문맥 (context)
[청구항 2]
제1항에 있어서,상기 광전변환영역의 수직구조가 오버-플로우드레인 구조로된것특징으로 하는고체촬상장치.
[청구항 3]
제2항에 있어서,상기 오버-플로우 드레인 구조의 도전형은상부인것을특징으로 하는고체촬상장치.
[청구항 4]
제1항에 있어서,상기 광흡수영역은 실리콘 또는 실리콘산화막보다광흡수계수물질로이루어진것을특징으로 하는고체촬상장치.
[청구항 5]
제4항에 있어서,상기 광흡수영역은 티타늄을 포함하는물질로이루어진것을특징으로 하는고체촬상장치.
[청구항 6]
제1항에 있어서,상기 전하전소채널 위로전송전극형성된것을특징으로 하는고체촬상장치.
[청구항 7]
제6항에 있어서,상기 전송전극이가장자리일부와상기광흡수영역오버랩되는것을특징으로 하는고체촬상장치.
[청구항 8]
제6항에 있어서,상기 전송전극 하부의 절연층nan은구조로된것을특징으로 하는고체촬상장치.
[청구항 9]
제1항에 있어서,상기 차광층은 수광내부로 연장되지 않고 상기 광흡수영역의 수광부 측면에거의수직적일치되는것을특징으로 하는고체촬상장치.
[청구항 12]
제10항에 있어서,상기 전송전극을 형성한 후 전면에 제2도전형의 불순물을 주입하여 상기 광전변환영역의 표면에제2도전형영역을형성주는것을특징으로 하는고체촬상장치의 제조방법.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
고체촬상장치에서 오버-플로우드레인 구조를 갖는 광전변환영역의 도전형은 어느 위치에 형성되어 있는가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation고체촬상장치의 오버-플로우드레인 구조 내 광전변환영역의 도전형 위치를 찾는 질문이다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 2는 오버-플로우드레인 구조를 언급하고, 청구항 3은 해당 구조의 도전형 위치를 명시한다.
- 상기 오버-플로우 드레인 구조의 도전형은상부인것을특징으로 하는고체촬상장치
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3근거 선택
evidence_selection도전형의 위치를 직접적으로 설명하는 청구항 3의 구절을 선택한다.
- 상기 오버-플로우 드레인 구조의 도전형은상부인것을특징으로 하는고체촬상장치
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4논리 통합
logical_integration청구항 2의 오버-플로우드레인 구조와 청구항 3의 도전형 위치 정보를 결합하여 분석한다.
- 상기 오버-플로우 드레인 구조의 도전형은상부인것을특징으로 하는고체촬상장치
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5결론 도출
conclusion_formulation오버-플로우드레인 구조의 도전형은 상부에 형성되어 있다는 결론을 도출한다.
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6답변 생성
answer_generation질문에 대한 직접적인 답변인 '상부'를 추출하여 답변을 생성한다.
최종 답변 (final_answer)
상부
핵심 해석 (core_interpretation)
본 발명은 고체촬상장치의 오버-플로우드레인 구조에서 도전형이 상부에 위치하도록 설계된 구조적 특징을 포함한다.