문맥 (context)
[청구항 1]
하기 (a)-(g)의 단계로 구성되는, 여러개의 절연층을 통해 일련의 도전층에 전기접속을 만드는 전도성 뜨로우-호울(through-holes)을 포함하는, 다층 인쇄 회로판의 형성 방법
(a) 적어도 4 마이크론의 두께를 갖는 회로부품을 갖는 유전층 지지체의 표면상에 도전성 구리 회로부품을 형성시키고
(b) 구리 회로 부품에 주석을 적용시켜, 주석의 적용도중 또는 이에 연속하여 구리 회로부품의 표면상에서 적용된 주석이 산화물, 수산화물 또는 이들의 조합물로 전환되는 것에 의해, 구리 회로부품상에 주석의 산화물, 수산화물 또는 이들의 조합물의 층을 형성시키고, 단, 상기 산화물, 수산화물 또는 조합물의 층의 두께는 1.5밀 이하이며; 으로
(ⅰ) 하기 일반식 :
(상기식에서, a는 1내지 8개 탄소원자를 갖는 알킬렌이고, b는 히드록시 또는 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알콕시이고 n은 정수 1, 2 또는 3이고, 단 n이 1 또는 2인 경우 각 b는 동일할 필요가 없다.)을 갖는 우레이도 실란; 및
(ⅱ) 하기 일반식 :
(상기식에서, r 1 , r 2 , r 3 , r 4 , r 5 및 r 6 은 서로 독립적으로 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알킬이고 r은 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알킬렌기를 표시한다)을 갖는 디실릴 가교제로 구성되고
(d) 단계 (a), (b) 및 (c)를 반복하고
(e) 접착 결합된 오르가노실란 코우팅이 산화물, 수산화물 또는 조합물의 층과 절연층간에 있도록 단계 (a), (b), (c) 및 (d)에 의해 형성된 물질들을 단일 물품에 결합시키고, 이로써 결합중 부분적으로 경화된 절연층은 경화되며
(f) 단계(e)에서 형성된 결합된 물품을 통해 다수의 호울을 형성시키고
(g) 뜨로우-호울의 맞은편 열린 구멍으로부터 도전로를 형성하는 뜨로우-호울의 벽을 금속화하여 다층 회로판을 형성시키며, 단, 다층 인쇄 회로판이 121℃(250℉)에서 6시간 동안 베이킹된 다음 85℃ 및 85% 상대 습도에서 24시간 동안 선행-조건화된 후 288℃(550℉)에서 10초 동안 열응력에 노출시 이층(delaminate)되지 않아야 한다
[청구항 8]
필수적으로 하기 (ⅰ) 및 (ⅱ)로 구성되는, 방습성 다층 회로판을 형성하기 위한 실란 결합 혼합물
(상기식에서, a는 1내지 8개 탄소원자를 갖는 알킬렌이고, b는 히드록시 또는 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알콕시이고 n은 정수 1, 2 또는 3이고, 단 n이 1 또는 2인 경우 각 b는 동일할 필요가 없다.)을 갖는 우레이도 실란; 및
(ⅱ) 하기 일반식 :
(상기식에서, r 1 , r 2 , r 3 , r 4 , r 5 및 r 6 은 서로 독립적으로 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알킬이고 r은 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알킬렌기를 표시한다)을 갖는 디실릴 가교제
[청구항 9]
(a) 유전층 : (b) 적어도 4마이크론의 두께를 갖는 구리 회로부품
(c) 주석위에 놓인 1-5밀 이하의 두께를 갖는 주석 금속의 산화물, 수산화물 또는 이들의 조합물의 층; 으로
(ⅰ) 하기 일반식 :
(상기식에서, a는 1내지 8개 탄소원자를 갖는 알킬렌이고, b는 히드록시 또는 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알콕시이고 n은 정수 1, 2 또는 3이고, 단 n이 1 또는 2인 경우 각 b는 동일할 필요가 없다.)을 갖는 우레이도 실란; 및
(ⅱ) 하기 일반식 :
(상기식에서, r 1 , r 2 , r 3 , r 4 , r 5 및 r 6 은 서로 독립적으로 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알킬이고 r은 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알킬렌기를 표시한다)을 갖는 디실릴 가교제로 구성되는 실란 결합 혼합물로부터 형성된 오르가노실란 층
(e) 경화된 열경화성 중합체 조성물로 구성되는 절연층
(f) 유전층; (g) 적어도 4마이크론의 두께를 갖는 구리 회로부품
(h) 주석위에 놓인 1-5밀 이하의 두께를 갖는 주석의 산화물, 수산화물 또는 이들의 조합물의 층
(i) 실란 결합 혼합물로부터 형성된 오르가노실란 층
(j) 경화된 열경화성 중합체 조성물로 구성되는 절연층으로 구성되는, 여러개의 절연층을 통해 일련의 도전층에 전기 접속을 만드는 전도성 뜨로우-호울을 포함하는 다층 인쇄 회로판으로, 단, 다층 인쇄 회로판이 121℃(250℉)에서 6시간 동안 베이킹된 다음 85℃ 및 85% 상대 습도에서 24시간 동안 선행조건화된 후 288℃(550℉)에서 10초 동안 땜납 침적의 열응력에 노출시 이층되지 않는 다층 인쇄 회로판
[청구항 10]
(a) 유전층 : (b) 적어도 4마이크론의 두께를 갖는 구리 회로부품
(c) 주석위에 놓인 1-5밀 이하의 두께를 갖는 주석 금속의 산화물, 수산화물 또는 이들의 조합물의 층; 으로
(ⅰ) 하기 일반식 :
(상기식에서, a는 1내지 8개 탄소원자를 갖는 알킬렌이고, b는 히드록시 또는 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알콕시이고 n은 정수 1, 2 또는 3이고, 단 n이 1 또는 2인 경우 각 b는 동일할 필요가 없다.)을 갖는 우레이도 실란; 및
