산화 장치 document_id 1019880010665

[청구항 2] 제 1 항에 있어서,의 가스의 연소실(50)에로의 공급 구조는 제 1의 가스의 공급관(20)내에 제 2의 가스의 공급관(30)을 간격을 형성한 2증관구조인산화 장치. [청구항 3] 제 1 항에 있어서,연소실(50)에서 프로세프 튜우브(11)에로의 수증기의 송출은 파이프(62)로써 행하고, 이 파이프(62)내의 수증기 온도는 상기 연소실(50)에서 발생한 수증기의 온도저온인산화장치. [청구항 4] 제 3 항에 있어서,연소실(50)에서 프로세스 튜우브(11)에로 수증기를 반송하는 파이프(62)는, 연소실(50)의 관축에 대하여 수직인 방향도출되고 있는산화장치. [청구항 5] 제 1 항에 있어서,가열용 히이터(41), (42)는 분할이 가능한 구조터인산화장치. [청구항 6] 제 1 항에 있어서,의 가스중에 적어도 한쪽의 가스는, 연소실 (50)에서 연소화합이 발생하는 온도가열되는산화장치. [청구항 8] 제 1 항에 있어서,분위기 형성수단은, 프로세스 튜우브(11)의 외부에 배치된 연소실(50)내에서, 산소가스, 수소가스를 연소하여 수증기를 생성하고, 이 수증기를 이 프로세스 튜우브(11)의 그 도입구(12)에 공급하는 외부연소장치구성되어 있는산화장치. [청구항 9] 제 8 항에 있어서,분위가 형성수단은, 프로세스 튜우브(11)내에 산소, 수소를 가열하여 연소화합하는 수증기 생성용의 가열수단구성되어 있는산화장치. [청구항 10] 제 8 항에 있어서,외부 연소장치(50)는 산소가스, 수소가스를 독립하여 도입하기 위한 도입관(20),(30)과, 이 각 도입관(20),(30)의 한쪽 또는 양쪽의 주위에 배치되고, 이 도입관(20),(30)내의 가스를 발화점 이상의 온도까지 가열하는 가열수단(40)과, 적어도 어느쪽인가 한쪽이 가열된 산소가스, 수소가스를 도입하여 접촉함으로써, 이들을 연소화합하여 수증기를 생성하는 연소실(50)과, 이 수증기를 프로세스 튜우브(11)의 가스 도입구(12)에 공급하는 공급관(60)과구비하는 것인산화장치. [청구항 11] 제 2 항에 있어서,연소실(50)은 열방출 방지용의 냉각부구비한 것인산화장치. [청구항 12] 제 2 항에 있어서,외부 연소장치(50)로부터의 수증기를 프로세스 튜우브(11)의 위쪽 끝단의 가스 도입구(12)에서 도입하는 구성으로 하고, 또한 이 가스 도입구(12)와 이 외부 연소장치(50)와를 수평관접속하고 있는산화장치. [청구항 13] 제11항에 있어서,수평관(31)의 주위에 수증기의 이슬맺힘 방지용의 가열부배치하고 있는산화장치. [청구항 14] 제 4 항에 있어서,연소실(50)과 수소가스의 도입관(12)과의 사이에 보조연소실개재되어 있는산화장치. [청구항 15] 제13항에 있어서,보조 연소실(71)의 바깥둘레에 히이터형성되어 있는 것인산화장치. [청구항 16] 제13항에 있어서,보조 연소실(71)의 지름이, 산소가스의 도입관(73)의 지름형성되어 있는산화장치. [청구항 17] 제13항에 있어서,수소가스의 도입관의 분사구(72b)가, 아래 방향형성되어 있는산화장치. [청구항 18] 제13항에 있어서,수소가스의 도입관의 중심축(72a)이 연소실(50)의 중심선일치하고 있는산화장치. [청구항 19] 제13항에 있어서,수소가스의 도입관의 중심축(72a)이 연소실(50)의 중심선 (72c)보다 아래쪽위치하고 있는산화장치.