가요성 회로 적층판 및 그의 제조 방법 document_id 1019860005613

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 제1전도성 시이트수단은구리인것을특징으로 하는회로 시이트 물질. [청구항 3] 제1항에 있어서,상기제1의 유리보강된 플루오로중합체 필름층은 테트라 프루오로에틸레(tfe), 헥사플루오로 프로필렌(hfp) 및 피를루오로비릴에테르(pve)의 삼중합체 또는 tfe와 헥사플로오로 프로필렌(hfp)의 공중합체로 이루어지는 군으로부터 선택된 플루오로중합체필름인것을특징으로 하는회로 시이트물질. [청구항 4] 제1항에 있어서,상기제1의 유리보강 프루오로중합체 필름층은 약 4내지 약30중량퍼센트유리갖는것을특징으로 하는회로 시티트물질. [청구항 5] 제4항에 있어서,상기 유리는마이크유리인것을특정으로하는회로 시이트물질. [청구항 6] 제3항에 있어서,상기 제, 의 유리보강된 플루오로 중합체층은 약 4 내지 약30중량퍼센트유리갖는것을특징으로 하는회로 시이트물질. [청구항 7] 제6항에 있어서,상기 유리는마이크유리인것을특징으로 하는회로 시이트 물질. [청구항 8] 제1항에 있어서,상기제1의 유리보강된 플루오로중합체 필름층은 두께가 약25내지사이인것을특징으로 하는회로 시이트물질. [청구항 9] 제1항에 있어서,상기제1의 폴리이미드 필름층의 적어도 한 부분상에 배치된 제2의 유리보강된 플루오로중합체 필름층, 상기 제2의 유리보강된 플루오로중합체 필름층상에 배치된 제2의전도성물질시이트포함하는것을특징으로 하는회로 시이트물질. [청구항 10] 제9항에 있어서,상기 전도성물질은구리인것을특징으로 하는회로 시이트물질. [청구항 11] 제1항에 있어서,상기 제1전도성 시이트수단에 볼때 상기 제1의 유리보강된 플루오로 중합체층의 반대편에 배치된 제3의 유리보강된 플루오로중합체 릴름층, 상기 제3의 유리보강된 플루오로중합체 필름층에 배치된 제2의폴리이미드필름층포함하는것을특징으로 하는회로 시이트물질. [청구항 12] 제9항에 있어서,상기 제1전도성 시이트수단에서 볼때 상기 제1의 유리보강괸 플루오로중합체 층의 반대편에 배치된 제3의 유리보간된 플루오로 중합체층, 상기 제3의 유리보강된 플루오토중합체 필름층에 배치된 제2의폴리이미드필름층포함하는것을특징으로 하는회로 시이트 물질. [청구항 13] 제11항에 있어서,상기제2의 폴리이미드 필름층의 적어도 한 부분에 배치된 제4의 유리보강된 플루오로중합체 필름층, 상기 제4의 유리보강된 플루오로중합체 필름층에 배치된제3전도성물질시이트포함하는것을특징으로 하는회로 시이트물질. [청구항 14] 제13항에 있어서,상기 전도성물질은구리인것을특징으로 하는회로 시이트물질. [청구항 15] 제12항에 있어서,상기제2의 폴리이미드 필름층의 적어도 한 부분에 배치된 제4의 유리보강된 플루오로중합체, 상기 제4의 폴리이미드 필름층의 적어도 한 부분에 배치된 제3의전도성물질시이트포함하는것을특징으로 하는회로 시이트물질. [청구항 34] 제31항에 있어서,상기제2의 폴리이미드필름의 제2의 반대표면을 에칭시키는 단계, 제4의 유리보강된 플루오로중합체 필름층을 상기 제2의 폴리이미드필름의 상기 제2의 반대된 에칭된 표면에 놓는 단계, 그리고 제3의 전도성물질 시이트를 상기 제4의 유리보강된 플루오로중합체필름층놓는것을특징으로 하는가요성 적층판의 제조방법.