중국, 미국, 한국의 지식재산권 정책 동향과 질적 성장을 위한 제도적 개선 및 발전 과제 doc_id PCY_201906120304541721_3

개혁개방 이후 중국은 경제성장률 연평균 10%를 상회하는 고속성장 시기를 지속하다가 2012년부터 성장률 7%대에 머무르며 저성장시대, 즉 ‘신창타이(新常态)’시대에 돌입하였다. 이에 중국 정부는 2014년부터 신창타이 시대의 돌파를 위해 성장동력 전환, 과학기술 혁신을 추진하며 지속가능한 성장을 모색하고 있다. 2016년은 제13차 5개년 규획(이하 ‘13・5’)이 시작되는 첫 해로, 국무원을 필두로 각 정부기관이 향후 5년간의 주요 계획을 발표하였다. 국무원은 12월 30일 「13 ・5 국가 지식재산권 보호 및 활용 규획(‘十三五’国家知识产权保护和运用规划)」을 제정하여 13・5 기간(2016~2020년)의 발전 목표, 주요 임무, 중점 업무 등을 제시하였다. 해당 기간 동안 국무원은 지식재산권 법률제도 완비, 신흥 분야에 대한 지식재산권 보호수준 향상, 지식재산권 강성(强省), 강시(强市), 강기업(强企) 육성을 중점적으로 추진할 계획이다. 동 규획은 지식재산권 분야에서는 처음으로 중국 정부의 국가급 주요 규획에 들어간 것이라는 점에서 큰 의미가 있다. 중국 정부는 지식재산권을 중시하고 보호하는 인식의 확산을 위하여 전방위적인 노력을 기울이고 있다. 대표적으로 청소년 지식재산권 교육사업과 지식재산권 홍보주간 활동을 꼽을 수 있다. 국가지식산권국은 2016년 9월에 「전국 지식재산권 법치홍보교육 제7차 5개년 규획(2016~2020년)」을 제정하여 지식재산권 법치홍보교육의 업무계획을 수립하였다. 동 규획은 전국 지식산권국 직원의 법치소양 향상 및 전 국민의 인식제고를 목적으로 하고 있으며, 교육의 대상을 지식산권국 지도간부・직원・청소년으로 구분하여 대상별 교육내용을 세분화하였다. 특히 국가지식산권국은 전국 초・중학교 지식재산권 교육 시범학교를 선정하여 청소년의 인식 제고 및 혁신활동을 적극 장려하고 있다. 2016년 9월 개최한 ‘전국 초・중학교 지식재산권 교육 연구토론 강습회’에서 지식재산권 교육 교사의 역량 강화와 커리큘럼 및 교재의 체계화를 추진하겠다고 밝힌 바 있다. 이밖에도 중국 정부는 기업의 해외진출 지원 및 국제협력 강화를 통해 국제사회에서의 영향력을 더욱 확대하였다. 2016년 중국 국가지식산권국(SIPO)에 접수된 PCT 국제출원은 약 4만 5,000건으로 전년대비 47.3% 증가하여 역대 가장 높은 수치를 기록하였다. 중국의 마드리드 국제 상표출원은 3,014건을 기록하여 처음으로 전체 마드리드 가입국 중에서 5위를 차지하였다. 중국은 상위 10개국 중 가장 높은 증가율인 29.8%를 기록하며 성장 가능성을 증명하였다. 중국 국무원은 2016년 12월에 제정하여 2017년 1월에 발표한 「13・5 국가 지식재산권 보호 및 활용 규획(‘十三五’国家知识产权保护和运用规划)」에서 ‘세계 수준의 지식재산권 강국 건설’과 ‘지식재산권 국제영향력 확대’를 핵심 과제로 설정하였다. 이렇듯 중국의 지속적인 성장에도 불구하고 여전히 양적 성장과 질적 성장의 불균형, 낮은 보호수준 등의 한계가 존재하는 가운데 향후 중국이 어떻게 한계를 돌파하여 ‘지식재산권 강국 건설’이라는 목표를 달성해낼지 그 귀추가 주목된다. 2016년 미국은 친(親) 지식재산 정책 기조를 유지하면서 특허권 남용 및 부실특허의 방지를 위한 지식재산 제도 개선을 이어갔다. 2011년 미국 「개정 특허법(Leahy-Smith America Invents Act, 이하 ‘AIA’)」은 60년 만의 대대적인 특허법 개정이었음에도 불구하고 여전히 특허괴물에 의한 빈번한 특허소송이 사회적 문제로 인식되고 있어 특허법 개정이 필요하다는 주장이 계속되고 있다. 