문맥 (context)
[청구항 2]
제1항에 있어서,상기 제1도전형 반도체 기판에소정의제3바이어스공급됨을특징으로 하는반도체장치.
[청구항 3]
제2항에 있어서,상기 제1도전형 웰이 제2도전형의 모오스 트랜지스터의 활성영역특징으로 하는반도체장치.
[청구항 4]
제3항에 있어서,상기 제2도전형 웰이 제1도전형의 모오스 트랜지스터를 더 가짐을 륵징으로 하는반도체장치.
[청구항 5]
제1항에 있어서,상기 제2도전형 웰과는 이격되고 제1도전형의 모오스 트랜지스터를 가지며 제4바이어스가 공급되는 다른하나의제2도전형웰더구비함을특징으로 하는반도체장치.
[청구항 7]
제5항에 있어서,상기 제1바이어스가 전원전압보다 소정레벨 이하로 낮은 전압이고, 상기 제2바이어스가 소정레벨의 음전압이며, 상기 제3바이어스가 접지전압이며, 상기 제4바이어스가 전훤전압특징으로 하는반도체장치.
[청구항 9]
제8항에 있어서,상기 제1도전형 기판이 상기 제3바이어스에 접속된 제1도전형의 고농도확산영역특징으로 하는반도체장치.
[청구항 10]
제9항에 있어서,상기 제1바이어스가 전원전압이고, 상기 제2바이어스가 소정레벨의 음전압이며, 상기 제3바이어스가 접지전압특징으로 하는반도체장치
[청구항 11]
제10항에 있어서,상기 소정레벨의 음전압을 출력하는음전압발생회로률더구비함을특징으로 하는반도체 장치.
[청구항 13]
제12항에 있어서,상기 제1도전형 기판이 상기 제2바이어스에 접속되고 상기 웰들과는 이격된 제1도전형의 고농도확산영역특징으로 하는반도체장치.
[청구항 14]
제13항에 있어서,상기 제1바이어스가 전원전압보다 소정레벨이상으로 높은 전압이고, 상기 제2바이어스가 접지전압이며, 상기 제3바이어스가 전원전압특징으로 하는반도체장치
[청구항 15]
제12항에 있어서,상기 제1바이어스가 전원전압보다 소정레벨 이상으로 높은 전압이고, 상기 제2바이어스가 소정레벨의 음전압이며, 상기 제3바이어스가 전원전압특징으로 하는반도체장치.
[청구항 16]
제15항에 있어서,상기 제1도전형기판이 접지전압에 연결된 제1도전형의 고농도확산영역특징으로 하는반도체장치.
[청구항 17]
제14항 또는 제15극에 있어서,상기 전원전압보다 소정레벨 이상으로 높은 전압을 발생하는전알펌핑회로더구비함을특징으로 하는반도체장치.
[청구항 18]
제12항게 있어서,상기 제1바이어스가 전원전압보다 소정레벨이하로 낮은 전압인고, 상기 제2바이어스가 소정레벨의 음전압이며, 상기 제3바이어스가 전훤전압특징으로 하는반도체장치.
[청구항 19]
제18항에 있어서,상기 제1바이어스가 전원전압도다 소정레벨이하로 낮은 전압이고, 상기 제2바이어스가 소정레벨의 음전압이며, 상기 제3바이어스가 전원전압보다 소정레벨이하로 낮은 전압특징으로 하는반도체 장치.
[청구항 20]
제15항에 있어서,상기 전원전압보다 소정 레벨 이하로 낮은 전압을 출력하는내부전압발생회로더구비함을특징으로 하는반도체장치.
[청구항 22]
반도체장치에 있어서
제1도전형 기관과, 상기 기관에 형성된 제2도전형웰과, 상기 제2도전형 웰내에 형성된 제1도전형웰과, 상기 제1도전형웰에 헝성된 제2도전형의 제1모오스 트랜지스떠 및 제1도전형외 제1고농도 확산 영역과, 상기 제2도전형웰에 형성된 제1도전형의 제2모모스 트랜지스터 및 제2도전형의 제2고농도 확산영역과, 상기 제1도전형 기판에 헝성된 제1도전형의 제3고농도확산영역을 구비하여, 상기 제1모오스 트랜지스터의 소오스 및 드레인과 상기 제1고농도확간영역과 상기 제2모오스 트랜지스터의 게이트와 상기 제3고농도 확산영역이 공통으로 접속되고, 상기 제1모오스 트랜지스터 의 게이트차 상기 제2모오스 트랜지스터의 소오스 및 드레인자 상기 제2고농도 확산영역이 공통으로 접속됨을 특징으로 하는 반도체장치
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
청구항 22에 기재된 반도체 장치에서 제1모오스 트랜지스터의 소오스 및 드레인이 공통으로 접속되는 영역은 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation청구항 22에 기재된 반도체 장치에서 제1모오스 트랜지스터의 소오스 및 드레인이 공통으로 접속되는 영역을 찾는다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 22에서 제1모오스 트랜지스터의 소오스 및 드레인과 관련된 접속 관계를 추출한다.
- 상기 제1모오스 트랜지스터의 소오스 및 드레인과 상기 제1고농도확간영역과 상기 제2모오스 트랜지스터의 게이트와 상기 제3고농도 확산영역이 공통으로 접속되고
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3근거 선택
evidence_selection제1모오스 트랜지스터의 소오스 및 드레인이 공통으로 접속된다고 명시된 구절을 선택한다.
- 상기 제1모오스 트랜지스터의 소오스 및 드레인과 상기 제1고농도확간영역과 상기 제2모오스 트랜지스터의 게이트와 상기 제3고농도 확산영역이 공통으로 접속되고
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4논리 통합
logical_integration문맥상 '제1모오스 트랜지스터의 소오스 및 드레인'과 '제1고농도 확간영역'이 공통으로 접속된다는 구조를 파악한다.
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5결론 도출
conclusion_formulation제1모오스 트랜지스터의 소오스 및 드레인이 공통으로 접속되는 영역은 제1고농도 확간영역임을 도출한다.
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6답변 생성
answer_generation질문에 대한 직접적인 답변인 '제1고농도 확간영역'을 생성한다.
최종 답변 (final_answer)
제1고농도 확간영역
핵심 해석 (core_interpretation)
본 발명은 제1모오스 트랜지스터의 소오스/드레인과 제1고농도 확산 영역, 그리고 제2모오스 트랜지스터의 게이트와 제3고농도 확산 영역을 공통으로 접속시키는 구조를 가진 반도체 장치에 관한 것이다.