쿨러스터툴 소프트 에칭 모듈 및 전자 사이클로트론 공명 플라즈마 발생기 document_id 1019930703501

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 자석을 플라즈마 발생 위치를 한정하는 자장에서 적어도 하나의 커스프를 형성하도록 위치 및 방향 설정되며, 상기 자석의 회전은 캐비티의 거의 중심선 주위로 플라즈마의 회전과 커스프의회전야기하는것을특징으로 하는에칭 모듈. [청구항 3] 제2항에 있어서,상기 자석은 커스프가 길이 방향으로 이격된 2개의 환형 플라즈마 발생 자장부를 분리시키는 하나의 싱글 커스프 자장을 형성하도록 위치 및 방향 설정되며, 상기 자석의 회전은 캐비티의 거의 중심선 주위로 플라즈마의 회전과 커스프의회전야기하는것을특징으로 하는모듈. [청구항 4] 제3항에 있어서,상기 자석은 캐비티의 외측부 주위에 이격된 복수개의 영구자석을 포함하며, 각각의 영구자석은 일반적으로 캐비티의 중심선과 교차되는 자극 축선을 가지며, 각각의 영구자석은 캐비티에서 싱글 커스프 자장을 형성하도록 캐비티의 중심선을 향하여 동일한 자극을 갖도록방향설정되는것을특징으로 하는모듈. [청구항 5] 제2항에 있어서,상기 자석은 복수개의 축선 길이 방향으로 이격된 플라즈마 발생 지역을 각각 분리시키는 복수개의 커스프를 갖는 멀티 커스프 자장을 형성하도록 위치 및 방향 설정되며, 상기 자석의 회전은 캐비티의 거의 중심선과 주위로 커스프의 회전과 길이방향플라즈마 발생지역의회전과플라즈마의회전야기하는것을특징으로 하는모듈. [청구항 6] 제5항에 있어서,상기 자석은 캐비티의 권형벽의 외측부 주위에 이격된 복수개의 영구자석을 가지며, 각각의 영구자석은 일반적으로 캐비티의 중심선과 교차되는 자극 축선을 가지며, 자석의 방위는 캐비티에 멀티커스프 자장을 형성하도록 캐비티의 중심선에 대해짝수배변경하는것을특징으로 하는모듈. [청구항 7] 제1항에 있어서,캐비티는 가스도입포트를 갖는 밀폐된 단부와 상기 가스도입 포트와 연결된 가스 입구 구멍을 가지며, 상기 구멍은 캐비티의 밀폐된 단부를 균일하게 횡단하여 가스를 캐비티에 균일하게 도입시키게 하는패턴분포되는것을특징으로 하는모듈. [청구항 8] 제1항에 있어서,캐비티는 원통형이며 그 중심선을 구성하는 축선을 가지며, 자석 회전 수단은 자석을 실린더의 축선 주위로 회전시키도록 작동되며, 웨이퍼 지지체는 그 축선사에 지지체는 웨이퍼를 중심에 위치시키도록위치되는것을특징으로 하는모듈. [청구항 9] 제8항에 있어서,연결 수단은 동일한 양의 마이크로파 에너지를 캐비티에 연결시키도록 이송 라인에 전기적으로 접속된 복수개의 루프를 포함하며, 상기 루프는 캐비티의 축선 주위로 이격되며 캐비티내의 마이크로파 에너지에 의한 tm1 여자 모드를 형성하는형태및방위갖는것을특징으로 하는모듈. [청구항 10] 제9항에 있어서,캐비티는 챔버에 연결되었을 때 캐비티에서 tm11 여자 모드를 형성하는형태및치수갖는것을특징으로 하는모듈. [청구항 12] 제11항에 있어서,상기 자석은 플라즈마 발생 위치를 한정하는 자장에서 적어도 하나의 커스프를 형성하도록 위치 및 방향 설정되며, 상기 자석의 회전은 캐비티의 거의 중심선 주위로 플라즈마의 회전과 커스프의회전야기하는것을특징으로 하는웨이퍼 플라즈마 처리 장치 [청구항 13] 제12항에 있어서,상기 자석은 커스프가 길이 방향으로 이격된 2개의 환형 플라즈마 발생 자장부를 분리시키는 하나의 싱글 커스프 자장을 형성하도록 위치 및 방향 설정되며, 상기 자석의 회전은 캐비티의 거의 중심선 주위로 플라즈마의 회전과 커스프의회전야기하는것을특징으로 하는모듈. [청구항 14] 제13항에 있어서,상기 자석은 캐비티의 외측부 주위에 이격된 복수개의 영구자석을 포함하며, 각각의 영구자석은 일반적으로 캐비티의 중심선과 교차되는 자극 축선을 가지며, 각각의 영구자석은 캐비티에서 싱글커스프 자장을 형성하기 위해 캐비티의 중심선을 향하여 동일한 자극을 갖도록방향설정되는것을특징으로 하는장치. [청구항 15] 제12항에 있어서,상기 자석은 복수개의 축선 길이 방향으로 이격된 플라즈마 발생 지역을 각각 분리시키는 복수개의 커스프를 갖는 멀티 커스프 자장을 형성하도록 위치 및 방향 설정되며, 상기 자석의 회전은 캐비티의 거의 중심선과 주위로 커스프의 회전과 길이방향플라즈마 발생지역의회전과플라즈마의회전야기하는것을특징으로 하는장치. [청구항 16] 제15항에 있어서,상기 자석은 캐비티의 권형벽의 외측부 주위에 이격된 복수개의 영구자석을 가지며, 