가공데이터 · 특허 지식베이스

절연층상에 반도체성 물질층을 결정화하는 방법 및 장치 document_id 1019870010918

출원번호
1019870010918
분류
전기(H섹션)
문맥 (context)
[청구항 1] 내화성 물질면을 갖는 기체(substrate)와, 상기 물질면상에 반도체 물질로 된 필름과, 상기 필름상에 배열된 내화성 물질의 다공성 캐핑층을 구비하며 상기 캐핑층은 가스를 투과할 수 있도록 충분히 다공성인 것을 특징으로 하는 적층체 [청구항 2] 제 1 항에 있어서,핑층은 이론적 밀도의 95%이하의밀도구비하는것을특징으로 하는적층체. [청구항 3] 제 1 항에 있어서,핑층nan은이루어지는것을특징으로 하는적층체. [청구항 4] 제 3 항에 있어서,핑층nan은실리콘의함유량이루어지는것을특징으로 하는적층체. [청구항 5] 제 1 항에 있어서,상기 기체는내화성 물질로이루어지는것을특징으로 하는적층체. [청구항 6] 제 5 항에 있어서,상기 기체는 sio2로이루어지는것을특징으로 하는적층체. [청구항 7] 제 1 항에 있어서,상기 기체는 상기 물질면상에 내화성 물질로 된 장벽층을 갖는비내화성물질로이루어지는것을특징으로 하는적층체. [청구항 13] 제 8 항에 있어서,캐핑층을 용착하는 단계는 캐핑층의 밀도가 이론적 밀도의 약 95% 이하인 상태하에서 캐핑층을 용착하도록 구비되는 것을 특징으로 하는 반도체성 물질로 된 필름의 면평활도증진하는방법.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
청구항 1의 적층체 구성 요소 중 가스 투과가 가능하도록 충분한 다공성을 가져야 하는 층은 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    청구항 1의 적층체 구성 요소 중 가스 투과를 위해 충분한 다공성을 가져야 하는 특정 층을 찾는 것이다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 1에서 적층체의 구성 요소인 기체, 반도체 물질로 된 필름, 내화성 물질의 다공성 캐핑층을 확인한다.

    • 내화성 물질면을 갖는 기체(substrate)와, 상기 물질면상에 반도체 물질로 된 필름과, 상기 필름상에 배열된 내화성 물질의 다공성 캐핑층을 구비하며
    • 상기 캐핑층은 가스를 투과할 수 있도록 충분히 다공성인 것을 특징으로 하는 적층체
  3. 3근거 선택evidence_selection

    가스 투과 및 다공성과 직접적으로 연결된 구성 요소에 대한 설명을 선택한다.

    • 상기 캐핑층은 가스를 투과할 수 있도록 충분히 다공성인 것을 특징으로 하는 적층체
  4. 4논리 통합logical_integration

    캐핑층이 가스를 투과할 수 있도록 충분히 다공성해야 한다는 문맥을 통해 해당 층이 캐핑층임을 도출한다.

    • 상기 캐핑층은 가스를 투과할 수 있도록 충분히 다공성인 것을 특징으로 하는 적층체
  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    가스 투과를 위해 충분한 다공성을 가져야 하는 층은 '캐핑층'이다.

    • 상기 캐핑층은 가스를 투과할 수 있도록 충분히 다공성인 것을 특징으로 하는 적층체
  6. 6답변 생성answer_generation

    질문에 대한 직접적인 답변으로 '캐핑층'을 제시한다.

    • 상기 캐핑층은 가스를 투과할 수 있도록 충분히 다공성인 것을 특징으로 하는 적층체
최종 답변 (final_answer)
캐핑층
핵심 해석 (core_interpretation)
본 발명의 적층체는 가스 투과를 용이하게 하기 위해 충분한 다공성을 갖는 내화성 물질의 캐핑층을 포함하는 구조를 특징으로 한다.