문맥 (context)
[청구항 1]
중간 순수층의 대향면에 작동 가능하게 연관된 하나의 p-형층과 하나의 n-형층을 포함하는 3층 유니트를 적어도 2개 가지는 직렬형비결정 광전지를 연속적으로 생산하기 위한 다수의 체임버 장치에 있어서
기질재료(11); 각3조의 단부에 p-형(16a-c) 및 n-형(20a-c)층의 용착 및 가 전지 유니트에 3개의 용착층을 제공하기 위해 각 3조의 p-형 및 n-형층 사이에 순수층(18a-c)의 용착을 위해 연속적으로 배열되는 직렬전지(10)의 각 3층 유니트를 위한 용착 체임버(28,30,32,34,36,38) 의 3조
용착 체임버의 각 3조를 통해 기질재료를 연속적으로 이동시키기 위한 장치(60)
기질재료와 미리 용착된 층위에 3층의 유니트의 연속층을 용착시키기 위한 장치
층의 3조의 각 층을 용착시키도록 이 안에 미리 선정된 반응가스 혼합물을 유입시키기 위해 용착 체임버의 3조의 각 체임버와 작동적으로 연관된 장치
체임버의 선행하는 3조 각기의 제3체임버(32)중의 가스 혼합물과 인접하여 뒤따르는 체임버의 3조 각기의 제1체임버(28)중의 가스 혼합물이 서로 오염되는 것을 방지하기 장치(40)
체임버의 각 3조의 제2체임버중의 가스 혼합물과 체임버의 각 3조의 제1과 제3 체임버중의 가스혼합물을 격리시키기 위한 장치(58d, 58e, 58h, 58i)로 구성되어 3개의 비결정층으로 구성된 연속적인 3층 유니트를 가지는 다수의 직렬 광전지가 기질 재료위에 연속적으로 생산되는 것을 특징으로 하는 직렬형비결정 광전지를 연속적으로 생산하기 위한 장치
[청구항 2]
제1항에 있어서,직렬형 광전지를 연속적으로 제조하기 위해 하부 콘베이어 벨트 장치에 의해 용착 체임버의 각 3조를 통해 운반되는 기질재료(11)의다수불연속판제공되어있는것을특징으로 하는장치.
[청구항 3]
제1항에 있어서,용착체임버의 각 3조가 수평으로 배열되고, 기질재료(11)이 용착체임버의 각 3조를 통해 연장된 웹을 포함하고; 기질의 웹에 대한 공급장치가 수평선의 인접하는 한쪽 단부에 제공되고; 그리고 기질의 웹에 대한 수거장치가 수평선의 인접하는 다른쪽단부제공되는것을특징으로 하는장치.
[청구항 4]
제1항내지 제3항중어느 하나에 있어서 2개의 3층 전지 유니트가 기질재료(11)에 용착되는 반면, 제2의 3층유니트가 제1의 3층 유니트에 중첩되며; 6개의 용착체임버(28,30,32,34,36,38)가 비결정층(16a-c, 18a-c, 20a-c)을 연속적으로 용착하도록 배열되고; 반응가스 혼합물이 제1(38) 및 제4(34) 용착체임버에 제공되는 제1 가스 혼합물, 제2(30) 및 제5(36) 용착 체임버에 제공되는 제2가스 혼합물과 제3(32)과 제6(38) 용착 체임버에 제공되는제3가스혼합물포함하는것을특징으로 하는장치.
[청구항 5]
제4항에 있어서,반응가스 혼합물이 적어도 실리콘을 함유하며 제2(30) 및 제5(36) 용착 체임버에 도입되고; 적어도 실리콘과 p-형 도우판트를 함유하는 반응가스 혼합물이 제1(28) 및 제4(34) 용착체임버에 도입되고; 적어도 실리콘 n-형 도우판트를 함유하는 반응하그 혼합물이 제3(32) 및 제6(38)용착체임버도입되는것을특징으로 하는장치.
[청구항 6]
제4항 또는 제5항 중 어느 하나에 있어서,질소 가스를 도입하므로써 각 용착 체임버를 세척하기 위한수단갖는것을특징으로 하는장치.
[청구항 7]
제3항 내지 6항중 어느 하나에 있어서,기질재료(11)가 약 1ft/min의 일정속도와 약10psi의 작동 압력하에서 용착체임버(28,30,32,34,36,38)를 통해구동되는것을특징으로 하는장치.
[청구항 8]
제1항 내지 7항중 어느 하나에 있어서,체임버(28,30,32,34,36,38)가 약 0.5토르의진공압력유지되는것을특징으로 하는장치.
