반도체 처리 챔버내에서 대상물의 온도를 조절하는 방법과 준무한의 열원 및 흡열 장치 document_id 1019940027695

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 2차 대상물을 상기 1차 대상물에 대해서 소정의 온도차이로 유지하도록 상기 2차 대상물에 연결된 흡열부더 포함하고 있는장치. [청구항 3] 제1항에 있어서,상기 2차 대상물과 유사하고 2차 틈새를 형성하도록 상기 1차 열전달 표면과 양립 할 수 있는 관계를 3차 대상물로서, 상기 1차 대상물의 온도를 상기 2차 대상물과 3차 대상물의 각각의 온도 사이의 소정의 값으로 조절하기에 용이하도록 상기 2차 대상물이 흡열부로 작동하고 상기 3차 대상물이 열원으로 작동하는 3차 대상물더 포함하고 있는장치. [청구항 4] 제3항에 있어서,상기 1차 대상물에 대한 소정의 온도를 신속하게 2차 틈새의 압력을 감소시킴과 동시에 상기 1차 틈새내의 압력을 증가시키기 위한 조절기더 포함하고 있는장치. [청구항 5] 제1항에 있어서,상기 1차 대상물이 금속 재료형성되어 있는장치. [청구항 7] 제6항에 있어서,부가적인 흡열기의 용량을 제공하도록 상기 국소 흡열기에 연결되어 있는 전제 흡열기더 포함하고 있는준 무한의 열원과 흡열장치. [청구항 8] 제7항에 있어서,상기 국소 흡열부가 상기 국소 흡열부를 통한 열전달을 위해 유제 통로를 포함하고 있고, 상기 전체 흡열부가 상기 유체를 1차 온도로 상기 국소 흡열부공급하는준 무한 열원과 흡열장치. [청구항 10] 제6항에 있어서,상기 압력조절장치가 상기 가스틈새에 연결된 벨로스를 포함하고 있으며. 상기 가스틈새와 상기 벨로스가 밀페된 가스틈새의 시스템을 형성하고, 상기 벨로스가 벨로스를 둘러싼 챔버내에 둘러 싸여있고, (b) 상기 벨로스를 둘러싼 챔버내의 압력이 상기 온도 조절기에 의해서 제어되는 상기 온도조절기에 의해서 조절되며, 그리고, (c) 상기 벨로스가 상기 벨로스를 둘러싼 챔버내의 압력과 동일한 상기 가스 틈새의 시스템내의 압력을 형성하도록 상기 벨로스를 둘리싼챔버내의압력변화를자동조절하는것을특징으로 하는준 무한 열원과 흡열장치. [청구항 11] 제6항상기 압력조절장치가 상기 가스틈새에 연결된 상기 벨로스를 포함하고 있고, 상기 가스틈새와 상기 벨로스가 밀폐된 가스틈새의 시스템을 형성하며, 상기 벨로스가 벨로스를 둘러싼 플레임내에 둘러싸여 있고, 그리고 기계적 벨로스 작동기가 상기 벨로스와 상기 벨로스를 둘러싼 프레임의 사 이에 연결되어 있으며, (b) 상기 기계적 벨로스 작동기가 상기 가스 틈새의 시스템의 용적을 증가시키고 감소시키도록 상기 벨로스를 팽창 및 압축시킬 수 있고, 상기 벨로스를 둘러싼 작동기가 상기 온도조절기에 의해서 조절되며, 그리고 (c) 상기 기계적 벨로스 조작기가 상기 가스 틈새의 시스템에서 가스의 열저도율을 조절하도록상기벨로스내의압력조절하는것을특징으로 하는준 무한 열원과 흡열장치. [청구항 12] 제6항에 있어서,상기 틈새를 태우고 있는 상기 가스가 가스흡착재료에 대한 흡착성이 있고, (b) 상기 압력조절장치가 상기 가스틈새에 연결된 흡착재료를 둘러싼 챔버를 포함하고 있고, 상기 가스틈새와 흡탁재료를 둘러싼 챔버가 밀폐된 가스틈새의 시스템을 형성하며, 상기 가스흡착재료 매체가 상기 흡착재료를 둘러싼 챔버내에 배열되어 있고, 상기 흡착재료를 둘러싼 챔버는 가열원에 가깝게 배열되어 있으며, 그리고 (c) 상기 가열원의 작동이 상기 온도조절기에 의해서조절되는것을특징으로 하는준 무한의 열원과 흡열 장치. [청구항 13] 제12항에 있어서,상기 가열원이 상기 흡착재료를 둘러싼 챔버를 둘러싸고 있는 일련의 가열코일포함하고 있는준 무한의 열원과 흡열장치. [청구항 19] 제15항에 있어서,상기 2차 대상물을 상기 1차 대상물에 비교되는 온도차이로 유지하도록 상기 2차 대상물과 상기 열원과 흡열부 사이에 열전달원 또는 흡열부를 제공하는 단계더 포함하고 있는방법.