열처리 장치 document_id 1019880014659

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 이동 수단은, 상기 보온 수단을 수평면내에서 회전운동이 가능하게 지지하는 지지부와, 지지부를 회전 운동시키는 회전운동 수단과있는열처리 장치. [청구항 3] 제1항에 있어서,상기 핸들링 수단은, 상기 피처리체를 클램프하기 위한 클램프 부재와, 쿨램프 부재를 상하로 동작 가능하게 지지하는 지지부재와, 지지부재를 상하로 동작시키기 위한 구동 수단과있는열처리 장치. [청구항 4] 제3항에 있어서,상기 핸들링 수단은, 상기 클램프 부재에 글램프된 피처리체를 상기 로(20)의 아래쪽에서 이동 시키거나, 로(20)의 아래쪽에로 이동시키기 위한 피처리체 이동 수단있는열처리 장치. [청구항 5] 제4항에 있어서,상기 피처리체 이동 수단은, 상기 클램프부를 수평면내에서 회전 운동이 가능하게 지지하는 회전 운동 지지부와, 회전 운동 지지부를 회전 운동 시키는 구동 수단과있는열처리 장치. [청구항 6] 제4항에 있어서,상기 후퇴 수단은, 상기 클램프 부를 수평방향을 이동이 가능하게 안내하는 가이 그 부재(61)와, 클램프부를 가이드 부재(61)를 따라 구동시키는 구동 수단있는열처리 장치. [청구항 7] 제3항에 있어서,상기 핸들링 수단은, 상기 클램프부를 수직면내에서 회전 시키는 회전수단있는열처리 장치. [청구항 8] 제1항에 있어서,상기 피처리체가 핸들링 장치에 지지된 상태에서 상기 피처리체를 열처리 장치에로 또는 열처리 장치로부터 반송하는 반송수단있는열처리 장치. [청구항 9] 제8항에 있어서,상기 피처리체는, 복수매의 반도체 웨이퍼를 얹어 실은 보우트 (1)이며, 웨이퍼가 보우트(1)의 길이 방향에 대하여 수직배치되어 있는열처리 장치. [청구항 10] 제9항에 있어서,상기 반송 수단은, 상기 보우트(1)를 반송할때에 상기 보우트(1)를 수직 이외의 각도로 지지가 가능한 보우트 지지부재있는열처리 장치. [청구항 11] 제10항에 있어서,사기 반송 수단은, 상기 보우트 지지수단을 회전 시키는 회전 수단을 갖고 있으며, 이것에 의하여 상기 보우트(1)가 수직 이외의 임의의 각도지지되는열처리 장치. [청구항 12] 제1항에 있어서,상기 로(20)는, 피처리체가 장착되는 프로세스 튜우브(21)와, 프로세스 튜우브(21)의 바깥둘레부에 형성되어, 피처리체를 가열하기 위한 히이터있는열처리 장치. [청구항 13] 제1항에 있어서,상기 핸들링 장치는, 상기 피처리체를 상하로 동작시킴과 동시에, 상기 피처리체를 수직 상태와 수평 상태와의 사이에서 회전운동시키는 이동 수단있는열처리 장치. [청구항 15] 제14항에 있어서,상기 반송수단은, 상기 보우트 이동수단을 회전이 가능하게 지지하는 보우트 지지수단과, 보우트 지지수단을 회전시키는 회전수단을 갖고 있으며, 이것에 의하여 상기 보우트(1)가 수직 이외의 임의의 각도지지되는열처리 장치. [청구항 17] 제15항에 있어서,상기 반송수단은, 상기 보우트 (1)를 그의 아래쪽 끝단이 반송 방향으로 돌출반송하는열처리 장치. [청구항 18] 보우트(1)의 길이 방향에 대하여 수직 상태로 보우트(1)에 배치된 웨이퍼를 열처리하기 위한 열처리로 (20)와, 상기 보우트(1)를 상기로 (20)내에 장착하거나, 로(20)에서 빼내기 위한 붙이고 떼기 수단과, 상기 보우트 (1)를 보호 지지함과 동시에, 상기 보우트(1)를 상기로 (20)의 아래쪽에서 이동 시키거나, 로(20)의 아래쪽에로 이동시키는 보우트 이동 수단과를 갖는 복수개의 열처리 장치 (100)와, 이들 열처리 장치(100)와 다른 공정이 위치와를 연결하는 반송장치(300)와, 를 가지고, 상기 반송장치(300)는, 각 열처리 장치(100)의 반송 수단을 열처리 장치(100)와 다른 공정의 위치와의 사이에서 반송하는 것인 열처리 장치