[청구항 9]
제1항 내지 8항중 어느 하나에 있어서,상호 오염방지 장치와 격리장치가 각 용착 체임버(28,30,32,34,36,38)의 입구 및 출구단부에 제공된 일정방향의 가스통로와 기질재료(11)의 웹을 통과하도록 구조 및 배열되어 인접 체임버 사이에서 가스 혼합물이 상호 누출되는 것을 방지하는가스통로갖는것을특징으로 하는장치.
[청구항 10]
제9항에 있어서,가스 통로와 용착 체임버가 기질재료(11)가 장치(26)을 통해 이동할 때 기질(11)을 승온으로 유지하기 위해다수의가열장치갖는것을특징으로 하는장치
[청구항 11]
제10항에 있어서,가열장치(84,86a-j)가 전원 열전쌍(87)과 열전쌍 제어기(89)에 연결되므로써 기질(11)의 온도가계속모니터제어되는것을특징으로 하는장치.
[청구항 12]
제1항내지 11항중어느 하나에 있어서 용착 체임버(28,30,32,34,36,38)을온도유지되는것을특징으로 하는장치.
[청구항 13]
제1항 내지 12항중 어느 하나에 있어서,용착수단이 각용착체임버연결되는것을특징으로 하는장치.
[청구항 14]
제13항에 있어서 각 용착 체임버와 연결된 용착수단은 음극(88a-h), 고주파 발생기(92a-h)와 동조기(90a-h)를 포함하는 글로우 방전 용착 수단을 가지므로반응가스혼합물해리되는것을특징으로 하는장치.
[청구항 15]
제14항에 있어서,음극 길이가 기질(11)에 용착하도록 선택되며; 제1 용착체임버(28)에서 약 50-200å의 p-형층(16a-c); 제2 용착체임버(30)에서 약 2000-3000å의 순수층(18a-c) ; 제3 용착체임버(32)에서 약 50-150å의 n-형층(20a-c);제5용착체임버(36)에서 약 1000å의 순수층(18a-c)과 제6 용착체임버(38)에서 약 50-100å의 n-형층갖는것을특징으로 하는장치.
[청구항 16]
제15항에 있어서,용착 체임버의 음극에 약 13.56mhz의 주파수로전원공급되는것을특징으로 하는장치.
[청구항 17]
제16하에 있어서
제1 용착체임버(28)의 음극(88b)의 길이가 약 30인치이고
제2 용착체임버(30)의 음극(88c, 88d) 길이가 약 100인치이며
제3(34) 및 제4(36) 용착체임버의 음극(88e-f) 길이가 약 12인치이며
제5 용착체임버(36)의 음극(88g) 길이가 약 30인치이며
제6 용착체임버(38)의 음극(88h) 길이가 약 12인치 인것을 특징으로 하는 장치
[청구항 18]
제17항에 있어서,제2 용착체임버의 음극이 각 고주파 발생기(92c, 92d)와 각튜너(90c,90d)에 연결된다수의음극포함하는것을특징으로 하는장치.
[청구항 19]
제1항에 있어서,3개의 3층 전지유니트가 기질(11)에 용착되고, 제3의 3층 유니트는 제2의 3층 유니트에 중첩되고 제2의 3층 유니트도 제1의 3층 유니트에 중첩되고; 9개의 용착 체임버(28,30,32,34,36)가 비결정층(16a-c, 18a-c, 20a-c)을 연속적으로 용착하기 위해 직렬로 배열되고; 반응가스 혼합물이 제1(28), 제4(34) 및 제7 용착 체임버에 제공되는 제1 가스혼합물, 제2(30), 제5(36) 및 제8 용착체임버에 제공되는 제2 가스 혼합물과 제3(32), 제6(38) 및 제9 용착 체임버에 제공되는제3가스혼합물포함하는것을특징으로 하는장치.
[청구항 20]
제19항에 있어서,상호 오염방지 장치가 적어도 2개의 격리 체임버(40)를 갖고, 2개의 격리 체임버중 하나는 제3 및 제4 용착 체임버를 격리하고, 또 다른 격리 체임버는 제6 및 제7 용착체임버를 격리하여가스혼합물의상호오염방지하는것을특징으로 하는장치.
[청구항 21]
제19항 또는 20항중 어느 하나에 있어서,적어도 실리콘을 함유하는 반응가스 혼합물이 제2(30), 제5(36) 및 제8 용착체임버에 도입되고; 적어도 실리콘과 p-형 도우판트를 함유하는 반응가스 혼합물이 제1(28), 제4(34) 및 제7 용착 체임버에 도입되고; 적어도 실리콘 n-형 도우판트를 함유하는 반응가스 혼합물이 제3(32), 제6(38)및제9용착체임버도입되는것을특징으로 하는장치.
