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박막트랜지스터 document_id 1019910004740

출원번호
1019910004740
분류
전기(H섹션)
문맥 (context)
[청구항 2] 제 1항에 있어서,상기 보조막수단의 질소농도가 5×1017atoms/cc내지인것을특징으로 하는박막트랜지스터. [청구항 3] 제 1항에 있어서,상기 보조막수단과 실질적으로 동일한 조성의 보조막수단이 상기 활성층의 채널영역의 표면에도 형성되고, 이것이 상기 활성층의 소스영역 및 드레인영역의상기보조막수단과일체적형성되어지는것을특징으로 하는박막트랜지스터. [청구항 4] 제 1항에 있어서,상기 보조막수단과 상기 활성층의 소스영역과 드레인영역으로 분리되어형성되는것을특징으로 하는박막트랜지스터. [청구항 5] 제 1항에 있어서,상기 활성층이마이크로 크리스탈실리콘형성되는것을특징으로 하는박막트랜지스터. [청구항 6] 제 1항에 있어서,상기 활성층이비결정실리콘형성되는것을특징으로 하는박막트랜지스터. [청구항 7] 제 3항에 있어서,상기 박막트랜지스터가역스태거형트랜지스터인것을특징으로 하는박막트랜지스터. [청구항 8] 제 1항에 있어서,상기 활성층의 채널영역의 상기 보조막수단을 피복하는 실리콘산화막을 추가로 포함하여구성된것을특징으로 하는박막트랜지스터. [청구항 9] 제 3항에 있어서,상기 박막트랜지스터가동일평면형트랜지스터인것을특징으로 하는박막트랜지스터. [청구항 10] 제 4항에 있어서,상기 박막트랜지스터가스태거형트랜지스터인것을특징으로 하는박막트랜지스터.
지시문 (instruction)
본문의 내용을 파악하고 이를 바탕으로 질문에 답하라.
질문 (question)
박막트랜지스터에서 보조막수단이 활성층의 채널영역 표면에도 형성될 경우, 해당 보조막수단과 활성층의 소스영역 및 드레인영역과의 형성 관계는 어떠한가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    보조막수단이 채널영역 표면에도 형성될 경우, 해당 보조막수단과 소스/드레인영역의 보조막수단 간의 형성 관계를 파악해야 한다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 3에서 채널영역 표면에 형성된 보조막수단과 소스/드레인영역의 보조막수단 간의 관계를 설명하는 문구를 추출한다.

    • 상기 보조막수단과 실질적으로 동일한 조성의 보조막수단이 상기 활성층의 채널영역의 표면에도 형성되고, 이것이 상기 활성층의 소스영역 및 드레인영역의 상기 보조막수단과 일체적 형성되어지는 것
  3. 3근거 선택evidence_selection

    질문에 직접적으로 대응하는 '일체적 형성'에 관한 구절을 선택한다.

    • 상기 활성층의 소스영역 및 드레인영역의 상기 보조막수단과 일체적 형성되어지는 것
  4. 4논리 통합logical_integration

    채널영역의 보조막수단이 소스 및 드레인영역의 보조막수단과 일체적으로 형성된다는 논리적 연결을 확인한다.

    • 상기 활성층의 소스영역 및 드레인영역의 상기 보조막수단과 일체적 형성되어지는 것
  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    보조막수단이 채널영역 표면에 형성될 경우, 소스영역 및 드레인영역의 보조막수단과 일체적으로 형성된다는 결론을 도출한다.

    • 상기 활성층의 소스영역 및 드레인영역의 상기 보조막수단과 일체적 형성되어지는 것
  6. 6답변 생성answer_generation

    추출된 정보를 바탕으로 질문에 대한 최종 답변을 작성한다.

    • 상기 활성층의 소스영역 및 드레인영역의 상기 보조막수단과 일체적 형성되어지는 것
최종 답변 (final_answer)
상기 활성층의 소스영역 및 드레인영역의 상기 보조막수단과 일체적 형성되어지는 것
핵심 해석 (core_interpretation)
박막트랜지스터의 채널영역 표면에 형성된 보조막수단이 소스 및 드레인영역의 보조막수단과 분리되지 않고 하나의 구조로 일체화되어 형성됨을 의미한다.