문맥 (context)
[청구항 13]
제12항에 있어서,상기 플라즈마에 불활성 가스를 변환하기 위한 수단은헬리콘파형플라즈마 발생부가지는것을특징으로 하는에칭 장치.
[청구항 14]
제13항에 있어서,상기 헬리콘 파형 플라즈마 발생부는 상기 제1챔버 주위에 제공되는 루프 안테나와, 상기 제1챔버 내에 자장을 발생하기 위하여 상기 루프 안테나 주위에 설비된 자장 발생기와, 상기 루프 안테나의 두 개 단부에 연결된 rf전력원가지는것을특징으로 하는에칭 장치.
[청구항 15]
제12항에 있어서,상기 불활성 가스를 공급하기 위한 상기 수단은 상기 제1챔버 내에 ar,kr,xe으로 구성되는 기로부터 선택된 적어도 하나를 포함하는가스공급하는것을특징으로 하는에칭 장치.
[청구항 16]
제12항에 있어서,상기 반응 가스를 공급하기 위한 상기 수단은 상기 제2챔버 내에 할로겐을 포함하는가스공급하는것을특징으로 하는에칭 장치.
[청구항 18]
제12항에 있어서,상기 보조 자극 수단은 상기 제2챔버 내에 반응 가스를 보조로 자극하기 위한보조 자극수단을부가적포함하는것을특징으로 하는에칭장치.
[청구항 19]
제18항에 있어서,상기 보조 자극 수단nan은나선형공명형플라즈마 발생부가지는것을특징으로 하는에칭 장치.
[청구항 20]
제19항에 있어서,상기 제2챔버는 서로 통하는 상단 및 하단 챔버를 가지며, 반응 가스는 상기 상단 챔버 내에 유입되며, 상기 나선형 공명 형태 플라즈마 발생부는 상기 상단 챔버에 나선형으로 감긴 코일과 상기 코일에 rf 전력원을 가지며, 피처리체는상기하단챔버지지되는것을특징으로 하는에칭 장치.
[청구항 21]
제20항에 있어서,상기제1 및 제2챔버를 배출하기 위한 배기 수단을 부가적으로 포함하며, 상기 제어 수단은 100m torr 또는 그 미만으로 상기 제2챔버의 압력을 유지하도록 불활성 가스 공급 수단과,상기반응가스공급수단및상기배기수단제어하는것을특징으로 하는에칭 장치.
[청구항 22]
제21항에 있어서,상기 제어 수단은 lom torr 또는 그 미만으로 상기 제2챔버의 압력을 유지하도록 상기 불활성 가스 공급 수단과,상기반응가스공급수단및상기배기수단제어하는것을특징으로 하는에칭 장치.
[청구항 23]
제20항에 있어서,상기제1 및 제2챔버를 배출하기 이한 배기 수단을 부가적으로 포함하며, 상기 제어 수단을 상기 제2챔버의 압력에서 보다 더 높은 상기 제1챔버의 압력을 만들도록 불활성 가스 공급 수단과,상기반응가스공급수단및상기배기수단제어하는것을특징으로 하는에칭 장치.
[청구항 24]
제12항에 있어서,상기제1 및 제2챔버를 배출하기 위한 배기 수단을 부가적으로 포함하며, 상기 수단은 100m torr 또는 그 미만으로 상기 제2챔버의 압력을 유지하도록 불활성 가스 공급 수단과,상기반응가스공급수단및상기배기수단제어하는것을특징으로 하는에칭 장치.
[청구항 25]
제24항에 있어서,상기 제어 수단은 10m torr 또는 그 미만으로 상기 제2챔버의 압력을 유지하도록 상기 불활성 가스 공급 수단과,상기반응가스공급수단및상기배기수단제어하는것을특징으로 하는에칭 장치.
[청구항 26]
제12항에 있어서,상기제1 및 제2챔버를 배출하기 위한 배기 수단을 부가적으로 포함하며, 상기 제어 수단은 상기 제2챔버의 압력 보다 더 높은 상기 제1챔버의 압력을 만들도록 상기 불활성 가스 공급 수단과,상기반응가스공급수단및상기배기수단제어하는것을특징으로 하는에칭 장치.
[청구항 28]
제27항에 있어서,상기 불활성 가스를 플라즈마로 변환하기 위한 상기 수단은헬리콘파형플라즈마 발생부가지는것을특징으로 하는에칭장치.
[청구항 29]
제27항에 있어서,상기 반응 가스가 제2챔버 내에 유입되고, 불활성 가스의 플라즈마가 상기 제2쳄버내확산되는것을특징으로 하는에칭 장치.
[청구항 30]
제27항에 있어서,상기 전극 수단은 불활성 가스의 플라즈마 내에 이온이 dc 바이어스에 의해서 피처리체로 유인되도록 피처리체를 배치하기 위한 전극과, dc 바이어스를 상기 전극에 인가하기 위한전력원가지는것을특징으로 하는에칭 장치.
[청구항 31]
제27항에 있어서 상기 제 1 및 제2챔버를 배출하기 위한 배기 수단과; 100m torr 또는 그 미만으로 상기 제2챔버의 압력을 유지하도록 불활성 가스 공급 수단과, 상기 반응 가스 공급 수단 및 상기 배기 수단을 제어하기 위한제어수단을부가적포함하는것을특징으로 하는에칭 장치.
[청구항 32]
제27항에 있어서,상기제 1 및 제2챔버를 배출하기 위한 배기 수단과; 상기 제2챔버의 압력보다 더 높은 상기 제1챔버의 압력을 만들도록 상기 불활성 가스 공급 수단과, 상기 반응 가스 공급 수단 및 상기 배기 수단을 제어하기 위한제어수단을부가적포함하는것을특징으로 하는에칭 장치.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
에칭 장치에서 제2챔버의 압력을 100m torr 또는 그 미만으로 유지하기 위해 제어 수단이 조절하는 구성 요소들은 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation제2챔버의 압력을 100m torr 또는 그 미만으로 유지하기 위해 제어 수단이 조절하는 구성 요소들을 찾는 것이다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 21, 24, 31 등에서 제어 수단이 압력을 유지하기 위해 무엇을 제어하는지 확인한다.
- 상기 제어 수단은 100m torr 또는 그 미만으로 상기 제2챔버의 압력을 유지하도록 불활성 가스 공급 수단과,상기반응가스공급수단및상기배기수단제어하는것을특징으로 하는에칭 장치
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3근거 선택
evidence_selection제어 수단이 조절하는 대상인 '불활성 가스 공급 수단', '반응가스공급수단', '배기수단' 구절을 선택한다.
- 불활성 가스 공급 수단과,상기반응가스공급수단및상기배기수단제어
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4논리 통합
logical_integration제어 수단은 압력 유지를 목적으로 불활성 가스 공급 수단, 반응가스공급수단, 배기수단을 제어한다는 인과관계를 도출한다.
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5결론 도출
conclusion_formulation질문에서 요구하는 조절 대상 구성 요소는 불활성 가스 공급 수단, 반응가스공급수단, 배기수단이다.
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6답변 생성
answer_generation추출된 구성 요소들을 리스트 형식으로 정리하여 최종 답변을 생성한다.
최종 답변 (final_answer)
불활성 가스 공급 수단, 반응가스공급수단, 배기수단
핵심 해석 (core_interpretation)
에칭 장치에서 제2챔버의 압력을 일정 수준(100m torr 이하)으로 정밀하게 제어하기 위해 불활성 가스 공급, 반응 가스 공급, 그리고 배기 과정을 통합적으로 조절하는 기술적 구성을 나타낸다.