제어된 가스 분위기 및 강한 레이저 조사에 의해 공작물 표면을 처리하기 위한 유동성 가스 밀폐 장치 및 그 방법 document_id 1019880701057

[청구항 2] 제 1항에 있어서,플랫폼이 상기 기판 유지수단에 구비되어 있으며 (b)상기 플렛폼 상에느 상기 유동성 가스밀폐갭을 변경하기 위하여 상기 유지수단을 이동하는 수단이 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저 조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 3] 제 1항에 있어서,가스흐름 도관은 상기 가스흐름 제어수단과 상기 처리쳄버와의 사이에 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 4] 제 1항에 있어서,상기 처리쳄버를 에워싸고 상기 노출된 기판표면과 상기 밀폐체와의 사이에 유동성 가스밀폐갭을 형성하도록 상기 노출된 기판표면과 일정한 간격이 이루어져 있는 상기 밀폐체의 상기 환상부는 편평하며 상기 노출된 기판표면과 평행하고 상기 갭만큼 상기 노출된 기판표면으로부터 떨어져있으며 (b) 상기갭은 100미크론 이하인 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스 밀폐장치. [청구항 5] 제 1항에 있어서,상기 처리쳄버를 에워싸고 상기 노출된 기판표면과 상기 밀폐체와의 사이에 유동성 가스밀폐갭을 형성하도록 상기 노출된 기판표면과 일정한 간격이 이루어져 있는 상기 밀폐체의 상기 환상부는 편평하며 상기 노출된 기판표면과 평행하고 상기 갭만큼 상기 노출된 기판표면으로부터 떨어져있으며 (b) 상기 밀폐체의 상기 환상부 내에는 본질적으로 상기 노출된 기판표면과 평행하며 대체로 상기갭보다 더 큰 간격으로 상기 노출된 기판표면과 떨어져 있는 상기 밀폐체의 벽면에 의해 규정된 환상쳄버가 있는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 6] 제 5항에 있어서,가스흐름 도관은 상기 가스흐름 제어수단과 상기 환상쳄버와의 사이에 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 7] 제 1항에 있어서,상기 처리쳄버를 에워싸고 상기 노출된 기판표면과 상기 밀폐체와의 사이에 유동성 가스밀폐갭을 형성하도록 상기 노출된 기판표면과 일정한 간격이 이루어져 있는 상기 밀폐체의 상기 환상부는 편평하며 상기 노출된 기판표면과 평행하고 상기 갭만큼 상기 노출된 기판표면으로부터 떨어져있으며 (b) 상기 밀폐체의 상기 환상부 내에는 본질적으로 상기 노출된 기판표면과 평행하며 대체로 상기 갭보다 더 큰 간격으로 상기 노출된 기판표면과 떨어져 있는 상기 밀폐체의 벽면에 의해 각각 규정된 몇 개의 동심환상 쳄버가 있는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저 조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 8] 제 7항에 있어서,가스흐름 도관은 상기 가스흐름 제어수단과 상기 환상쳄버들 중 하나와의 사이에 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저 조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스 밀폐장치 [청구항 9] 제 8항에 있어서,상기 가스흐름 도관은 상기 가스흐름 제어수단과 상기 환상 쳄버들중 내부의 하나의 쳄버와의 사이에 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저 조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스 밀폐장치 [청구항 10] 제 2항에 있어서,상기 처리쳄버를 에워싸고 상기 노출된 기판표면과 상기 밀폐체와의 사이에 유동성 가스밀폐갭을 형성하도록 상기 노출된 기판표면과 일정한 간격이 이루어져 있는 상기 밀폐체의 상기 환상부는 편평하며 상기 노출된 기판표면과 평행하고 상기 갭만큼 상기 노출된 기판표면으로부터 떨어져있으며 (b) 상기 밀폐체의 상기 환상부 내에는 본질적으로 상기 노출된 기판표면과 평행하며 대체로 상기 갭보다 더 큰 간격으로 상기 노출된 기판표면과 떨어져 있는 상기 밀폐체의 벽면에 의해 규정된 환상쳄버가 있는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 11] 제 10항에 있어서,가스 흐름 도관은 상기 가스흐름 제어수단과 상기 환상 쳄버와의 사이에 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저조사에 으해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 12] 제 2항에 있어서,상기 처리쳄버를 에워싸고 상기 노출된 기판표면과 상기 밀폐체와의 사이에 유동성 가스밀폐갭을 형성하도록 상기 