플라즈마 처리장치 document_id 1019940018442

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 전기 절연수단은 강성의 환형 시일드로 이루어져 있고, 상기 환형 시일드는 내부 주변부 테두리와 외부 주변부 테두리를 갖춘 절연재료로 이루어져 있으며, 상기 제1전극이상기내부주변부테두리내에끼워있는플라즈마 처리장치. [청구항 3] 제2항에 있어서,상기 전기 절연수단을 통해서 알에프(rf) 전력유동을 제공하기 위한 알에프(rf)전력유동 제공수단이 상기 환형 시일드의 상기 내부 주변부 테두리와 상기 외부 주변부 테두리 사이에서 상기 환형시일드를 관통하여 연장된 적어도 하나의 개구부포함하고 있는플라즈마 처리장치. [청구항 4] 제3항에 있어서,상기 환형 시일드가, 상기 환형 시일드 주위로 이격되고 상기 한형 시일드를 관통하여 형성된 다수의 개구부들한정하는플라즈마 처리장치. [청구항 5] 제4항에 있어서,제1전극이 샤워헤드(showerhead)로 이루어져 있고, 상기 샤워헤드는 상기 샤워헤드를 관통하여 형성된 다수의 구멍들을 한정하고, 가스가 상기 구멍들을 통해서 챔버내유동하게 되는플라즈마 처리장치. [청구항 6] 제5항에 있어서,상기 샤워헤드가알루미늄으로이루어져있는플라즈마 처리장치. [청구항 7] 제6항에 있어서,상기 플라즈마 처리장치가, 상기 샤워헤드 위로 연장된 매니홀드 나사들을 더 포함하고 있으며, 상기 샤워헤드는 상기 샤워헤드로부터 시일드 위로 방사상 외부로 연장된 장착 플랜지를 갖추고 있고, 상기 나사들을 상기 샤워헤드를 상기 매니홀드에 고정시키기 위해서 상기 샤워헤드의 상기 장착플랜지를 통하여 상기 매니홀드내연장되는플라즈마 처리장치. [청구항 8] 제7항에 있어서,상기 시일드에 형성된 각각의 개구부가 상기 샤워헤드의 상기 장착 플랜지에 제공된 나사정렬되는플라즈마 처리장치. [청구항 9] 제1항에 있어서,상기 처리챔버내로 도입된 가스를 배출시키기 위하여 상기 제2전극 근처에 위치된 배출수단더 포함하는플라즈마 처리장치. [청구항 11] 제10항에 있어서,상기 시일드를 통해서 상기 알에프(rf) 전력유동을 제공하기 위한 알에프(rf) 전력유동 제공수단이 상기 환형 시일드를 관통하여 형성된 적어도 하나의 개구부포함하는플라즈마 처리장치. [청구항 12] 제11항에 있어서,상기 환형 시일드가, 상기 환형 시일드 주위로 이격되어 제공된 다수의 개구부한정하는플라즈마 처리장치. [청구항 13] 제12항에 있어서,샤워헤드가알루미늄으로이루어져있는플라즈마 처리장치. [청구항 14] 제13항에 있어서,상기 플라즈마 처리장치가, 상기 샤워헤드 위로 연장된 매니홀드 및 나사들을 더 포함하고 있으며, 상기 샤워헤드는 상기 샤워헤드로부터 시일드 위로 방사상 외부로 연장된 장착 플랜지를 갖추고 있고, 상기 나사들은 상기 샤워헤드를 상기 매니홀드에 고정시키기 위해서 상기 샤워헤드의 상기 장착 플랜지를 통하여 매니홀드내연장되는플라즈마 처리장치. [청구항 15] 제14항에 있어서,상기 환형 시일드에 형성된 각각의 개구부가 상기 샤워헤드의 상기 장착 플랜지에 제공된 나사정렬되는플라즈마 처리장치. [청구항 16] 제15항에 있어서,상기 제2전극이, 상기 처리챔버내에서 처리될 몸체를 지지하기에 적합한 시스셉터인플라즈마 처리장치. [청구항 17] 제10항에 있어서,상기 처리챔버내로 도입된 가스를 배출시키기 위하여 상기 제2즌걱 근처에 위치된 배출 수단더 포함하는플라즈마 처리장치.