[청구항 22]
제20항 또는 21항중 어느 하나에 있어서,및 제8 용착체임버에 도입되는 것과 똑같은 가스를 격리 체임버(40)에 공급하기 위한장치갖는것을특징으로 하는장치.
[청구항 23]
제1항, 19항, 20항, 21항 또는 22항중 어느 하나에 있어서,제1 용착체임버(28)에 작동적으로 연결된 청소 체임버(46)와, 용착 체임버(28,30,32,34,36,38)에 도입되기 전 청소 체임버를 연속적으로 통과하는 기질(11)과, 그리고 청소 체임버에 작동적으로 위치한 기질을 청소하기 위한 장치를 갖고 있어 기질에용착전청소되는것을특징으로 하는장치.
[청구항 24]
제23항에 있어서,청소장치가 아르곤과 수소를 청소 체임버에 도입하기 위한장치포함하는것을특징으로 하는장치.
[청구항 25]
제23항 또는 24항 중 어느 하나에 있어서,연속적 웹인 기질(11)이 공급심(60a)에 권취되고; 용착 장치도 공금심이 고정되는 회전제공측(60b)을 포함하고; 제공축이 기질 공급 체임버(50) 내에 위치하고; 공급 체임버가 청소 체임버(46)과 제1 용착 체임버(28)에작동적연결되는것을특징으로 하는장치.
[청구항 26]
제25항에 있어서,기질 이동장치(60)가 최종용착 체임버(38)에 작동적으로 연결되는 수거 체임버(52)내에 위치한 회전식 수거축(60b); 수거축에 고정되는 기질 수거심(60c); 그리고 용착 체임버를 통해 수거측으로부터 기질을 연속적으로 이동할 수 있도록 수거축을 연속적으로 회전하기 위한장치포함하는것을특징으로 하는장치.
[청구항 27]
제26항에 있어서,공급 체임버(50)가 기질(11)을 제1 용착체임버(28)로 향하게 하기 위한 제공아이들러 로울러(66a)를 포함하고; 수거 체임버(52)는 기질을 수거축(60d)로 향하게 하기 위한 수거 아이들러 로울러(66d)를 구동하기 위해 제공되고; 수거축을 회전하기 위한 장치가전동기포함하는것을특징으로 하는장치.
[청구항 28]
제27항에 있어서,전동기(60g, 66g, 66e, 66g)가 제공축(60b), 제공 아이들러 로울러(66a)와 수거 아이들러 로울러(66d)를 구동하기 위해 제공되고; 수거축을 회전하기 위한 장치가전동기포함하는것을특징으로 하는장치.
[청구항 29]
제28항에 있어서,전동기(60e, 66g, 66e, 66g)가 인장하에서 체임버(28,30,32,34,36,38)를 통해 기질(11)을 이동시키기 위해 선택적으로 조절할 수있는것을특징으로 하는장치.
[청구항 30]
제26내지 29항중 어느 하나에 있어서
기질(11)의 웹이 기질을 제1 용착체임버(28)로 향하게 하기 위한 용착 체임버(28,30,32,34,36,38)의 수직선 앞에 위치한 제1회전 로울러(66a)에 유도되고
기질의 웹은 기질을 수거 아이들러 로울러(66d)로 향하게 하기 위한 용착 체임버의 수평선 다음에 위치한 제2회전 로울러(66b)에 유도되고
제1 회전 로울러가 제1 용착체임버(28)과 청소 체임버(46)사이에서 작동적으로 연결된 제공된 기질을 유도하는 체임버(42) 내에 위치하고
제2회전 로울러는 제6 용착체임버(38)과 작동적으로 연결된 용착 후의 기질을 유도하는 체임버(44)내에 위치하는 것을 특징으로 하는 장치
[청구항 31]
제30항에 있어서,수거심(60c)에 기질을 귄취하기전 기질(11)을 냉각하기 위해 용착후의 기질을 유도하는 체임버(44)와 수거 체임버(52)에 작동적으로 연결되고 그 사이에 위치한냉각체임버갖는것을특징으로 하는장치.
[청구항 32]
제30항에 있어서,회전 로울러 사이에 연장된 기질(11)이 웹이 낮게 늘어지는 형태를 갖고; 제공된 기질을 유도하는 체임버(42), 격리 체임버(40), 용착 후의 기질을 유도하는 체임버(44)와 용착 체임버(28,30,32,34,36,38)의 높이가 늘어진 기질 재료 웹을 수용하기 위해연속적되는것을특징으로 하는장치.
