열처리 장치 document_id 1019910016828

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 링 부재(70)(80)의 내경이 상기 웨이퍼(w)와 거의 같거나, 또는 상기 웨이퍼의 직경보다 작은 웨이퍼 보트가지는열처리 장치. [청구항 3] 제1항에 있어서,상기 링부재(70)(80)의 안쪽면의 형상은 웨이퍼 바깥면의 형상에 가깝고 웨이퍼의 오리엔테이션플래트(o.f.)부에 대응하여 직선부(70a)(80a)가 형성되어있는 웨이퍼 보트가지는열처리장치. [청구항 4] 제3항에 있어서,상기 링 부재(80)의 바깥면에도 직선부(70a)(80a)가 형성되어 있고, 이 바깥면의 직선부(80b)와 상기 안 쪽면의 직선부(80a)(80b)가 평행인 웨이퍼 보트가지는열처리 장치. [청구항 5] 제1항에 있어서,상기 지지기둥(63)의 상호간격이, 웨이퍼의 삽입측이 다른 측보다 넓은 웨이퍼가지는열처리 장치. [청구항 6] 제5항에 있어서,상기 지지기둥(63)의 상호간격이 넓은 쪽에, 상기 링 부재(70)(80)의 안 쪽면의 직선부(70a)(80a)가 형성되어 있는 웨이퍼 보트가지는열처리 장치. [청구항 7] 제5항에 있어서,상기 지지기둥(63)의 상호간격이 좁은 쪽에, 상기 지지기둥(63)을 보강하기 위한 보강리브(65)가 설치되어 있는 웨이퍼 보트가지는열처리 장치. [청구항 8] 제1항에 있어서,상기 돌기(64)가 지지기둥(63)의 각각에 소정의 간격으로 설치되고 이들 돌기(64)에 의해 상기 웨이퍼 지지구(62)(79)(90)가 지지되는 웨이퍼 보트가지는열처리 장치. [청구항 9] 제1항에 있어서,상기 지지편(71)이, 상기 링 부재(70)(80)의 면상으로 돌출하는 기둥부재(71a)와 상기 기둥부재(71a)에서 보트(b)중심을 향하여 상기 링 부재(70)의 안 쪽면 테두리보다 더 안 쪽으로 연장되어 있는 판부재(71b)의 조합으로 되는 웨이퍼 보트가지는열처리 장치. [청구항 10] 제1항에 있어서,상기 지지편(91), 웨이퍼 재치부(91b)와, 이 웨이퍼 재치부(91b)를 지지하는 지지기둥부(91a)를 가지며, 이들 재치부(91b)와 지지기둥부(91a)가 일체로 형성되어 있는 웨이퍼가지는열처리 장치. [청구항 11] 제1항에 있어서,상기 지지편(91)이, 상기 링 부재(70)의 면상으로 등간격으로 배치되어 있는 웨이퍼 보트가지는열처리 장치. [청구항 12] 제1항에 있어서,상기 지지편(91)이, 3 개인 웨이퍼 보트가지는열처리 장치. [청구항 13] 제1항에 있어서,상기 지지편(71)이, 3개 또는 4개인 웨이퍼 보트가지는열처리 장치. [청구항 15] 제14항에 있어서,상기 링 부재(70)(80)의 내경이 상기 피지지체의 외형보다 작은 여러 개의 웨이퍼장착하는열저항 보트.