문맥 (context)
[청구항 2]
제1항고주파 전력을 공급하는 수단은 플라즈마 챔버 공동내에 위치한 제1전극과 플라즈마 챔버 공동의 외측면에 위치한 제2전극을 포함하고 상기 제1전극과 제2전극 사이에 기판이 위치하여 플라즈마 챔버 공동내의 반응 가스에 고주파 전력을 공급하는전기회로완성하는것을특징으로 하는재료 제거 공구.
[청구항 3]
제1항플라즈마 챔버 공동으로 반응 가스를 공급하는 수단은전기전도성및다공성가스디퓨저포함하는것을특징으로 하는재료 제거 공구.
[청구항 4]
제1항플라즈마 챔버 공동의 외주부를 에워싸는 수단은 전도성 근접 표면들을 절연함으로써 플라즈마 챔버 공동의 외측면에서의 임의의 플라즈마의 감쇠를 촉진시키도록 제1 유전 절연체로부터 외측으로 연장하는제2유전절연체인것을특징으로 하는제료 제거 공구.
[청구항 5]
제1항상기 기판에 대한 상기 플라즈마 챔버 공동의 위치를 조정하는 수단은 x-y위치조정테이블인것을특징으로 하는재료 제거 공구.
[청구항 7]
제6항고주파 전력을 공급하는 수단을 플라즈마 챔버 공동내에 위치한 제1전극과 전기 전도성 고주파 가스 디퓨저와 플라즈마 챔버 공동의 외측면에 위치한 제2전극을 포함하고 상기 제1전극과 제2전극 사이에 기판이 위치하여 플라즈마 챔버 공동내의 반응 가스에 고주파 전력을 공급하는전기회로완성하는것을특징으로 하는재료 제거 공구.
[청구항 8]
제7항상부면 및 하부면을 갖고 있는 제1 전극은 상부면이 플라즈마 챔버 공동의 천장면과 접촉하도록 위치하고 상부면 및 하부면을 갖고 있는 고주파 가스 디퓨저는 그 상부면이 제1 전극의 하부면과 접촉하도록위치하는것을특징으로 하는재료 제거 공구.
[청구항 9]
제8항제1전극의 상부면 및 하부면은플라즈마챔버공동의천장면과동일면적및동일평면의기하학적형태갖는것을특징으로 하는재료 제거 공구.
[청구항 10]
기판 표면에서 한정된 플라즈마 보조 화학 에칭 반응을 수행하기 위한 재료 제거 공구에 있어서
하우징내의 온도와 압력을 조절하기 위한 수단을 포함하는 국부적인 플라즈마에칭 반응을 수행하는 하우징수단과 ,기판의 국부 영역 주위에서 국부적인 플라즈마 에칭 반응을 수행하기 위한 공동을 갖는 플라즈마 챔버를 한정하는 하우징내에 위치한 제1유전 절연체와 가스 디퓨저를 포함하며 플라즈마 챔버에 반응 가스의 흐름을 공급하기 위한 수단과 챔버내에 플라즈마를 생성하기 위하여 플라즈마 챔버내의 반응 가스에 고주파 전력을 제공하고, 플라즈마 챔버 공동내에 위치한 제1전극과 전기 전도성 고주파 가스 디퓨저 및 플라즈마 챔버공동의 외측면에 위치한 제2 전극을 포함하여 이 제1 전극 및 제2 전극 사이에 기판을 위치시켜 플라즈마 챔버공동내의 반응 가스에 고주파 전력을 공급하기 위한 전기회로를 완성하도록 하는 수단과 인접한 전도성 표면을 절연함으로써 플라즈마 챔버공동의 이ㅗ측면에서의 임의의 플라즈마의 소멸을 촉진시키도록 제1 유전 절연체로부터 외측으로 연장하여 제1 유전 절여네가 플라즈마 에칭이 이루어지는 사이트에 원주방향으로 인접한 높은 플라즈마와 반응 유속임피던스의 영역을 발생시키도록 하여 그 영역 외측면에서의 플라즈마가 감쇠되도록 제1유전 절연체보다 짧은 거리만큼 기판 을 지지하는 수단과 플라즈마 챔버에 대하여 직각 방향에서 기판 표면의 위치된 제2유전 절연체와 기판을 지지하는 수단과 플라즈마 챔버에 대하여 직각 방향에서 기판 표면의 위치를 조정하기 위한 x-y위치 조정 테이블 수단을 갖고 있는 반응기를 포함하는 것을 특징으로 하는 재료 제거 공구
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
재료 제거 공구에서 고주파 전력을 공급하여 전기회로를 완성하기 위해 제1전극, 제2전극과 함께 포함되어야 하는 구성 요소는 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation재료 제거 공구에서 제1전극, 제2전극과 함께 전기회로를 완성하여 고주파 전력을 공급하기 위해 필요한 구성 요소를 찾는 것이다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 7 및 청구항 10에서 고주파 전력을 공급하는 수단의 구성을 확인한다.
- 제1전극과 전기 전도성 고주파 가스 디퓨저와 플라즈마 챔버 공동의 외측면에 위치한 제2전극을 포함하고 상기 제1전극과 제2전극 사이에 기판이 위치하여 플라즈마 챔버 공동내의 반응 가스에 고주파 전력을 공급하는전기회로완성하는것을특징으로 하는재료 제거 공구
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3근거 선택
evidence_selection제1전극, 제2전극 외에 전기회로를 완성하는 데 포함되는 '전기 전도성 고주파 가스 디퓨저' 구절을 선택한다.
- 전기 전도성 고주파 가스 디퓨저와 플라즈마 챔버 공동의 외측면에 위치한 제2전극을 포함
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4논리 통합
logical_integration청구항 7과 10에 따르면, 고주파 전력을 공급하여 전기회로를 완성하기 위한 구성은 제1전극, 제2전극, 그리고 전기 전도성 고주파 가스 디퓨저로 이루어져 있음을 알 수 있다.
- 제1전극과 전기 전도성 고주파 가스 디퓨저와 플라즈마 챔버 공동의 외측면에 위치한 제2전극을 포함하고 상기 제1전극과 제2전극 사이에 기판이 위치하여 플라즈마 챔버 공동내의 반응 가스에 고주파 전력을 공급하는전기회로완성하는것을특징으로 하는재료 제거 공구
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5결론 도출
conclusion_formulation질문에서 요구하는 제1전극, 제2전극과 함께 포함되어야 하는 구성 요소는 전기 전도성 고주파 가스 디퓨저이다.
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6답변 생성
answer_generation추출된 핵심 구성 요소인 '전기 전도성 고주파 가스 디퓨저'를 답변으로 생성한다.
최종 답변 (final_answer)
전기 전도성 고주파 가스 디퓨저
핵심 해석 (core_interpretation)
재료 제거 공구에서 고주파 전력을 공급하여 전기회로를 완성하기 위해 제1전극, 제2전극과 함께 전기 전도성 고주파 가스 디퓨저를 포함하는 구성에 관한 기술이다.