웨이퍼 보유장치 document_id 1019880005178

[청구항 1] 베이스 ; 탄성부재의 한부분에 의하여 분리되어 이들로 부터 연장되는 다수의 핑거를 가지고, 상기 베이스에 부착된 탄성부재 상기 핑거부재를 상기 작업물과의 계합내. 외부로 선택가능하게 이동시키고, 상기 핑거부재를 이동시키도록 탄성부재의 탄성성 성형용 포함수단을 이동시키기 위한 수단으로 구성된 것을 특징으로 하는 작업물을 해탈 가능하게 홀딩시키기 위한 웨이퍼 보유장치 [청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 탄성부재는 상기 핑거부재가 피벗되도록 야기시키는 성형수단에 의하여 상기 탄성부재의 탄성 성형 및, 상기 베이스에 피벗가능하게부착된것을특징으로 하는웨이퍼 보유장치. [청구항 3] 제 1 항에 있어서,상기 핑거부재는 입자발생을 감소시키거나 혹은 상기 핑거의 그립을 개량시키도록 선택된물질피복되는것을특징으로 하는웨이퍼 보유장치. [청구항 4] 제 1 항에 있어서,상기 탄성부재는 간단한폐쇄루우프인것을특징으로 하는웨이퍼 보유장치. [청구항 5] 제 4 항에 있어서,폐쇄부재는원추형링포함하는것을특징으로 하는웨이퍼 보유장치. [청구항 6] 제 4 항에 있어서,폐쇄 루우프는환형링포함하는것을특징으로 하는웨이퍼 보유장치. [청구항 7] 제 1 항에 있어서,제 2 항에 있어서, 상기 베이스는 상기 작업물을 지지하기 위한수단포함하는것을특징으로 하는웨이퍼 보유장치. [청구항 8] 제 7 항에 있어서,상기 작업물은 플랫하고 또한 상기 작업물 지지수단은 플랫면을 가진인자판포함하는것을특징으로 하는웨이퍼 보유장치. [청구항 9] 제 8 항에 있어서,상기 핑거부재는 상기 인자판의 플랫면의 수직에 대해서 경사형성된 상기 플랫 작업물을 접촉시키기 위한내면갖는것을특징으로 하는웨이퍼 보유장치. [청구항 10] 제 9 항에 있어서,상기 핑거는 상기 플랫 작업물의 외부 원주 에지를 매취시키도록 커브 형성된 상기 내면의 한부분갖는것을특징으로 하는웨이퍼 보유장치. [청구항 11] 제 8 항에 있어서,상기 핑거부재는 상기 작업물의 계합시 작업물의 플랫면의 어떤부분접촉하지않는것을특징으로 하는웨이퍼 보유장치. [청구항 12] 제 11 항에 있어서,상기 핑거부재는 상기 평평한 작업물에 대해서 치수형성되어 결국, 상기 인자판에 의하여 지지된 평평한작업물의상면위연장되지않는것을특징으로 하는웨이퍼 보유장치. [청구항 13] 제 8 항에 있어서,상기 인자판은 이것을 통하여 이것의 표면으로 부터 연장되는 다수의 개구를 갖으며, 또한 상기 평평한 작업물을 상기 인자판으로부터 이송시키기 위해서 또한 작업물을 인자판위로 하강시기키 위한 상기 표면근처의 위치로 상기 다수의 이송부재를 개구를 통하여 수축시키기 위한수단을부가포함하는것을특징으로 하는웨이퍼 보유장치. [청구항 14] 제 2 항에 있어서,상기 탄성성형 수단은 상기 탄성부재에 대해서 가압시키기 위한수단포함하는것을특징으로 하는웨이퍼 보유장치. [청구항 15] 제 15 항에 있어서,상기 가압수단은, 작동부재 및, 상기 환형링에 대해서 작동부재를 구동시키기 위한수단포함하는것을특징으로 하는웨이퍼 보유장치. [청구항 16] 베이스; 이들로부터 연장되는 다수의 핑거부재를 가진 탄성부재 상기 탄성부재를 베이스 피벗가능하게 부착시키기 위한 수단 상기 작업물을 상기 제 1 및 제 2 위치중의 하나로 계합시키도록 위치된 상기 핑거부재를 제 1 위치로부터 제 2 위치로 피벗시키도록 상기 탄성부재를 탄성적으로 성형시키기 위한 수단으로 구성된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 보유장치 [청구항 17] 제 16 항에 있어서,상기 피벗가능하게 부착시키기 위한 수단은 상기 베이스 및 지지수단 사이에 위치된탄성부재포함하는것을특징으로 하는웨이퍼 보유장치. [청구항 18] 제 17 항에 있어서,상기 탄성부재는상기베이스부착된것을특징으로 하는웨이퍼 보유장치. [청구항 19] 제 18 항에 있어서,상기 탄성부재는 이것의 에지를 수용하기 위한홈가진것을특징으로 하는웨이퍼 보유장치. [청구항 20] 제 19 항에 있어서,상기 탄성부재는 간단한폐쇄루우프형태갖는것을특징으로 하는웨이퍼 보유장치. [청구항 21] 제 16 항에 있어서,장치가 회전할때 상기 장치에 의하여 유지된 작업물에 의하여 발생된 피벗운동을 상쇄시키도록 선택되어, 상기 탄성부재에 부착된,평형추부재포함하는것을특징으로 하는웨이퍼 보유장치. [청구항 22] 제 16 항에 있어서,상기 베이스 플랫 작업물을 지지하기 위한인자판포함하는것을특징으로 하는웨이퍼 보유장치. [청구항 23] 디스크형 작업물을 인자판의 상면에 수직인 중앙축을 가진 인자판상에 해탈가능하게 보유하기 위한 장치에 있어서 인자판 다수이 핑거부재; 상기 핑거부재 각각의 부분이 상기 인자판의 면위로 연장되도록 인자판에 상기 핑거부재를 부착시키고 또한 상기 핑거부재는 폐쇄위치로 부터 개방위치로 이동시키기 위한 수단을 포함하는데 핑거부재의 상기 부분이 상기 개방위치내에서 보다 폐쇄위치내에서 중앙축에 더욱 인접되는 것을 특징으로 하는 장치 [청구항 24] 제 23 항에 있어서,상기 핑거부재는 상기 폐쇄위치내에서 작업물의 상부 플랫면과 접촉하지 않도록 칫수형성되는것을특징으로 하는장치. [청구항 25] 웨이퍼를 인자판상에 로딩 및 보유시키기 위한 방법에 있어서 상기 23항이 핑거를 개방위치로 이동시키는 공정 웨이퍼를 상기 인자판상에 위치시키기 위한 공정 상기 핑거를 상기 폐쇄위치로 이동시키기 위한 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치 [청구항 26] 축으로부터 고정된 거리에서 상기 청구범위 제2, 16 혹은 21항에서와 같은 다수의 장치를 지지하기 위한 수단 및 상기 축에 대해서 지지하기 위한 상기 수단을 회전시키기 위한 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 베치 프로세스 장치 [청구항 27] 제 26 항에 있어서,상기 다수의 장치를 지지하기 위한 상기 수단은디스크포함하는것을특징으로 하는배치 프로세스 장치. [청구항 28] 제 26 항에 있어서,상기 제 1 축에 수직인 제 2 축에 대해서 지지하기 위한 상기 수단을 회전시키기 위한수단을부가포함하는것을특징으로 하는배치 프로세스 장치.