청정한 기체를 도입하고, 용기 내를 용기 바깥쪽의 분위기보다 정압으로 해서 높은 청정도를 유지하는 소위 퍼지 처리가 행해진다. 또한, 레티클 등은 비교적 장기간 보관되기 때문에, 밀폐 구조의 용기에서 보관하는 것보다 항상 퍼지 처리가 실시되는 용기에서 보관되는 쪽이 파티클(particle)에 의한 오염이 적은 것이라고 생각되고 있다. 따라서, 항상 청정한 기체로 용기를 계속 퍼지할 수 있는 퍼지 장치 등이 존재하고 있다. 그런데, 종래의 퍼지 장치를 사용하고 있을 경우에 있어서도 보관하고 있는 웨이퍼나 레티클이 파티클에 의해 오염되는 것이 어쩌다 발생되는 것이 알려져 있다. 그리고, 본원 발명자는 예의 연구와 노력의 결과, 어쩌다 발생되는 파티클에 의한 오염이 퍼지 장치에 유래되는 것을 밝혀내기에 이르렀다. 또한, 퍼지 장치가 어느 정도의 기간 사용되고 있지 않았을 경우, 청정한 기체를 용기에 대해서 토출하는 노즐이 파티클에 의해 오염된다. 상기 노즐을 이용해서 용기를 퍼지했을 경우, 사용되고 있지 않는 동안에 노즐에 부착되어 있던 파티클이 용기 내에 침입하여 수용물이 오염되는 것을 발견하였다.