UHF/VHF 공진 안테나 공급원을 사용하는 플라즈마 반응기 및 플라즈마를 발생시키는 방법 document_id 1019910022018

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 커플링 수단은 단일전환, 페루우프 공진 안테나특징으로 하는시스템. [청구항 3] 제1항에 있어서,상기 커플링 수단은 단일전환, 페루우프 공진 안테나이고, 상기 시스템이 상기 고주파 전자기 에너지의 전기장 부품이 상기 챔에 직접 커플링되는 것을 막기위해 상기 챔버와 안테나사이에전도성실드포함함을특징으로 하는시스템. [청구항 4] 제1항에 있어서,상기 커플링 수단은 다중전환, 페루우프 공진 안테나이고, 상기 시스템이 상기 고주파 전자기 에너지의 전기장 부품이 상기 챔버에 직접 커플링 되는 것을 막기 위해 챔버와 안테나 사이에전도성실드포함함을특징으로 하는시스템. [청구항 5] 제4항에 있어서,고주파 전력을 상기 안테나에 공급하기 위한 공급수단과, 상기 안테나의 주파수를 공진에 및 상기 안테나의 입력 임피던스를 상기 전력 공급수단의 임피던스에 자동적으로 반복하여 조절할 수 있는제어수단포함함을특징으로 하는시스템. [청구항 6] 제2항에 있어서,상기 안테나의 실제 길이는 거의 n λ/4인데, 여기서 n은 작은 홀수의 정수이고, λ는 전자기여자 주파수의 파장특징으로 하는시스템. [청구항 7] 제2항에 있어서,상기 안테나의 실제 길이는 거의 n λ/4인데, 여기서 n은 작은 짝수의 정수이고, λ는 전자기 여자 주파수의 파장특징으로 하는시스템. [청구항 8] 제2항에 있어서,상기 안테나의 실제 길이는 거의 n λ/4인데, 여기서 λ는 전자기 여자 주파수의 파장특징으로 하는시스템. [청구항 9] 제2항에 있어서,상기 외장전압을 조절하기 위해 전압을 웨이퍼 지지수단에 가하기 위한수단포함함을특징으로 하는시스템. [청구항 10] 제9항에 있어서,일정한 dc바이어스를 유지하기 위해 웨이퍼 지지 전극에서의 전력을 자동적으로 변화시키기 위한수단포함함을특징으로 하는시스템. [청구항 11] 제1항에 있어서,이프에 대한 플라즈마의 위치 및 이송을 조절하기 위해 균일하게 분기하는, 자기 거울장 배열로 부터 선택한 안테나 평면에 직각인 정전 자기장을 가하기 위한수단포함함을특징으로 하는시스템. [청구항 12] 제1항에 있어서,이프 지지 전극이 상기 전극사에 웨이퍼를 지지하기 위한 표면을 포함하고, 챔버벽 내부주위에 대한 비교적 높은 밀도장 영역과 웨이퍼 지지표면에 비교적 낮은 밀도장 영역을 제공하기 위해 하부 챔버 영역에 다극 커스프장을 가하기 위한수단더포함함을특징으로 하는시스템. [청구항 13] 제11항에 있어서,상기 웨이퍼 지지표면을 따라 비교적 낮은 밀도의 장 영역을 제공하기 위해 웨이퍼 지지전극으로 부터 정전 자기장을 전환하기 위해 지지전극에 인접해 있는 분로수단포함함을특징으로 하는시스템. [청구항 14] 제1항에 있어서,상기 고주파 에너지가 자유공간으로 방사하는 것을 막기 위해 챔버외부의 안테나 둘러싸는고주파수반응기포함함을특징으로 하는시스템. [청구항 15] 제1항에 있어서,상기 챔버는 원통형 유전도움을 포함하고, 상기 커플링 수단은 상기 도움을 둘러싸는 페루우프 안테나이고, 전자기 에너지의 전기장 부품을 챔버에 직접 커플링을 되는 것을 막기 위한상기도움과안테나사이의전도성실드더포함함을특징으로 하는시스템. [청구항 16] 제1항에 있어서,상기 챔버는 원통형 유전도움을 포함하고, 커플링 수단은 상기 도움을 둘러싸는 페루우프 안테나이고, 상기 도움내 링 안테나의 