이에 따라 미국은 지식재산 보호 및 집행을 강화하는 한편, 지식재산 제도가 부실특허를 양산하여 혁신 및 기술 진보를 저해하는 방향으로 악용되지 않도록 특허품질 향상 방안을 모색하고 지식재산 제도 개선을 추진하였다. 2016년 미국 지식재산 정책에 있어 가장 큰 특징은 「영업비밀보호법(Defend Trade Secrets Act of 2016, S.1890, 이하 ‘DTSA’)」의 시행이다. DTSA는 영업비밀에 대한 보호 수준을 한층 강화했을 뿐만 아니라 기존 미국 영업비밀 보호 법체계를 획기적으로 변화시켰다. 2015년 7월 29일에 발의된 DTSA는 2016년 5월 11일, 오바마 대통령이 서명함으로써 법률로 확정(Public Law No: 114-153)되어 시행되었다. 종래 미국에서는 특허권・상표권・저작권이 연방법에 의해 보호되는 반면, 영업비밀은 1차적으로 연방법이 아닌 주법에 의해 규율되고 있었다. 즉, 「통일영업비밀법 (Uniform Trade Secrets Act, 이하 ‘UTSA’)」에 기초한 각 주의 영업비밀보호법에 의해 보호되고 있는데, UTSA는 영업비밀 침해에 대한 형사적 제재를 규정하고 있지 않기 때문에 일반적으로 주법 차원의 영업비밀 보호는 민사적 구제에 한정된 것으로 이해되어왔다. 영업비밀 보호를 위한 연방법으로 「경제스파이법(The Economic Espionage Act, 이하 ‘EEA’)」을 두고 있으나, 이는 영업비밀 침해에 대한 형사적 제재를 규정한 것이다. 이는 곧 영업비밀 침해에 대한 민사적 구제를 위해서는 연방법원이 아닌 주법원에만 소를 제기할 수 있으며, 적용되는 주법에 따라 동일한 사안에서 서로 다른 결과가 도출될 수 있음을 의미한다. 우선 영업비밀 침해 행위 등에 대하여 벌금액을 종전의 10배(5,000만 원→5억 원)로 상향하고, 이에 대한 양형기준 역시 상향 조정할 수 있도록 하였다. 특히, 악의적인 영업비밀 침해행위에 대하여 징벌적인 손해배상제도를 도입하기로 하였다. 또한, 기존의 경우 영업비밀 유출과 관련한 재판이 진행될 때 ‘영업비밀의 특성상 외부로 공개가 되면 안 된다’는 이유로 증거제출을 강제하기 어려웠으나, 일정 조건하에 영업비밀이라도 증거제출 의무를 부과하고 이에 불응할 시 제재효를 도입하여 실손해를 보전할 수 있도록 하였다. 아울러, 중소기업의 기술유출 피해를 최소화하기 위하여 신속한 대응이 매우 중요하다는 인식하에 중소기업 기술유출 사건에 대하여 신속하게 재판이 진행될 수 있도록 ‘집중 심리제’를 도입하고, 관련 가처분 사건이 적시에 처리될 수 있도록 법원에 기술전문인력을 보강하도록 하였다. 또한, 시간・비용적으로 효율적인 분쟁조정제도를 활성화하기 위하여 현재 3개 부 처가 각각 운영 중인 분쟁조정위원회에 대하여 통합 사무국을 운영하여 수요자의 편의성을 제고하며, ‘피신청인의 성실응소의무’ 조항을 신설하도록 하였다. 정부 R&D 투자가 2009년 12조 3,000억 원에서 2015년 18조 9,000억 원으로 늘어나는 등 지속적 확대에 힘입어 특허 출원 및 등록 등의 양적 규모는 세계적인 수준에 이르렀으나, 대부분의 국내 기업은 기술수지 적자, 기술보유비용 증가 등의 문제를 겪고 있으며, 특허의 질적 수준은 상대적으로 낮은 것이 현실이다. 따라서 R&D 전(全)주기에 걸쳐서 특허정보를 전략적으로 활용함으로써 우수한 특허를 창출하고 R&D의 중복투자를 방지하여 정부 R&D의 효율성을 제고할 수 있는 특단의 대책이 필요하다. 또한 기초연구의 지원확대로 SCI 논문 수는 2000년 세계 16위(1만 3,459편)에서 2013년 세계 12위(5만 1,051편)로 도약하여 양적인 성과는 확대되었으나, 안정적인 연 구를 선호하는 분위기로 인해 창의적인 지식재산을 창출하는 데는 한계가 있다. 따라서 기초연구의 질적 수준을 향상시키고, 창의적이고 과감한 문제에 도전할 수 있는 연구문화 조성을 통해서 우수한 지식재산을 창출할 수 있는 기반을 마련하는 것이 중요하다.