(ⅱ) 하기 일반식 :
(상기식에서, r 1 , r 2 , r 3 , r 4 , r 5 및 r 6 은 서로 독립적으로 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알킬이고 r은 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알킬렌기를 표시한다)을 갖는 디실릴 가교제로 구성되는 실란 결합 혼합물로부터 형성된 오르가노실란 층
(e) 경화된 열경화성 중합체 조성물로 구성되는 절연층
(f) 실란 결합 혼합물로부터 형성된 오르가노실란 층
(g) 주석위에 놓인 1-5밀 이하의 두께를 갖는 주석의 산화물, 수산화물 또는 이들의 조합물의 층
(h) 적어도 4마이크론의 두께를 갖는 구리 회로부품
(i) 유전층으구성되는, 여러개의 절연층을 통해 일련의 도전층에 전기 접속을 만드는 전도성 뜨로우-호울을 포함하는 다층 인쇄 회로판으로, 단, 다층 인쇄 회로판이 121℃(250℉)에서 6시간 동안 베이킹된 다음 85℃ 및 85% 상대 습도에서 24시간 동안 선행조건화된 후 177℃(350℉)에서 10초 동안 땜납 침적의 열응력에 노출시 이층되지 않는 다층 인쇄 회로판
[청구항 11]
(a) 유전층 : (b) 적어도 4마이크론의 두께를 갖는 구리 회로부품
(c) 주석위에 놓인 1-5밀 이하의 두께를 갖는 주석 금속의 산화물, 수산화물 또는 이들의 조합물의 층; 으로
(ⅰ) 하기 일반식 :
(상기식에서, a는 1내지 8개 탄소원자를 갖는 알킬렌이고, b는 히드록시 또는 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알콕시이고 n은 정수 1, 2 또는 3이고, 단 n이 1 또는 2인 경우 각 b는 동일할 필요가 없다.)을 갖는 우레이도 실란; 및
(ⅱ) 하기 일반식 :
(상기식에서, r 1 , r 2 , r 3 , r 4 , r 5 및 r 6 은 서로 독립적으로 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알킬이고 r은 1 내지 8개 탄소원자를 갖는 알킬렌기를 표시한다)을 갖는 디실릴 가교제로 구성되는 실란 결합 혼합물로부터 형성된 오르가노실란 층
(e) 경화된 열경화성 중합체 조성물로 구성되는 절연층
(f) 적어도 4마이크론의 두께를 갖는 구리 회로부품
(g) 주석위에 놓인 1-5밀 이하의 두께를 갖는 주석의 산화물, 수산화물 또는 이들의 조합물의 층
(h) 실란 결합 혼합물로부터 형성된 오르가노실란 층
(i) 경화된 열경화성 중합체 조성물로 구성되는 절연층으로 구성되는, 여러개의 절연층을 통해 일련의 도전층에 전기 접속을 만드는 전도성 뜨로우-호울을 포함하는 다층 인쇄 회로판으로, 단, 다층 인쇄 회로판이 121℃(250℉)에서 6시간 동안 베이킹된 다음 85℃ 및 85% 상대 습도에서 24시간 동안 선행-조건화된 후 288℃(550℉)에서 10초 동안 땜납 침적의 열응력에 노출시 이층되지 않는 다층 인쇄 회로판
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
다층 인쇄 회로판의 형성 방법에서, 구리 회로부품 상에 형성되는 주석의 산화물, 수산화물 또는 이들의 조합물 층의 두께 조건은 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation다층 인쇄 회로판 형성 방법에서 구리 회로부품 상의 주석 산화물/수산화물 층의 두께 조건을 찾는 것이다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 1의 (b) 단계에서 주석의 산화물, 수산화물 또는 조합물의 층에 대한 두께 조건이 언급되어 있다.
- 구리 회로부품상에 주석의 산화물, 수산화물 또는 이들의 조합물의 층을 형성시키고, 단, 상기 산화물, 수산화물 또는 조합물의 층의 두께는 1.5밀 이하이며
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3근거 선택
evidence_selection질문에서 요구하는 '형성 방법'에 해당하는 청구항 1의 구절을 선택한다.
- 상기 산화물, 수산화물 또는 조합물의 층의 두께는 1.5밀 이하이며
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4논리 통합
logical_integration청구항 1의 형성 방법 단계 중 (b) 단계에 명시된 두께 제한 조건을 확인한다.
- 상기 산화물, 수산화물 또는 조합물의 층의 두께는 1.5밀 이하이며
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5결론 도출
conclusion_formulation주석의 산화물, 수산화물 또는 이들의 조합물 층의 두께는 1.5밀 이하라는 결론을 도출한다.
- 상기 산화물, 수산화물 또는 조합물의 층의 두께는 1.5밀 이하이며
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6답변 생성
answer_generation추출된 정보를 바탕으로 질문에 대한 직접적인 답변을 작성한다.
- 상기 산화물, 수산화물 또는 조합물의 층의 두께는 1.5밀 이하이며
최종 답변 (final_answer)
1.5밀 이하
핵심 해석 (core_interpretation)
다층 인쇄 회로판 형성 시 구리 회로부품 상에 형성되는 주석 산화물 또는 수산화물 층의 두께를 1.5밀 이하로 제한하여 공정 조건을 규정함.