평면에 집중된 플라즈마를 발생하고 플라즈마 하류가 웨이퍼 지지전극에 뻗도록 하기 위해, 전자기 에너지의 전기장 부품이 챔버에 직접 커플링되는 것을 막기 위해도움과안테나사이의전도성실드더포함함을특징으로 하는시스템. [청구항 17] 제1항에 있어서,상기 커플링 수단은 상기 도움을 둘러싸는 페루우프 안테나이고 상기 웨이퍼 지지전극은 안테나의 평면에 인접하게 위치되고, 상기 링 안테나의 평면에 집중된 플라즈마를 발생하고 웨이퍼 지지전극 영역을 상기 플라즈마를 침지하기 위해서, 전자기 에너지의 전기장 부품이 챔버에 직접 커플링되는 것을 막기 위해챔버와안테나사이의전도성실드더포함함을특징으로 하는시스템. [청구항 18] 제17항에 있어서,캐소드 외장전압을 조절하기 위해 전압을 상기 웨이퍼 지지수단에 가하기 위한수단포함함을특징으로 하는시스템. [청구항 19] 제2항에 있어서,상기 챔버가 상기 챔버의 한 측면에 유전창을 포함하고, 상기 안테나가 상기 챔버 외부에 있는창브근장착함을특징으로 하는시스템. [청구항 20] 제2항에 있어서,상기 안테나가상기챔버내위치함을특징으로 하는시스템. [청구항 21] 제2항에 있어서,상기 고주파수 에너지 안테나의 임피던스를 고주파수 공급원에 매칭시키기 위해 하나의 유도성, 용량성, 전도성 임피던스를 통해안테나커플링됨을특징으로 하는시스템. [청구항 22] 제2항에 있어서,상기 고주파수 에너지 안테나의 임피던스를 고주파수 공급원의 임피던스를 매칭하기 위해 가변성 커패시터를 통해안테나커플링됨을특징으로 하는시스템. [청구항 23] 제2항에 있어서,상기 안테나를 공진에 동조하기 위해 고정되고 분배된, 유도성 및 용량성 임피던스로 부터 선택한 안테나에 연결된수단포함함을특징으로 하는시스템. [청구항 24] 제2항에 있어서,상기 안테나를 공진에 동조하기 위해 안테나에 연결된가변성커패시터포함함을특징으로 하는시스템. [청구항 25] 제2항에 있어서,상기 안테나의 길이가 거의 /2이고, 는 플라즈마 여자 주파수에서 고주파수 rf에너지의 파장이며, 상기 안테나를 공진에 동조하기 위해 안테나상의 /4 포인트 부근에 연결된가변성커패시터더포함함을특징으로 하는시스템. [청구항 26] 제1항에 있어서,상기 플라즈마로 부터 충전된 이온 또는 전자의 흐름을 빼기 위한바이어스그리드더포함함을특징으로 하는시스템. [청구항 27] 제26항에 있어서,자유 라디칼과 여자된 중성자의 흐름을 빼내기 위해 추출 그리드로 부터 거리간격을 갖는중화그리드포함함을특징으로 하는시스템. [청구항 29] 제28항에 있어서,상기 고주파수 에너지 공급원이 50 내지 800mhz 범위내의 주파수특징으로 하는반응기. [청구항 30] 제1항에 있어서,상기 캐소드 외장전압을 조절하기 위해 선택된 주파수의 ac에너지를 상기 웨이퍼 지지 전극에 가하기 위한수단포함함을특징으로 하는시스템. [청구항 31] 제28항에 있어서,외부공급원으로 부터 선택된 주파수의 ac에너지를 플라즈마 챔버에 가하기 위해 적용되고 전극수단을 갖는 통합 전송선호구조, (b) 상기 전극수단을 둘러싸는 외부 컨덕터, 및 (c) 상기 전송선로 구조가 캐소 외장전압을 중가시키기 위해 상기 전극수단을 따라 커플링 되도록 하는,상기전극수단과외부 콘덕터사이의절연체포함함을특징으로 하는시스템. [청구항 130] 제28항에 있어서,상기ac에너지 공급원의 전력은 선택된 캐소드 외장전압과 dc 바이어스의 적어도 하나를 유지하도록자동적변화됨을특징으로 하는시스템. [청구항 131] 제57항에 있어서,상기 가스는 상기 산화물을 스퍼터링 에칭하기 위해비반응성가스포함함을특징으로 하는방법.