문맥 (context)
[청구항 2]
제1항에 있어서,상기 프로세스쳄버에 동쳄버내를 고감압 분위기에 설정하는 수단접속하는기판처리 장치.
[청구항 3]
제1항에 있어서,상기 급기수단이, 상기 대향면의 주변부 근방에 등간격으로 형성된 복수의 급기구구비하는기판처리 장치.
[청구항 4]
제3항에 있어서,상기 배기수단이, 상기 대향면의 중앙에 형성된 배기구구비하는기판처리 장치.
[청구항 5]
제1항에 있어서,상기 배기수단이, 상기 공간내의 압력을 검지하고 동시에 제어하는 수단구비하는기판처리 장치.
[청구항 6]
제4항에 있어서,상기 대향면이 열전달성의 양호한 금속제 부재의 표면으로 됨과 동시에, 상기 배기구에 메시가 배열설치되고, 상기 메시가열전달성양호한금속으로 된는 기판 처리 장치.
[청구항 7]
제1항에 있어서,상기 기판 고정수단이 상기 재치부에 배열설치된 클램프구비하는기판처리장치.
[청구항 8]
제1항에 있어서,상기 급기수단이, 가스유량 조정수단구비하는기판처리장치.
[청구항 9]
제1항에 있어서,상기 급기수단이, ar가스원구비하는기판처리장치.
[청구항 11]
제10항에 있어서,상기 급기수단이 상기 대향면의 주변부 근방에 등간격으로 형성된 복수의 급기구구비하는기판처리장치.
[청구항 12]
제11항에 있어서,상기 배기수단이, 상기 대향면의 중앙에 형성된 배기구구비하는웨이퍼의 기판처리장치.
[청구항 13]
제10항에 있어서,상기 배기수단이, 상기 공간내의 압력을 검지하고 또한 제어하는 수단구비하는웨이퍼의 기판처리장치.
[청구항 14]
제12항에 있어서,상기 대향면이 열전달성이 양호한 금속재 부재의 표면으로됨과 동시에, 상기 배기구에 메시가 배열설치되고, 상기 메시가열전달성양호한금속으로 되는웨이퍼의 기판처리장치.
[청구항 15]
제10항에 있어서,상기 웨이퍼 고정수단이 상기 재치부에 배열설치된 클램프구비하는웨이퍼의 기판처리장치.
[청구항 16]
제10항에 있어서,상기 급기수단이, 가스유량 조정수단구비하는웨이퍼이 기판처리장치.
[청구항 17]
제10항에 있어서,상기 급기수단이, ar가스원구비하는웨이퍼의 기판처리장치.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
기판처리 장치에서 대향면의 주변부에 등간격으로 형성된 복수의 급기구를 갖는 구성과, 대향면의 중앙에 형성된 배기구를 갖는 구성이 결합된 경우, 배기구에는 어떠한 요소가 배열 설치되어야 하는가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation주변부에 복수의 급기구가 있고 중앙에 배기구가 있는 구성이 결합되었을 때, 배기구에 설치되는 요소를 찾는 것이다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 3은 주변부의 복수 급기구를, 청구항 4는 중앙의 배기구를 명시한다.
- 상기 대향면의 주변부 근방에 등간격으로 형성된 복수의 급기구
- 상기 대향면의 중앙에 형성된 배기구
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3근거 선택
evidence_selection청구항 4를 인용하는 청구항 6에서 배기구에 설치되는 구체적인 요소를 확인할 수 있다.
- 상기 배기구에 메시가 배열설치되고
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4논리 통합
logical_integration급기구(청구항 3)와 배기구(청구항 4)의 구성이 결합된 상태에서, 해당 배기구의 상세 구성(청구항 6)을 통해 메시가 설치됨을 도출한다.
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5결론 도출
conclusion_formulation배기구에는 메시가 배열 설치되어야 한다는 결론을 얻는다.
- 상기 배기구에 메시가 배열설치되고
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6답변 생성
answer_generation질문에 대한 직접적인 답변으로 '메시'를 추출한다.
- 메시
최종 답변 (final_answer)
메시
핵심 해석 (core_interpretation)
기판 처리 장치에서 대향면의 주변부에는 복수의 급기구를, 중앙에는 배기구를 배치하며, 이때 배기구에는 열전달성이 양호한 금속 재질의 메시를 배열 설치하여 구성한다.