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VLSI 화학 반응기 document_id 1019850005295

출원번호
1019850005295
분류
전기(H섹션)
문맥 (context)
[청구항 1] 기판의 오염이 최소가 되게하는 기판을 처리하는데 사용하는 화학반응기에 있어서 소정 방향으로 실질적으로 평편한 기판을 지지하도록된 호울더 상기 기판과 간격을 같고 인접해 위치해 있으며 상기 기판의 평편한 표면에 평행인 실질적으로 평편한 표면을 가진 유체흐름 안내판 처리되는 동안 유체가 모든 상기 갭을 점유하도록 처리되는 동안 상기 안내판을 통하여 유체를 공급하기 위한 흐름제어 수단을 포함하는 수단 상기 안내판과 상기기판사이의 갭을 조정하기 위한 수단 및 상기안내판과 상기 기판 사이에 상대운동을 제공하기 위한 수단으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 화학반응기 [청구항 2] 제 1항에 있어서,상기 운동은 회전운동인것을특징으로 하는화학반응기. [청구항 3] 제 2항에 있어서,상기 기판은 상기 안내과 상대적으로 회전되며 상기 안내판은정지상태유지하는것을특징으로 하는화학반응기. [청구항 4] 제 2항에 있어서,상기 안내판은 상기 기판과 상대적으로 회전되며 상기 안내판은정지상태유지하는것을특징으로 하는화학반응기. [청구항 5] 제 2항에 있어서,상기 기판 및 안내판nan은방향회전되는것을특징으로 하는화학반응기. [청구항 6] 제 1항에 있어서,상기 안내판 또는 상기 기판중 하나가정지상태유지되는것을특징으로 하는화학반응기. [청구항 7] 제 1항에 있어서,상기 기판의 온도를 제어하기 위한수단포함하고있는것을특징으로 하는화학반응기. [청구항 8] 제 7항에 있어서,상기 온도제어 수단은 상기 호울더 내에서 조정된 온도의 유체를 순환시키기위한 위한수단포함하고있는것을특징으로 하는화학반응기. [청구항 9] 제 7항에 있어서,상기 온도제어 수단은 상기 호울더의온도를 제어하기 위한전기수단포함하고있는것을특징으로 하는화학반응기. [청구항 10] 제 9항에 있어서,상기 전기수단은 상기 호울더내에 가열코일과 상기 코일에 전기 에너지를 인가하기 위한수단포함하고있는것을특징으로 하는화학반응기. [청구항 11] 제 9항에 있어서,상기 전기수단은 펜레티어장치포함하고있는것을특징으로 하는화학방응기. [청구항 12] 제 1항에 있어서,상기 안내판은 상기 평편한 표면에 그를 통하여 분산되는 유체의 혼합분배를 증가시키기 위한수단포함하고있는것을특징으로 하는화학반응기. [청구항 13] 제 12항에 있어서,혼합물 증가시키기 위한 상기 수단은 상기 안내판 표면에 외측으로 뻗은홈포함하고있는것을특징으로 하는화학반응기. [청구항 14] 제 12항에 있어서,혼합을 증가시키기 위한 상기 수단은 상기 안내판 표면상에 외측으로 뻗은융기부포함하고있는것을특징으로 하는화학반응기. [청구항 15] 제 1항에 있어서,상기 용체공급 수단은 상기 안내판의 중앙을 통하며 이에 인접한 일 또는 그보다 많은창포함하고있는것을특징으로 하는화학반응기. [청구항 16] 제 15항에 있어서,적어도 상기 창중의 하나는확장분할오리피스포함하고있는것을특징으로 하는화학반응기. [청구항 17] 제 15항에 있어서,적어도 상기 창중의 하나는상기안내판표면제한되는것을특징으로 하는화학반응기. [청구항 18] 제 15항에 있어서,적어도 상기 창중의 하나는 상기 기판을 향해 외측으로 벌어져있는것을특징으로 하는화학반응기. [청구항 19] 제 15항에 있어서,상기 창중 하나는 상기 안내판의 중앙에 있으며 더우기 상기 안내판과 상기 기판사이의 갭에 유체기포가 존재하는 것을 방지하기 위하여 그것의 중앙근처에 상기 안내판을 통하는유체방출채널포함하는것을특징으로 하는화학반응기. [청구항 20] 제 5항에 있어서,상기 안내판과 상기 기판의 회전축이 기포생성을 방지하기편의되어있는것을특징으로 하는화학반응기. [청구항 21] 제 1항에 있어서,더우기 상기 갭내의 유체의 소정매개 변수를 모니터하기 위한수단포함하는것을특징으로 하는화학반응기. [청구항 22] 제 21항에 있어서,더우기 상기 검사된 매개변수에 응하여 상기 안내판을 통하는 유체흐름을 변경하기 위한수단포함하는것을특징으로 하는화학반응기. [청구항 23] 제 21항에 있어서,상기 모니터 수단은 상기 갭으로 광을 향하게하며 상기 갭내의 광을 검출하기 위한수단포함하는것을특징으로 하는화학반응기. [청구항 24] 제 23항에 있어서,상기 광조정 수단은 적오도 상기 안내판의 일부분을 통하는 광로를 설정하기 위한수단포함하는것을특징으로 하는화학반응기. [청구항 25] 제 24항에 있어서,상기 광로설정 수단은 상기 안내판내에 광학적으로 투명한창포함하고있는것을특징으로 하는화학반응기. [청구항 26] 제 1항에 있어서,상기 안내판은 소정파장의 광에 대해광학적투명한것을특징으로 하는화학반응기. [청구항 27] 제 26항에 있어서,더우기 광원과 상기 안내판을 통하여 상기 갭으로 향하게 조정하기 위한수단포함하는것을특징으로 하는화학반응기. [청구항 28] 제 27항에 있어서,상기 광원은 원형이며 상기 안내판위의 중앙에위치있는것을특징으로 하는화학반응기. [청구항 30] 제 29항에 있어서,더우기 최초에는 비교적 큰 갭을 가지나 갭으로 유체가 유입된 후에 갭을 줄여서 갭내에 기포발생을 감소시키는단계포함하는것을특징으로 하는발법. [청구항 31] 제 29항에 있어서,상기 방법은 유체안내판에 대한 기판의 상대운동은 회전운동으로서 rpm이 낮으며, 화학반응을 일으키는 동작유체는 불활성 개스로 대체되며, 안내판과 기판사이의 상대적인 회전속도는 적어도 건조처리 동안의 크기정도 만큼 증가되는건조공정포함하는것을특징으로 하는화학반응기.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
VLSI 화학 반응기에서 기판과 안내판 사이의 갭 내에 유체 기포가 존재하는 것을 방지하기 위해 안내판에 포함되는 구성 요소는 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    VLSI 화학 반응기에서 기판과 안내판 사이의 갭 내 유체 기포 발생을 방지하기 위해 안내판에 포함되는 구성 요소를 찾는 것이다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 19에서 기판과 안내판 사이의 갭에 유체 기포가 존재하는 것을 방지하기 위한 구성을 확인한다.

