이온원 document_id 1019900002320

[청구항 2] 제1항에 있어서,전장방향의 입자류의 흐름과 방향과 교차하도록상기전극배치한것을특징으로 하는이온원. [청구항 3] 제1항에 있어서,전장방향의 입자류의 흐름과 거의 평행하게 되도록상기전극배치한것을특징으로 하는이온원. [청구항 4] 제1항상기 레이저광발생기로부터의 레이저광으로써 2종이상의 파장의 다른 레이저광을 사용하고, 원자 혹은 분자를 기저상태로부터 리드베리 상태로다단계여기하는것을특징으로 하는이온원. [청구항 5] 제1항상기 레이저광발생기로부터의 레이광중 적어도 1개의 레이저광을 펄스레이저로 하고, 해당펄스 레이저광의 입사에 의하여 리드베리 상태로 여기된상기극간유입하는것을특징으로 하는이온원. [청구항 6] 제5항상기 전극간에 복수회 반복하여 인가하는 상기 펄스전장간의 휴지기간을 입자류가 전장인가 영역을 통과하는 것에 요하는 시간보다 길게 한것특징으로 하는이온원. [청구항 7] 제5항상기 펄스레이저광의 입사와 상기 펄스전장의 반복nan인가반복하여행하는것을특징으로 하는이온원. [청구항 8] 제1항에 있어서,상기 레이저장발생기로부터의 레이저광을 연속 발진의 레이저광으로하고 상기 전극간에 펄스 전장을 주기적으로 반복하여인가하는것을특징으로 하는이온원. [청구항 9] 제8항상기 전극간에 반복하여 인가되는 펄스전장 중에 있는 펄스전장과 다음의 펄스전장간의 휴지시간을 입자류가 전장인가영역을 통과하는 것에 요하는 시간보다 길게 한 것특징으로 하는이온원. [청구항 10] 제1항상기 리드베리 상태를 그 주양자수가20이상의고여기상태로한것을특징으로 하는이온원. [청구항 11] 제1항에 있어서,상기 전장간에 자장을 인가하기위한자장발생기배치한것을특징으로 하는이온원. [청구항 12] 제11항에 있어서,상기 자장이전장평행인것을특징으로 하는이온원. [청구항 13] 제1항륨을 포함하는 입자류에 파장 40.3nm의 레이저광을 조사하여 갈륨 4p의 기저상태로부터 5s의 여기상태로 제1단여기한 후, 파장 429nm 보다 파장이 짧은 레이저광에 의하여리드베리상태여기하는것을특징으로 하는이온원. [청구항 14] 제1항적어도 1개의 레이저광의 파장폭을 여기하는 원자의 천이파장의 동위체 시프트보다 적게 하고, 해당 레이저파장을 어느 특정의 원자의 동위체만을 리드베리 상태로 여기하는파장일치시킨것을특징으로 하는이온원. [청구항 15] 제1항상기 이온원에서 인출된 이온빔을 사용하여 기판상에 얇은 막을 형성하고, 또는 기판에 이온 넣기를 행하고,또는기판에칭하는것을특징으로 하는이온원. [청구항 16] 제15항에 있어서 상기 전극간에기판배치한것을특징으로 하는이온원. [청구항 19] 제18항에 있어서,전장인가수단은 1쌍의 전극과, 한쪽의 전극에 전위를 공급하는 전위 발생수단과가진것인이온류생성장치. [청구항 20] 제19항에 있어서,전장인가수단의 전위발생수단은 마이너스전위의 펄스발생하는 것인이온류생성장치. [청구항 21] 제19항에 있어서 전장인가수단의 전위발생수단은 플러스 전위의 펄스발생하는 것인이온류생성장치. [청구항 22] 제19항에 있어서 전장인가수단의 전위발생수단은 마이너스전위의 연속전위발생하는 것인이온류생성장치. [청구항 23] 제19항에 있어서 전장인가수단의 전위발생수단은 플러스전위의 연속전위발생하는 것인이온류생성장치. [청구항 24] 제19항에 있어서 전장인가수단의 1쌍의 전극의 오른쪽의 전극은 특정의 이온이 통과하는 인출구멍있는 것인이온류생성장치. [청구항 25] 제18항에 있어서 레이저 발생수단은 제1의 파장으로 이루어지는 제1의 레이저를 발생하는 제1의 발생수단(108a)과 제2의 파장으로 이루어지는 제2의 레이저를 발생하는 제2의 발생수단(108b)과가진 것인이온류생성장치. [청구항 26] 제18항에 있어서 레이저발생수단은 펄스상의 레이저발생하는 것인이온류생성장치. [청구항 27] 제18항에 있어서 레이저 발생수단는은 연속의 레이저발생하는 것인이온류생성장치. [청구항 28] 제18항에 있어서 레이저 발생수단은 제1의 입자류발생수단의 입자류의 흐름의 방향과 대항하여 위치로부터 흐르는 방향과 평행하게 레이저조사하는 것인이온류생성장치. [청구항 29] 제18항에 있어서 제1의 입자류 발생수단으로부터의 입자류의 방향과 제2의 입자류의 방향과직교시킨이온류생성장치. [청구항 30] 제18항에 있어서 제1의 입자류발생수단과 제2의 입자류 발생수단과는 일체구성되어 있는이온류생성장치. [청구항 32] 제31항에 있어서,의 입자류발생수단과, 제2의 입자류 발생수단과는 일체근성되어 있는이온류생성장치. [청구항 33] 제1의 물질로써 이루어진 원자 혹은 분자의 입자류를 발생하는 제1의 입자류발생수단, 제2의 물질로써 이루어진 원자 혹은 분자의 입자류를 상기 제1의 입자류발생 수단으로부터의 입자류와 교차하도록 발생하는 제2의 입자류 발생수단, 이 제2의 입자류 발생수단의 입자류에 있어서 제1의 입자류 발생수단의 입자류와의 교차 영역으로부터 상류의 적어도 일부의 영역에 하전입자를 조사하는 하전 입자류 발생수단, 상기 제1 및 제2의 입자류 발생수단으로부터의 입자류의 적어도 일부의 영역에 상기 제1 또는 제2의 물질로써 이루어진 원자 혹은 분자를 고여기상태에 여기하는 레이저광을 조사하는 레이저발생수단, 상기 제1 및 제2의 입자류 발생수단으로부터의 입자류가 교차하는 영역의 근방 혹은 상기 레이저광의 조사영역의 근방에 전장을 인가하여 특정의 이온을 인출하기위한 전장인가수단을 구비한 이온류생성장치