[청구항 33]
제31항에 있어서,용착 체임버 제공된 기질을 유도하는 체임버(42)와 용착후의 기질을 유도하는 체임버(44)가 약 0.6토르의 진공 압력에서 유지되고; 제1(28), 제3(32), 제4(34) 및 제6(38) 용착 체임버가 약 0.55토르의진공압력유지되는것을특징으로 하는장치.
[청구항 35]
제34항에 있어서,청소 체임버(46)의 음극에 약 10khz의 주파수로전원공급되는것을특징으로 하는장치.
[청구항 36]
제30항에 있어서,용착 체임버(28,30,32,34,36,38)에 공급되는 반응가스를 수용하기 위해다수의가스실린더갖는것을특징으로 하는장치.
[청구항 37]
제36항에 있어서,수소, 메탄, 수소화 게르마늄, 게르마늄 테트라플루오라이드, 실란, 실리콘 테트라플루오라이드, 포스핀, 디보란, 질소 및 아르곤중 하나를 함유하는적어도각각의가스실린더제공되어있는것을특징으로 하는장치.
[청구항 38]
제37항에 있어서,반응가스 혼합물을 용착 체임버(28,30,32,34,36,38)에 도입하기전 선결된 비율로 반응가스를 혼합하기 위한 장치와 체임버로 도입되는 반응가스 혼합물의 유속을 고정하기 위해 조절 가능한밸브장치갖는것을특징으로 하는장치.
[청구항 39]
제36항 내지 38항중 어느 하나에 있어서,체임버를 배기된 상태로 유지하고 인접 체임버 사이에 서로 다른 압력을 유지하기 위하여 반응가스 혼합물 도입 장치와 상호 작용되고 있는 장치(26)의 용착 체임버(28,30,32,34,36,38)에 작동적으로 연결된펌프시스템갖는것을특징으로 하는장치.
[청구항 40]
제39항에 있어서,펌프 시스템이 공급체임버(50), 청소 체임버(46) 및 제공된 기질을 유도하는 체임버(42)에 진공을 형성시키기 위한 제1펌프 스테이션(a); 제1(28) 및 제4(34) 용착 체임버에 진공을 형성하기 위한 제2 펌프스테이션(b); 제2(30 및 제5(36) 용착체임버에 진공을 형성하기 위한 제3 펌프스테이션(c); 제3(32) 및 제6(38) 용착 체임버에 진공을 형성하기 위한 제4 펌프스테이션(d)과 수거체임버(52), 냉각 체임버(48) 및 용착 후의 기질을 유도하는 챔버에 진공을 형성하기 위한제5펌프장소갖는것을특징으로 하는장치.
[청구항 41]
제40항에 있어서,펌프 시스템이 용착 체임버(28,30,32,34,36,38) 및 차동 증폭기(da1-da7)에 작동적으로 각각 연결된 다수의 압력계와 다수의 차동 증폭기를 가지므로 인접 체임버 사이의 압력차가 측정될 수있는것을특징으로 하는장치.
[청구항 42]
제41항에 있어서,펌프 시스템이 수거 체임버(52)에 작동적으로 연결된 계량 밸브(136a)와 차단 밸브(136b)와, 용착 체임버(28,30,32,34,36,38) 각각에 작동적으로 연결된 계량 밸브(132a,134a,138a,140a,142a,144a)와 차단 밸브(132b 134b,138b,140b,142b,144b)와; 각 체임버에 도입되는 반응가스 혼합물의 흐름을 조절하기 위한 계량밸브와 차단 밸브와; 그리고 각 쌍의 계량밸브와 차단밸브에 작동적으로 연결된 체임버를 배기시키기 위한펌프장치갖는것을특징으로 하는장치.
[청구항 43]
제42항에 있어서,압력계(d1-d7)와 차동 증폭기(da1-da7)가 인접한 체임버(28,30,32,34,36,38)사이에서 선결된 압력차를 유지하기 위해 차단 밸브(132b 134b,138b,140b,142b,144b)와 계량밸브(132a,134a,138a,140a,142a,144a)에작동적연결되는것을특징으로 하는장치.
[청구항 44]
제43항에 있어서,펌프 스테이션(a-e)이 체임버(28,30,32,34,36,38)로부터 배출된 유독성 가스를 정화하기 위한 하향식 세정기(148)에작동적연결되는것을특징으로 하는장치.
[청구항 45]
제26항 내지 제44항중 어느 하나에 있어서,기질의 용착 표면을 덮지 않고 기질(11)을 제공축(60b)에 인접한 위치로부터 용착 체임버(28,30,32,34,36,38)를 통해 수거축(60d)에 인접한 위치까지 자동적으로 이동시키기 위한자동이송장치갖는것을특징으로 하는장치.
