가공데이터 · 특허 지식베이스

플라즈마 처리방법 및 플라즈마 처리실의 클리닝 방법 document_id 1019940029516

출원번호
1019940029516
분류
전기(H섹션)
문맥 (context)
[청구항 1] 마이크로 프라즈마 처리장치에 있어서 피처리기판이 배치되는 시료대 상기 시료대를 내부에 가지고 있으며 상기 피처리기판이 배치되어 있는 상기 시료대의 표면에 대향하는 개구부를 가지는 처리실과 상기 처리실의 상기 개구부 외측에 설치되며 상기 시료대방향에 대하여 테이퍼상으로 확대된 내면을 가지는 비자성 도전재료제 중공 원통상의 방전블록과 상기 방전블록의 타단 개구부에 마이크로파 도입창을 거쳐 접속된 원형 도파관과 상기 원형 도파관내에 설치되어 마이크로파의 튜닝을 행하는 튜닝수단과 상기 방전블록의 외측에 설치된 솔레노이드코일과 상기 방전블록내에 처리가스를 공급하는 가스공급수단과 상기 처리실내를 소정압력으로 감압배기하는 진공배기수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 마이크로파 플라즈마 처리장치 [청구항 2] 제1항에 있어서,상기 가스공급수단은 가스공급구가 상기 방전블록의 마이크로파 진행방향에서 상기 방전블록 앞에 형성되어 있고, 복수의 가스분출구가 상기 방전블록의 내주면에 균등하게배치되어있는것을특징으로 하는마이크로파 플라즈마 처리장치. [청구항 3] 마이크로 플라즈마 처리장치에 있어서 피처리기판이 배치되는 시료대 상기 시료대를 내부에 가지고 있으며 상기 피처리기판이 배치되어 있는 상기 시료대의 표면에 대향하는 개구부를 가지는 처리실과 상기 처리실의 상기 개구부 외측에 설치되며 상기 시료대방향에 대하여 테이퍼상으로 확대된 내면을 가지는 비자성 도전재료제 중공 원통상의 방전블록과 상기 방전블록의 타단 개구부에 마이크로파 도입창을 거쳐 접속된 원형 도파관과 상기 원형 도파관내에 설치되어 마이크로파의 튜닝을 행하는 튜닝수단과 상기 방전블록의 외측에 설치된 솔레노이드코일과 상기 방전블록내에 처리가스를 공급하는 가스공급수단과 상기 처리실내를 소정 압력으로 감압배기하는 진공배기 수단을 포함하고, 상기 방전블록의 내벽면상에 보호부재가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 마이크로파 플라즈마 처리장치 [청구항 4] 제3항에 있어서,상기 보호부재가 내플라즈마성재료인것을특징으로 하는마이크로파 플라즈마 처리장치. [청구항 5] 마이크로 플라즈마 처리장치에 있어서 피처리기판이 배치되는 시료대 상기 시료대를 내부에 가지고 있으며 상기 피처리기판이 배치되어 있는 상기 시료대의 표면에 대향하는 개구부를 가지는 처리실과 상기 처리실의 상기 개구부 외측에 설치되며 상기 시료대방향에 대하여 테이퍼상으로 확대된 내면을 가지는 비자성 도전재료제 중공 원통상의 방전블록과 상기 방전블록의 타단 개구부에 마이크로파 도입창을 거쳐 접속된 원형 도파관과 상기 원형 도파관내에 설치되어 마이크로파의 튜닝을 행하는 튜닝수단과 상기 방전블록의 외측에 설치된 솔레노이드코일과 상기 방전블록내에 처리가스를 공급하는 가스공급수단과 상기 처리실내를 소정 압력으로 감압배기하는 진공배기 수단을 포함하고, 상기 방전블록의 온도조절가능한 가열기가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 마이크로파 플라즈마 처리장치 [청구항 6] 제5항에 있어서,상기 방전블록부에는 가스를 이용한냉각기구설치되어있는것을특징으로 하는플라즈마 처리장치. [청구항 7] 제5항에 있어서,상기 원형 도파관이 설치된 상기 방전블록과 상기 솔레노이드코일을 함께 결합지지하여, 상기 방전블록의 대기 개방시에 바로 상승될 수있는것을특징으로 하는마이크로파 플라즈마 처리장치. [청구항 8] 제5항에 있어서,상기 처리실내 압력을 측정하는 압력 검출기를 격리벨브를 거쳐설치한것을특징으로 하는마이크로파 플라즈마 처리장치. [청구항 9] 제5항에 있어서,상기 진공배기수단은, 고진공펌프와 백업펌프를 직렬로 접속하여 가지고, 상기 고진공펌프와 상기 백업펌프 사이에 가열기구를 갖춘 밸브를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미이크로파플라즈마 처리장치. [청구항 10] 제1항 또는 3항 또는 5항에 있어서,상기 튜닝수단에는원형도판관슬롯안테나와마이크로파튜닝판설치되어있는것을특징으로 한는마이크로파 플라즈마 처리장치. [청구항 14] 제13항에 있어서,상기 대기개방 클리닝시, 상기 시료대 중앙부에서 웨이퍼 푸시-업이 설치되어 있는 극간내로클리닝용불활성가스하는것을특징으로 하는마이크로파 플라즈마 처리방법.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
마이크로파 플라즈마 처리장치에서 가스공급수단의 가스분출구가 방전블록의 내주면에 균등하게 배치되기 위한 가스공급구의 설치 위치는 어디인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    마이크로파 플라즈마 처리장치에서 가스분출구가 방전블록 내주면에 균등하게 배치되도록 하는 가스공급구의 설치 위치를 찾는 것이다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 2에서 가스공급수단과 가스분출구의 배치에 관한 정보를 추출한다.

    • 상기 가스공급수단은 가스공급구가 상기 방전블록의 마이크로파 진행방향에서 상기 방전블록 앞에 형성되어 있고, 복수의 가스분출구가 상기 방전블록의 내주면에 균등하게배치되어있는것을특징으로 하는마이크로파 플라즈마 처리장치
  3. 3근거 선택evidence_selection

    가스공급구의 위치를 명시한 구절을 선택한다.

    • 가스공급구가 상기 방전블록의 마이크로파 진행방향에서 상기 방전블록 앞에 형성되어 있고
  4. 4논리 통합logical_integration

    가스분출구가 내주면에 균등하게 배치되는 조건이 충족되는 가스공급구의 위치는 방전블록의 마이크로파 진행방향에서 방전블록 앞에 형성된 위치임을 확인한다.

    • 가스공급구가 상기 방전블록의 마이크로파 진행방향에서 상기 방전블록 앞에 형성되어 있고
  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    질문에 대한 직접적인 답변으로 가스공급구의 위치를 정리한다.

  6. 6답변 생성answer_generation

    추출된 정보를 바탕으로 최종 답변을 생성한다.

최종 답변 (final_answer)
상기 방전블록의 마이크로파 진행방향에서 상기 방전블록 앞에 형성되어 있다.
핵심 해석 (core_interpretation)
가스공급구를 방전블록의 마이크로파 진행방향 전방에 배치함으로써, 복수의 가스분출구가 방전블록 내주면에 균등하게 배치될 수 있도록 설계된 기술이다.