    • 상기 안내판과 상기 기판사이의 갭에 유체기포가 존재하는 것을 방지하기 위하여
    • 그것의 중앙근처에 상기 안내판을 통하는유체방출채널포함하는것을특징으로 하는화학반응기
  3. 3근거 선택evidence_selection

    기포 방지를 위해 안내판의 중앙 근처에 포함되는 구체적인 구성 요소인 '유체방출채널'을 선택한다.

    • 그것의 중앙근처에 상기 안내판을 통하는유체방출채널포함하는것을특징으로 하는화학반응기
  4. 4논리 통합logical_integration

    청구항 19에 따르면, 안내판의 중앙 근처에 유체방출채널을 포함함으로써 갭 내의 유체 기포 존재를 방지할 수 있음을 알 수 있다.

    • 상기 안내판과 상기 기판사이의 갭에 유체기포가 존재하는 것을 방지하기 위하여 그것의 중앙근처에 상기 안내판을 통하는유체방출채널포함하는것을특징으로 하는화학반응기
  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    질문에 대한 직접적인 답변으로 '유체방출채널'을 도출한다.

  6. 6답변 생성answer_generation

    추출된 핵심 구성 요소를 최종 답변으로 작성한다.

최종 답변 (final_answer)
유체방출채널
핵심 해석 (core_interpretation)
기판과 안내판 사이의 갭 내에 유체 기포가 형성되는 것을 막기 위해 안내판 중앙 근처에 유체방출채널을 배치하는 기술적 구성을 포함한다.