노출된 기판표면과 일정한 간격이 이루어져 있는 상기 밀폐체의 상기 환상부는 편평하며 상기 노출된 기판표면과 평행하고 상기 갭만큼 상기 노출된 기판표면으로부터 떨어져있으며 (b) 상기 밀폐체의 상기 환상부 내에는 본질적으로 상기 노출된 기판표면과 평행하며 대체로 상기 갭보다 더 큰 간격으로 상기 노출된 기판표면과 떨어져 있는 상기 밀폐체의 벽면에 의해 규정된 몇 개의 동심환상 쳄버가 있는 것을 특징으로하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저 조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 13] 제 12항에 있어서,가스흐름 도관은 상기 가스흐름 제어수단과 상기 환상쳄버들중의 하나와의 사이에 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저 조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 14] 제 13항에 있어서,상기 가스흐름 도관은 상기 가스흐름 제어수단과 상기 환상쳄버들중의 하나의 쳄버와의 사이에 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저 조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 15] 제 1항에 있어서,상기 기판의 노출면은 수평을 이루고 있으며 (b) 밀폐체는 상기 기판의 노출면 윗쪽에 매달려 있는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저 조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 16] 제 15항에 있어서,플렛폼에는 상기 기판유지수단 아래의 상기 기판유지수단에 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한레이저 조사에 의해 공작물을 표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 17] 제 16항에 있어서,플렛폼에는 상기 유동성 가스 밀폐갭을 변경하기 위하여 상기 유지수단을 이동시키는 수단이 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저 조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 18] 제 15항에 있어서,상기 기판유지수단을 지지하는 수단이 구비되어 있으며 (b) 상기 기판의 노출면의 상기 에워싸인 부분을 변경하기 위하여 상기 지지수단상에 있는 상기 유지수단을 이동시키는 수단이 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저 조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 19] 제 18항에 있어서,상기 기판의 노출면의 상기에워싸인 부분은 기하중심을 가지며 (b) 상기 유지 수단을 움직여서 상기 기하중심을 상기 노출면의 수평면내에서 이동시키는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저 조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스 밀폐장치 [청구항 20] 제 1항에 있어서,상기 기판의 노출면은 수평을 이루고 있으며 (b) 상기 밀폐체는 상기 기판의 노출면 윗쪽에 매달려 있으며, (c) 플렛폼은 상기 기판 유지수단의 아랫쪽에 상기 기판 유지수단에 구비되어 있으면 (d) 상기 플렛폼에는 상기 유동성 가스 밀폐갭을 변화시키기 위하여 상기 유지수단을 이동시키는 수단이 구비되어 있으며, (e) 상기 플렛폼을 지지하고 상기 기판의 노출면의 상기 에워싸인 부분을 변경하기 위하여 상기 플렛폼을 이동시키는 수단이 구비되어 있으며, (f) 그것에 의해서 상기 기판의노출면은 x 및 y가 수평면에 있고 상기 갭차원이 z반향에 있는 데카르트 좌표의 x,y 및 z방향을 따라 상기 밀폐체에 관하여 이동가능한 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저 조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 22] 제 21항에 있어서,상기 대물렌즈 시스템은 상기 광축상에서 서로 마주보고 있는 2개의 반사경, 즉 대형 오목반사경과 소형블록 반사경을 포함하며, (b)상기 비임방사선은 처음에 상기 소형 블록 반사경에 입사되고 다음에 상기 노출된 기판표면의 상기 에워사인 부분에 상기 방사선을 상기 it로 집속하는 상기 대형 오목반사경에 입사되는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 23] 제 22항에 있어서,상기 대형 오목반사경은 상기 광축과 동심인 상기 대형 오목반사경의 중앙에 입사개구부를 갖고 있으며 (b)그것에 의해서 상기 비임은 