반도체 처리장치용 웨이퍼 트레이 및 세라믹 블레이드 document_id 1019940017068

[청구항 12] 제11항에 있어서,상기 작업장소들중 제1장소가 주위압력 상태이고 제2장소가 주위압력 또는 대기압 이하의 압력 상태이며, 나머지 장소들이 모두 대기압 이하의 압력상태인장치. [청구항 13] 제11항에 있어서,상기 제1기판지지장치가 편평한 블레이드이고, 상기 제2기판지지장치가 상기 블레이드상에 제거가능하게 결합될 수 있는 기판 지지트레이인장치. [청구항 14] 제13항에 있어서,및 제2장소가 모두 주위압력 상태일 때 상기 제1 및 제2장소의 사이에서의 상기 아암의 이동중에 상기 블레이드가 상기 기판을 지지하며, 상기 제2장소 및 제3장소가 모두 대기압이하의 압력 상태일 때 상기 제2 및 제3장소의 사이에서의 상기 아암의 이동중에 상기 블레이드와 결합된 상기 트레이가 상기 기판지지하는장치. [청구항 15] 제11항에 있어서,상기 제1기판지지장치가 주위압력 상태의 상기 장소들 사이에서의 상기 아암의 이동중에 상기 블레이드상에 지지된 웨이퍼를 고정시키는 진공수단포함하고 있는장치. [청구항 16] 제11항에 있어서,적어도 하나의 상기 장소가 위치되어 있는 중간 진공챔버를 더 포함하고 있으며, 상기 중간진공챔버내의 압력이 주위대기압 또는 대기압 이하의 압력 어느 것으로 유지될 수 있도록 제어가능한장치. [청구항 17] 제16항에 있어서,상기 아암이 상기 제1기판지지장치의 도움으로 상기 중간진공챔버의 외부의 주위 압력 상태인 상기 제1장소로 부터 주위압력 상태인 상기 중간 진공챔버내의 상기 제2장소안으로 기판이송시키는장치. [청구항 18] 제17항에 있어서,처리챔버를 더 포함하고 있으며, 상기 아암이 상기 제2기란지지장치의 도움으로 대기압 이하의 압력 상태인 상기 중간 진공챔버내의 상기 제2장소로 부터 상기 처리챔버안으로 기판이송시키는장치. [청구항 20] 제19항에 있어서,상기 중간 분위기내에 임시 기판저정장치더 포함하고 있는장치. [청구항 21] 제20항에 있어서,상기 트레이가 사용중이 아닐 때 상기 임시 기판저장 장치상지지되는장치. [청구항 22] 제19항에 있어서,상기 블레이드가 상기 초기 분위기와 상기 중간 분위기 사이에서의 상기 기판의 이송중에 상기 기판을 상기 블레이드에 고정시키는 진공흡입을 제공하는 진공구멍포함하고 있는장치. [청구항 23] 제19항에 있어서,상기 중간 분위기 및 상기 초기 분위기가 상기 중간 분위와 상기 초기 분위기 사이에서의 기판의 이송중에 주위압력상태인장치. [청구항 24] 제19항에 있어서,상기 제어가능한 중간 분위기를 형성하는 배출가능한 이송챔버, 및 상기 이송챔버와 제어가능하게 소통하여서 상기 대기압 이하의 처리 분위기를 형성하는 처리챔버더 포함하고 있는장치. [청구항 26] 제25항에 있어서,상기 주 저장부와 상기 보조 저장부 사이에서의 기판의 이송이 주위대기압 상태에서 수행되고, 상기 보조 저장부와 상기 처리챔버 사이에서의 기판의 이송이 대기압 이하의 압력 상태수행되는장치. [청구항 27] 제25항에 있어서,상기 하우징내에 이송챔버를 더 포함하고 있고, 상기 이송챔버는 상기 처리챔버에 대해서 독립적으로 압력이 제어가능한 분위기를 가지며, 상기 보조기판 저장부가 상기 이송챔버내위치된장치. [청구항 29] 제28항에 있어서,상기제1 및 제2기판지지부가 서로에 대해서 