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전원안정기능을 가지는 반도체칩 및 전원안정화회로 document_id 1019900006263

출원번호
1019900006263
분류
전기(H섹션)
문맥 (context)
[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 고농도의 제1전도성확산영역(13)이 저농도의 반도체기판(11)과 저항성접촉(또는오믹접촉됨을특징으로 하는반도체칩. [청구항 3] 제1항에 있어서,상기제1 및 제2전도성확산영역(13)(14)의 겹쳐진 영역(30)이 정전압다이오드특성특징으로 하는반도체칩. [청구항 4] 제1항에 있어서,상기 제1도전성의 반도체기판(11) 및 제2도전성확산영역(14)과 상기 제1 및 제2도전도성확산영역(13)(14)이 각각 캐패시턴스특성특징으로 하는반도체칩. [청구항 5] 제1항에 있어서,상기 제1절연막(15) 및 분리절연막(16)과 제2절연막특징으로 하는반도체칩. [청구항 7] 제1항에 있어서,상기 고농도의 제1도전성확산영역이 상기 반도체기판과 저항성접촉(오믹접촉됨을특징으로 하는반도체칩. [청구항 8] 제1항에 있어서,상기제1 및 제2도전성영역의 겹쳐진 영역(31)의 정전압다이오드특성특징으로 하는반도체칩. [청구항 9] 제1항에 있어서,상기 반도체기판 및 제2도전성확산영역과 상기제1 및 제2도전성확산영역이 각각 캐패시턴스특성특징으로 하는반도체칩. [청구항 10] 제1항에 있어서,상기제1 및 제2절연막특징으로 하는반도체칩. [청구항 12] 제11항에 있어서,상기 제1도전형의 고농도확산영역이 상기 제1도전형의 저농도확산영역과 저항성접촉(또는오믹접촉됨을특징으로 하는반도체칩의 전원안정화회로. [청구항 13] 제11항 또는 제12항에 있어서,상기 제1도전형의 저농도확산영역이접지전압연결됨을특징으로하는반도체칩의 전원안정화회로. [청구항 14] 제11항에 있어서,상기 제2도전형의 고농도확산영역이상기전원전압연결됨을특징으로 하는반도체칩의 전원안정화회로.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
반도체칩의 제1 및 제2전도성확산영역(13, 14)이 겹쳐진 영역(30)은 어떠한 전기적 특성을 갖는가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    반도체칩 내 제1 및 제2전도성확산영역(13, 14)이 겹쳐진 영역(30)의 전기적 특성을 찾는 것이다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 3에서 제1 및 제2전도성확산영역(13)(14)의 겹쳐진 영역(30)에 대한 설명을 추출한다.

    • 상기제1 및 제2전도성확산영역(13)(14)의 겹쳐진 영역(30)이 정전압다이오드특성
  3. 3근거 선택evidence_selection

    질문에서 요구하는 영역(30)과 직접적으로 대응하는 청구항 3의 구절을 선택한다.

    • 상기제1 및 제2전도성확산영역(13)(14)의 겹쳐진 영역(30)이 정전압다이오드특성
  4. 4논리 통합logical_integration

    청구항 3에 명시된 영역(30)의 특성이 '정전압다이오드특성'임을 확인한다.

    • 상기제1 및 제2전도성확산영역(13)(14)의 겹쳐진 영역(30)이 정전압다이오드특성
  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    겹쳐진 영역(30)은 정전압다이오드특성을 갖는다는 결론을 도출한다.

    • 상기제1 및 제2전도성확산영역(13)(14)의 겹쳐진 영역(30)이 정전압다이오드특성
  6. 6답변 생성answer_generation

    추출된 정보를 바탕으로 질문에 대한 최종 답변을 작성한다.

    • 상기제1 및 제2전도성확산영역(13)(14)의 겹쳐진 영역(30)이 정전압다이오드특성
최종 답변 (final_answer)
정전압다이오드특성
핵심 해석 (core_interpretation)
반도체칩의 제1 및 제2전도성확산영역이 중첩되는 영역을 통해 정전압다이오드 특성을 구현함으로써 전원 안정화 기능을 제공한다.