[청구항 46]
제45항에 있어서,자동 이송장치가 제공축(60q)에 인접한 로울러(62c)로부터 용착 체임버(28,30,32,34,36,38)를 통해 수거축(60d)에 인접한 로울러(62f)까지 연장되고 간격을 두고 연결된 다수의 스트랜드(62l,62m)를 갖는 가요성 밸트(62g)와; 기질(11)의 도입선단이 고정될 수 있는 표면을 제공하고 신장된 스트랜드와 결합하는 적어도 2개의 횡적 결합 링크(62n, 62p, 62q)와; 벨트위의 링크를 수거축에 인접한 로울러로부터 수거축에 인접한 로울러까지 이동시키기 위한 가역적 구동장치(62a,62d)를 가지므로써, 기질의 도입선단을 구동 수단에 의해 수거축에 인접한 위치까지 자동적으로 이송하기 위해서 그리고 구동수단을 역전하므로써 제공축에 인접한 위치까지 링크를 역전시키기 위해서 링크가 제공축에 인접해 있을 때 기질의 도입선단이 이송벨트의 링크에 고정되고 덮일 수있는것을특징으로 하는장치.
[청구항 47]
제46항에 있어서,링크(62n, 62p, 62q)가 벨트의 스트랜드(62l,62m)를 기질의 폭보다 더 멀리 떨어지게 하므로써 기질이 용착 체임버(28,30,32,34,36,38)를 통과할때 벨트(62g)의 스트랜드가 기질(11)의일부않는것을특징으로 하는장치.
[청구항 48]
제26항 내지 47항중 어느 하나에 있어서,제공축(60b)에 위치한 기질 공급심(60a) 주위에 권취된 기질(11)의 인접층 사이로부터 보호시이팅(64d)를 수용하기 위한 회전 심(64a); 기질이 수거축에 위치한 기질-수용심(60c)에 권취될 때 기질의 인접층 사이에 시이팅을 제공하기 위한 수거축(60d)에 인접한 보호시이팅의 회전공급심(64e); 그리고 기질의 인접층 사이로부터 시이팅을 분리하고, 제공축에 인접한 회전심(60a)에 시이팅을 권취하고; 기질이 수거축 위에서 기질-수용심에 권취될 때 기질의 인접층 사이에 시이팅을 도입하기 위한구동장치갖는것을특징으로 하는장치.
[청구항 49]
제45항 또는 48항중의 어느 하나에 있어서,연속적 웹(11)이 장치(26)의 다수 체임버(28,30,32,34,36,38)를 통한 수평적 이동 경로를 횡단할 때 수평보다 비교적 낮게 늘어지고; 상기 격리장치(58a-j)는 연속적 웹이 통과하도록 되어있고, 장치의 다수 체임버를 통해 이동 경로를 횡단하므로서 연속적 웹이 늘어지는 각을 수평보다 낮은 각을 갖는통로포함하는것을특징으로 하는장치.
[청구항 50]
제49항에 있어서,격리장치(58a-j)가 통로(80)을 통한 반응가스 혼합물의 일정 흐름을 제공하는가스 통로포함하는것을특징으로 하는장치.
[청구항 51]
제49항 또는 50항중의 어느 하나에 있어서,연속적 웹이 장치의 다수 체임버를 통해 이동할 때 웹을 팽팽하게 하기 위해전동기제공되는것을특징으로 하는장치.
[청구항 52]
제1항, 26항, 45항, 48항 또는 49항의 어느 하나에 있어서,용착 체임버(28,30,32,34,36,38)를 통한 기질의 이동에 의해 용착된 반도체층(16a-c,18a-c,20a-c)과 기질(11)에 주위 조건이 영향을 미치지 못하게 하는 수단을 가지므로 정화된 실내 대기가용착공정확산되는것을특징으로 하는장치.
[청구항 53]
제26항, 45항, 48항, 49항 또는 52항중의 어느 하나에 있어서,선결된 홈(home) 위치에 대해 기질(11)의 연속적 웹의 위치를 수용 로울러(60c) 위에 자동적으로 고정 및 유지하기 위한자동조정수단갖는것을특징으로 하는장치.