각각의 영구자석은 일반적으로 캐비티의 중심선과 교차되는 자극 축선을 가지며, 자석의 방위는 캐비티에 멀티커스프 자장을 형성하도록 캐비티의 중심선에 대해짝수배변경하는것을특징으로 하는모듈. [청구항 17] 제11항에 있어서,캐비티는 그 한쪽 단부에 가스 흐름이 캐비티내에서 균일하게 분포되도록 가스 흐름을 도입하기 위한수단갖는것을특징으로 하는장치. [청구항 18] 제11항에 있어서,캐비티는 원통형이며 그 중심선을 구성하는 축선을 가지며, 자석 회전 수단은 자석을 실린더의 축선 주위로 회전시키도록 작동되며, 웨이퍼 지지체는 그 축선상에 지지된 웨이퍼를 중심에 위치시키도록위치되는것을특징으로 하는장치. [청구항 19] 제18항에 있어서,연결 수단은 동일한 양의 마이크로파 에너지를 캐비티에 연결시키도록 이송 라인에 전기적으로 접속된 복수개의 루프를 포함하며, 상기 루프는 캐비티의 거의 중심선 주위로 이격되며 캐비티내의 마이크로파 에너지에 의한 tm01 여자 모드를 형성하는형태및방위갖는것을특징으로 하는장치. [청구항 21] 제20항에 있어서,상기 자석은 플라즈마 발생 위치를 한정하는 자장에서 적어도 하나의 커스프를 형성하도록 위치 및 방향 설정되며, 상기 자석의 회전은 캐비티의 거의 중심선 주위로 플라즈마의 회전과 커스프의회전야기하는것을특징으로 하는ecr발생기. [청구항 22] 제21항에 있어서,상기 자석은 커스프가 캐비티의 중심선을 따라 상호 이격된 2개의 길이 방향의 환형 플라즈마 발생 자장을 분리시키는 하나의 싱글 커스프 자장을 형성하도록 위치 및 방향 설정되며, 상기 자석의 회전은 캐비티의 거의 중심선 주위로 플라즈마의 회전과 플라즈마 발생 지역의 회전과 커스프의회전야기하는것을특징으로 하는ecr발생기. [청구항 23] 제22항에 있어서,상기 자석은 캐비티의 관형벽의 외측부 주위에 이격된 복수개의 영구자석을 포함하며, 각각의 영구자석은 일반적으로 캐비티의 중심선과 교차되는 자극 축선을 가지며, 각각의 영구자석은 싱글 커스프 자장을 형성하도록 캐비티의 중심선을 향하여 동일한 자극을 갖도록방향설정되는것을특징으로 하는ecr발생기. [청구항 24] 제21항에 있어서,상기 자석은 캐비티의 중심선 주위에 정렬된 복수개의 커스프를 갖는 널티 커스프 자장을 형성하도록 위치 및 방향 설정되며, 상기 각각의 커스프는 2개의 축선 방향으로 이격된 플라즈마 발생 지역을 분리시키며, 상기 자석의 회전은 캐비티의 거의 중심선 주위로 커스프의 회전과 길이방향플라즈마 발생지역의회전과플라즈마의회전야기하는것을특징으로 하는ecr발생기. [청구항 25] 제24항에 있어서,상기 자석은 캐비티의 외측부 주위에 이격된 복수개의 영구자석을 가지며, 각각의 영구자석은 일반적으로 캐비티의 중심선과 교차되는 자극 축선을 가지며, 자석의 방위는 멀티 커스프 자장을 형성하도록 캐비티의 중심선에 대해짝수배변경하는것을특징으로 하는ecr발생기. [청구항 26] 제20항에 있어서,캐비티는 가수 도입 포트를 갖는 밀폐된 단부와 캐비티의 거의 중심선 주위로의 패턴으로 배치된 복수개의 가스 입구 구멍을 가지며, 상기 구멍은 가스 도입 포트와 유체 연결되며, 상기 캐비티는 플라즈마 발생 지역과 대향하는 밀폐된 단부로부터 축선 방향으로 이격된 개구를 가지며, 개구를 통하여가스 배출포트연결되는것을특징으로 하는ecr발생기. [청구항 27] 제20항에 있어서,캐비티는 원통형이며 캐비티의 중심선을 구성하는 축선을 가지며, 자석 회전 수단은 자석을 상기 축선 주위로 회전시키도록작동되는것을특징으로 하는ecr발생기. [청구항 28] 제27항에 있어서,연결 수단은 이송 라인에 전기적으로 접속되고 캐비티의 축선 주위로 이격된 복수개의 루프를 포함하며, 상기 루프는 캐비티내의 마이크로파 에너지에 의한 tm1여자 모드를 형성하는형태및방위갖는것을특징으로 하는ecr발생기. [청구항 29] 제28항에 있어서,캐비티는 챔버에 연결되었을 때 캐비티에서 tm11여자 모드를 형성하는형태및치수갖는것을특징으로 하는ecr발생기. [청구항 30] 제28항에 있어서,이송 라인은 루프 사이에서 거의 동일하게 마이크로파 에너지를 분할하도록 이송 라인에 연결된동력분할기갖는것을특징으로 하는ecr발생기. [청구항 31] 제28항에 있어서,각각의 루프는 캐비티의 축선심에서 교차되는북수개의평면층평면에놓이는것을특징으로 하는ecr발생기. [청구항 40] 제39항에 있어서,마이크로파 에너지 연결 단계는 복수의 루프 사이에서 마이크로파 에너지를 동일하게 분할하는단계포함하는것을특징으로 하는반도체 웨이퍼의 플라즈마 처리 방법.