처음으로 상기 입사개구부를 통해서 상기 대물렌즈 시스템에서 들어가는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저조사에 의해 공작물표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 24] 제 23항에 있어서,상기 대물렌즈 시스템의 상기 대형 오목 반사경에 있는 상기 입사 개구부를 통해서 상기 반사대물렌즈 시스템으로 들어가는 거의 모든 상기 비임은 상기 소형볼록 반사경에 부딪쳐서 상기 소형블록 반사경으로부터, 상기 대형 오목반사경으로 반사되어 상기 대형 오목반사경으로부터 상기 밀폐체창을 통해서 상기 강도 it로 상기 노출된 기판 표면의 상기 에워싸인 부분으로 반사하는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저조사에 의해 공작물표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 25] 제 23항에 있어서,상기 레이저 비임을 별개의 통로를 다라 별개의 비임으로 분할하는 반사대물렌즈 시스템과 상기 레이저와의 사이에 있는 상기 광학 시스템의 광통로와 상기 광학 시스템내의 수단과 (b) 상기 별개의 비임을 상기 대형오목 반사경내의 상기 입사개구부를 통해서 상기 소형 블록반사경의 중심의 반대측으로 향하게 하는 수단을 포함하여 (c) 그것에 의해서 상기 별개의 비임은 상기 소형블록 반사경으로부터 상기 대형오목 반사경으로 반사하며 상기 대형 오목 반사경으로부터 상기 강도 it로 상기 노출된 기판 표면의 상기 에워싸인 부분상의 동일한 영역에 부분상의 동일한 영역에 반사하는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이져 조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 26] 제 25항에 있어서,상기 별개의 비임은 상기 노출된 기판 표면의 상기 에워싸인 부분상의 동일점에서 상기 강도 it로 교차하는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저 조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 27] 제 25항에 있어서,상기 별개의 비임은 단면의 크기와 모양이 사실상 동일한 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저 조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 28] 제 25항에 있어서,상기 별개의 비임은 상기 노출된 기판표면의 상기 에워싸인 부분상의 동일점에서 상기 강도 i로 교차하며 (b)상기 별개의 비임은 상기 교차점에서의 단면의 크기와 모양이 동일한 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저 조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 29] 제 28항에 있어서,상기 별개의 비임의 단면은 상기 교차점에서 일치하는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저 조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 30] 제 29항에 있어서,상기 별개의 통로의 광학적 길이, 즉 상기 방사선의 파장을 상이하게 만드는 수단이 구비되어 있으며, (b) 그것에 의해서 상기 교차점에서의 상기 별개의 비임의 파면이 동일위상에 놓여 있지 않는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스 밀폐장치. [청구항 31] 제 21항에 있어서,가시광선의 소스, (b) 상기 가시광선을 상기 대물렌즈 시스템의 상기 오목 반사경에 있는 개구부를 통해서, 상기 대물렌즈 시스템으로 향하게 하는 수단을 또한 포함하며, (c) 그것에 대해서 상기 가시광선은 상기 노출된 기판 표면의 상기 에워싸인 부분을 조사하며 (d) 상기 대물렌즈 시스템을 통해서 상기 노출된 기판의 상기 에워싸인 부분을 관찰하는 접안렌즈를 포함하는 가시광선 광학수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 32] 제 31항에 있어서,상기 대물렌즈 시스템 반사경들은 사실상 상기 반사선비임 뿐만 아니라 가시광선을 반사하는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저 조사에 의해 공작물 표면처리하기위한유동성 가스 밀폐장치. [청구항 33] 제 32항에 있어서,상기 대물렌즈 시스템 반사경들은 상기 비임방사선을 반사하는 재료의 층과 가시광선을 반사하는 재료의 층과 가시광선을 반사하는 재료의 층으로 피복되어 있는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저 