[청구항 54]
제53항에 있어서,자동 조정수단은 용착 체임버를 통과할때 기질(11)의 웹이 유도되는 조정 가능한 아이들러 로울러(66c); 조정 가능한 로울러 위에서 상기 웹의 선결된 홈 위치에 대해 기질웹의 위치를 연속적으로 모니터 및 지시하고 웹 위치의 지시신호를 발생하는 감지 및 신호수단(237); 그리고 조정 가능한 로울러 위에서 기질 웹의 위치를 조절하기 위해 상기 신호에 감응하는 수단(232,235)을 갖고 있어, 기질의 웹이 선결된 홈 위치에서 일정하게유지되는것을특징으로 하는장치.
[청구항 55]
제54항에 있어서,상기 감응 수단이 감지 및 신호수단(237)으로부터 신호를 받는보조전동기갖는것을특징으로 하는장치.
[청구항 56]
제55항에 있어서,상기 감지 및 신호 수단이 기질(11) 웹의 모서리(206)의 제1면에 있는 빛 방출 다이오우드(252)와 그 반대면에 있는광검출기갖는것을특징으로 하는장치.
[청구항 57]
제56항에 있어서,상기 광방출 다이오우드와 광검출기가 상기 조정 가능한 로울러(66c)의 상향으로인접있는것을특징으로 하는장치.
[청구항 59]
제58항에 있어서,상기 보조 전동기가 대기압 이하에서 작동되는 체임버(44)의 외부에 위치하고, 외부에 위치한 보조 전동기와 내부에 위치한 베어링 지지판 사이를 연결하기 위한 회전식 진공 밀봉체(230)를 포함하고베어링 지지부재의연결수단갖는것을특징으로 하는장치.
[청구항 60]
제3항에 있어서,다수의 용착 체임버(28,30,32,34,36,38)를 통해 기질의 웹을 전진시키는 구동 로울러와 구동 로울러의 회전 반대방향으로 회전하여 기질의 웹이 일정하게 팽팽해지고 웹(11)과 접촉된 인장 로울러; 기질 웹의 인장력을 연속적으로 모니터하기 위한 장치(65,65a); 그리고 기질의 웹의 인장력을 조절하기 위한 인장 로울러와 상호 작동하는장치갖는것을특징으로 하는장치.
[청구항 61]
제60항에 있어서,웹의 인장력을 연속적으로 모니터하기 위한 수단은 로울러의 원주 부분이 기질(11)의 전진 웹과 계속 접촉되는 아이들러 로울러(66b); 아이들러 로울러와 연결되어 전진 웹의 인장력에 의해 로울러에 가해지는 힘을 표시하는 신호가 밸생되는 적어도 하나의 힘 전달기(65); 그리고 힘 전달기에 연결되어 웹 인장력의 크기가 표시되는표시수단갖는것을특징으로 하는장치.
[청구항 62]
제60항 또는 61항중의 어느 하나에 있어서,상기 기질 웹의 인장력을 조절하기 위한 수단이 인장력 로울러(66a)에 연결된 동력학적 브레이크로서 작동하는 전동기 수단(66g); 그리고 전동기 수단에 연결되어 전동기 수단의 토오크가 조절될 수 있는전동기조절수단갖는것을특징으로 하는장치.
[청구항 63]
제1항, 3항, 26항, 45항, 48항, 49항, 52항 또는 60항중의 어느 하나에 있어서,장치의 체임버가 그 사이에 형성된 통로와 상호 연결된 펌프장치를 갖고; 조립체가 인접 체임버(28,30,32,34,36,38) 사이의 통로를 밀봉하도록 되어 있는 격리수단을 갖고 있어 격리된 체임버의 누출 실험을 할 수있는것을특징으로 하는장치.
[청구항 64]
제63항에 있어서,격리수단이 제1 판(290), c-링(292a); 제1판의 한면에 형성되고 c-링을 수용하는 홈(292); 제1판이 위치한 체임버에 인접한 체임버에 위치하고 통로의 크기보다 더 큰 제2 양극판(296); 그리고 제1 및 제2 양극판을 연결하고 인접한 체이버 사이의 통로를 통과하도록 되어 있어 누출실험을 위해 통로가 밀폐되는고정수단갖는것을특징으로 하는장치.
[청구항 65]
제1항, 3항, 26항, 45항, 48항, 49항, 52항, 53항, 60항 또는 63항중의 어느 하나에 있어서,용착 체임버(28,30,32,34,36,38)에서 층을 기질(11)에 용착한 후 분말과 기타 찌꺼기를 포착하는 분말 트랩(37)을 갖고; 트랩은 반응 가스 혼합물이 해리 및 용착수단으로부터 체임버 출구 구멍(33)으로 통과하므로써 반응 가스 혼합물로부터 분말과 기타 용착후의 찌꺼기를 수집하기 위한 수단을 포함하고; 분말 및 찌꺼기 수집 수단이 해리 및 용착 수단의 아래쪽으로 제거 가능하게 인접해 위치하므로써, 비용착 플라즈마, 사용되지 않는 반응 가스 혼합물과 기타 용착후의 찌꺼기로부터 분말과 분진의 일정 부분이 수집 수단에 의해포착되는것을특징으로 하는장치.