제거 가능하게 결합될 수 있어서, 상기 챔버 및 상기 다른 장소가 모두 대기압 이하의 압력 상태일 때 상기 챔버와 상기 다른 장소의 사이에서 상기 기판함께 이송시키는장치. [청구항 30] 제28항에 있어서,상기 챔버와 상기 장소들의 사이에서 이동가능한 기계식 아암을 더 포함하고 있으며, 상기 기계식 아암이 그 선단부에서 상기 제1 및 제2기판지지부지지한장치. [청구항 31] 제28항에 있어서,상기 제1기판지지부가 상기 흡입수단을 형성하는 내부 도관수단 및 구멍수단을 갖춘편평한블레이드인장치. [청구항 32] 제31항에 있어서,상기 제2기판지지부가 상기 블레이드에 제거가능하게 결합되어서 상기 블레이드와 함께 상기 챔버와 상기 다른 장소의 사이에서 기판을 이동시키는데 사용되는 웨이퍼 보유트레이인장치. [청구항 33] 제28항에 있어서,상기 챔버가 상기 하나의 챔버와 상기 다른 챔버중 어느 하나로 부터 다수의 웨이퍼를 수용하는 중간 웨이퍼 저장부포함하고 있는장치. [청구항 34] 제33항에 있어서,상기 웨이퍼 저장부가 상기 제2기판지지부를 사용치 않을 때 상기 제2기판지지부를 수용하는 위치형성하고 있는장치. [청구항 36] 제35항에 있어서,상기 중간 저장부가 상기 아암수단의 설치위치와 상기 제1저장부의 위치의사이에 있는기판이송장치. [청구항 37] 제35항에 있어서,상기 블레이드가 상기 중간 저장부를 관통하여서 상기 이송챔버의 바깥쪽으로 상기 제1기판 저장부 안돌출한기판이송장치. [청구항 38] 제35항에 있어서,상기 중간 저장부가 상기 트레이와 다수의 기판에 대해서 측방향으로 서로 평행하게 이격된 일렬의 저장위치를 형성하며, 모든 상기 저장위치들 사이의 간격이 상기 트레이가각각의상기저장위치통과하기에충분할정도로 큰 기판이송장치. [청구항 40] 제35항에 있어서,상기 블레이드가 상기 제1저장부와 상기 중간 저장부 사이에서의 기판의 이송중에 상기 기판을 고정시키는 흡입수단을 포함하고 있으며, 상기 제1저장부와 상기 중간 저장부 사이에서의 기판의 이송이 대체로 대기압 상태수행되는기판이송장치. [청구항 41] 제35항에 있어서,상기 이송챔버로 부터 상기 처리챔버로의 기판의 이송전에 상기 처리챔버의 압력에 상응하는 대기압 이하의 압력을 상기 이송챔버에 제공하는 수단을 더 포함하고 있으며, 상기 중간 저장부와 상기 처리챔버 사이에서의 기판의 이송이 대기압 이하의 압력 상태수행되는기판이송장치. [청구항 44] 제43항에 있어서,상기 상부층이 고온에 견딜 수 있는 기판 지지면있는블레이드. [청구항 45] 제43항에 있어서,상기 상부층이 적어도 하나의 관통구멍을 갖추고 있고, 상기 하부층이 내부에 형성된 적어도 하나의 채널을 갖추고 있으며, 상기 상하부층이 함게 결합되었을 때 상기 관통구멍이 상기 채널과 소통하여서 상기 관통구멍 및 상기 채널을 통해서 상기 블레이드상에 지지된 기판의 흡입소통되는블레이드. [청구항 46] 제43항에 있어서,상기 전극지역이 기판 또는 트레이의 존재상태를 검출하도록 적어도 하나의 캐패시터 센서형성하고 있는블레이드. [청구항 47] 제46항에 있어서,상기 캐패시터 센서가 상기 블레이드의 상기 상하부층에 각각 형성되어 있는 상하부 전극을 포함하고 있으며, 상기 상하부층이 함께 결합되었을때 상기 전극들 사이로 작은 유전 틈새형성되는블레이드. [청구항 48] 제44항에 있어서,상기 상하부층이함께 소결된블레이드.