조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 34] 제 33항에 있어서,상기 노출된 기판표면의 상기 에워싸인 부분으로부터 상기 대형 오목 반사경으로 그리고 상기 대형 오목 반사경으로부터 상기 소형 볼록 반사경으로 반사하는 가시광선은 상기 입사개구부로부터 나타나서 상기 가시광선 광학수단에 의해서 상기 접안렌즈로 지향되는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저 조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스 밀폐장치. [청구항 36] 제 35항에 있어서,상기 반사 대물렌즈 시스템은 상기 광축상에서 서로 마주보고 있는 2개의 반사경, 즉 대형 오목 반사경과 소형 볼록 반사경을 포함하며, (b) 상기 비임 방사선은 처음에 상기 소형블록 반사경에 입사되고 다음에, 상기 방사선을 상기 기판본체의 노출면의 상기 에워싸인 부분에 접속하는 상기 대형 오목 반사경에 입사되는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저 조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 37] 제 36항에 있어서,상기 반사 대물렌즈 시스템은 상기 광축상에서 서로 마주보고 있는 2개의 반사경, 즉 대형 오목 반사경과 소형블록 반사경을 포함하며, (b)상기 비임 방사선은 처음에 상기 소형블록 반사경에 입사되고 다음에 상기 방사선을 상기 기판본체의 노출면의 상기 에워사인 부분에 집속하는 상기 대형 오목 반사경에 입사되는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저 조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 38] 제 37항에 있어서,상기 레이저 비임을 별개의 통로를 따라별개의 비임들로 분할하는 상기 반사대물렌즈 시스템과 상기 레이저와의 사이에 있는 상기 광학시스템의 광통로와 상기 광학 시스템내의 수단과 (b) 상기 별개의 비임을 상기 대형오목 반사경내의 상기 개구부를 통해서 상기 소형볼록 반사경의 중심의 반대측으로 향하게 하는 수단을 포함하며 (c) 그것에 대해서 상기 별개의 비임은 상기 소형 볼록 반사경으로부터 상기 대형 오목 반사경으로 반사하며 상기 대형 오목 반사경으로부 터 상기 기판본체의 노출면의 상기에워싸인 부분상의 동일점으로 반사하는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저 조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 39] 제 38항에 있어서,상기 별개의 비임은 상기 기판본체의 노출면의 상기에워싸인 부분상의 동일전에 교차하며 (b) 상기 별개의 비임은 상기 교차점에서의 단면의 크기와 모양이 사실상 동일한 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저 조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 40] 제 35항에 있어서,가시광선의 소스, (b) 상기 가시광선을 상기 반사대물렌즈 시스템의 상기 오목 반사경에 있는 상기 입사 개구부를 통해서 상기 반사대물렌즈 시스템으로 향하게 하는 수단을 포함하며 (c) 그것에 의해서 상기 가시광선은 상기 기판본체의 노출면의 상기 에워싸인 부분을 조사하며 (d) 상기 대형 오목 반사경내의 상기 입사개구부를 통해서 상기 기판 본체의 노출면의 상기 에워싸인 부분을 관찰하는 접안렌즈를 포함하는 가시광선 광학수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저 조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 41] 제 40항에 있어서,상기 반사 대물렌즈 시스템 반사경은 상기 레이저 방사선뿐만 아니라 사실상 가시광선도 반사하는 것도 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저 조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 42] 제 40항에 있어서,상기 반사 대물렌즈 시스템 반사경은 상기 레이저 방사선을 반사하는 재료의 층과 가시광선을 반사하는 재료의 층으로 피복되어 있는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저 조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스밀폐장치. [청구항 56] 제 53항에 있어서 상기 전기신호에 응답하여 상기 광학수단을 변화시키는 수단이 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 제어된 가스분위기 및 강한 레이저 조사에 의해 공작물 표면처리하기 위한유동성 가스밀폐방법.