[청구항 66]
제65항에 있어서,분말 및 찌꺼기 수집 수단은 반응 가스 혼합물이 강제로 흐르는 다수의 엇갈린차폐판갖는것을특징으로 하는장치.
[청구항 67]
제65항 또는 66항중 어느 하나에 있어서,해리 및 용착 수단이 음극(88)을 포함하고, 분말트랩(37)이 음극이 단부 하부에 제거 가능하게 지지되므로써, 반응 가스 혼합물이 체임버(28,30,32,34,36,38)를 떠나기 전에 분말 트랩을 통해음극으로부터흐르는것을특징으로 하는장치.
[청구항 68]
제1항, 3항, 19항, 26항, 45항, 48항, 49항, 52항, 53항, 60항, 63항 또는 65항중 어느 하나에 있어서,인접한 용착 체임버 사이에 반응 가스 혼합물의 흐름을 방지하기 위해 각 쌍의 인접 용착 체임버(28,30,32,34,36,38) 사이에 위치하고 단부벽에 구멍을 갖는 소형-체임버(304,356); 소형-체임버를 통과하는 기질(11)과 접촉될때 공기와 밀폐되고, 기질-접촉 표면에 비교적 적은 마찰 및 비 마모성을 갖는 물질을 포함하고 각 소형-체임버 구멍에 밀폐된 상태로 위치한 기계적 밀폐장치(300a,300b,350); 불활성 가스를 소형-체임버에 도입하기 위한 수단(306,358); 그리고 불활성 가스와 반응 가스 혼합물을 소형-체임버로부터 배출하기 위한 장치(310,362)를 갖고, 이에 따라 한 용착 체임버(28,30,32,34,36,38)의 반응 가스 혼합물이 인접한용착체임버의반응가스혼합물격리되는것을특징으로 하는장치.
[청구항 69]
제68항에 있어서,하나의 용착 체임버(28,30,32,34,36,38)로부터 누출되는 반응 가스 혼합물이 인접하는 용착 체임버로 확산되기 전에 배출될 수 있도록 소형-체임버가 용량이 큰봉입물인것을특징으로 하는장치.
[청구항 70]
제68항 또는 69항에 있어서,인접 용착 체임버(28,30,32,34,36,38)와 소형-체임버(304,356)에서의 상대 압력은 반응 가스 혼합물이 소형-체임버유지되는것을특징으로 하는장치.
[청구항 72]
제71항에 있어서,로울러 수단(302,356)은 기질(11)의 용착장치(26)을 통해 이동하는 것과 똑같은속도구동되는것을특징으로 하는장치.
[청구항 74]
제73항에 있어서,기질(11)이 로울러 장치(302,352)의 원주에 대해 역으로 이동되며 간격의 너비가 1/8인치이하인것을특징으로 하는장치.
[청구항 75]
기질이 적어도 하나의 비어 있는 용착 체임버를 통해 연속적으로 전진되고
상기 체임버가 기질 위에서 반도체층을 용착하기 위한 글로우 방전 장치를 포함하고
글로우 방전장치가 연신된 음극판, 동조네트웍 및 발전기를 포함하는 계량된 글로우 방전, 조립체에 있어서
일정하고 효율이 높은 반도체층(16a-c,18a-c,20a-c)이 사용된 것 보다 더 낮은 전원과 신장된 단일 음극판와 함께 이용될 수 있는 것보다 더 간단한 동조 네트웍크로 용착될 수 있도록, 불연속 동조 네트웍(90a-h)과 그와 연결된 불역속 발전기(92a-h)를 갖는 다수의 축소된 불연속 음극판(88a-j)을 포함하는 것을 특징으로 하는 계량된 글로우 방전 조립체
[청구항 82]
제62항에 있어서,신장 로울러에 작동적으로 연결된 전동기에 원하는 출력을 제공하기 위해 전원공급을 일정하게 조절하므로써 기질의 웹에 일정한 인장력이 유지될 수있는것을특징으로 하는장치.
[청구항 83]
제82항에 있어서,상기 전원 공급이 전동기로 하여금 일정 수준의 인장력을 75-150kg으로웹조절되는것을특징으로 하는장치.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
격리 장치(58d, 58e, 58h, 58i)는 무엇을 격리하기 위한 장치인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation질문은 격리 장치(58d, 58e, 58h, 58i)가 격리 대상으로 삼는 가스 혼합물의 범위를 확인할 것을 요구한다.
- 체임버의 각 3조의 제2체임버중의 가스 혼합물과 체임버의 각 3조의 제1과 제3 체임버중의 가스혼합물을 격리시키기 위한 장치(58d, 58e, 58h, 58i)로 구성되어 3개의 비결정층으로 구성된 연속적인 3층 유니트를 가지는 다수의 직렬 광전지가 기질 재료위에 연속적으로 생산되는 것을 특징으로 하는 직렬형비결정 광전지를 연속적으로 생산하기 위한 장치
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2정보 추출
information_extraction본문에서 격리 장치가 격리하는 두 대상, 즉 제2체임버의 가스 혼합물과 제1·제3체임버의 가스 혼합물을 포함한 전체 문장을 추출한다.
- 체임버의 각 3조의 제2체임버중의 가스 혼합물과 체임버의 각 3조의 제1과 제3 체임버중의 가스혼합물을 격리시키기 위한 장치(58d, 58e, 58h, 58i)로 구성되어 3개의 비결정층으로 구성된 연속적인 3층 유니트를 가지는 다수의 직렬 광전지가 기질 재료위에 연속적으로 생산되는 것을 특징으로 하는 직렬형비결정 광전지를 연속적으로 생산하기 위한 장치
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3근거 선택
evidence_selection격리 대상 두 그룹을 명시한 문장을 핵심 근거로 선별한다. 문장 전체가 하나의 절로 연결되어 있어 부분 절단 없이 온전한 문장을 유지한다.
- 체임버의 각 3조의 제2체임버중의 가스 혼합물과 체임버의 각 3조의 제1과 제3 체임버중의 가스혼합물을 격리시키기 위한 장치(58d, 58e, 58h, 58i)로 구성되어 3개의 비결정층으로 구성된 연속적인 3층 유니트를 가지는 다수의 직렬 광전지가 기질 재료위에 연속적으로 생산되는 것을 특징으로 하는 직렬형비결정 광전지를 연속적으로 생산하기 위한 장치
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4논리 통합
logical_integration선별된 문장을 통해, 격리 장치는 제2체임버(진성층 형성용)의 가스와 제1·제3체임버(p형·n형층 형성용)의 가스가 섞이지 않도록 작동함을 알 수 있다.
- 체임버의 각 3조의 제2체임버중의 가스 혼합물과 체임버의 각 3조의 제1과 제3 체임버중의 가스혼합물을 격리시키기 위한 장치(58d, 58e, 58h, 58i)로 구성되어 3개의 비결정층으로 구성된 연속적인 3층 유니트를 가지는 다수의 직렬 광전지가 기질 재료위에 연속적으로 생산되는 것을 특징으로 하는 직렬형비결정 광전지를 연속적으로 생산하기 위한 장치
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5결론 도출
conclusion_formulation격리 장치의 격리 대상은 제2체임버 가스 혼합물과 제1·제3체임버 가스 혼합물이라는 결론이 도출된다.
- 체임버의 각 3조의 제2체임버중의 가스 혼합물과 체임버의 각 3조의 제1과 제3 체임버중의 가스혼합물을 격리시키기 위한 장치(58d, 58e, 58h, 58i)로 구성되어 3개의 비결정층으로 구성된 연속적인 3층 유니트를 가지는 다수의 직렬 광전지가 기질 재료위에 연속적으로 생산되는 것을 특징으로 하는 직렬형비결정 광전지를 연속적으로 생산하기 위한 장치
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6답변 생성
answer_generation도출된 결론을 간결한 최종 답변으로 구성한다.
- 체임버의 각 3조의 제2체임버중의 가스 혼합물과 체임버의 각 3조의 제1과 제3 체임버중의 가스혼합물을 격리시키기 위한 장치(58d, 58e, 58h, 58i)로 구성되어 3개의 비결정층으로 구성된 연속적인 3층 유니트를 가지는 다수의 직렬 광전지가 기질 재료위에 연속적으로 생산되는 것을 특징으로 하는 직렬형비결정 광전지를 연속적으로 생산하기 위한 장치
최종 답변 (final_answer)
격리 장치(58d, 58e, 58h, 58i)는 각 3조의 제2체임버 가스 혼합물과 제1·제3체임버 가스 혼합물을 서로 격리하기 위한 장치이다.
핵심 해석 (core_interpretation)
이 격리 장치는 하나의 3조 내부에서 진성층 형성 가스(제2체임버)와 p형·n형층 형성 가스(제1·제3체임버)가 상호 혼입되지 않도록 구획하는 역할을 한다.