플라즈마처리 장치와 플라즈마처리 방법 document_id 1019950028754

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 냉각수단은 내벽과 외벽을 포함하여 구성되고, 그 사이에 기밀한 간극을 화정하는이중벽과, 상기 간극에 냉각매체를 도입하기 위한 냉각기체 도입수단과, 상기 간극에서 냉각매체를 배출하기 위한 냉각매체 배출수단과포함하는플라즈마처리 장치. [청구항 3] 제2항에 있어서,상기 자장 발생수단은 고주파자장에 수반하여 고주파 전계를 발생하고, 더욱이 상기 간극내에 배치되고, 상기 고주파 전계를 차례하기 위한 차폐판더 구비하는플라즈마처리 장치. [청구항 4] 제3항에 있어서,상기 이중벽의 내벽과 외벽은 중심축이 거의 연직방향에 따른 원통상형상부분을 가지고,상기 이중벽에 의해서 화정된 간극내에는 상기 냉각매체를 상기 원통상형상부분에 따라 나선상으로 수송하기 위한 유도로가 화정되고, 상기 냉각매체 도입수단은 상기 유도로의 하방에서 냉각매체를 도입하고, 상기 냉각매체 배출수단은 상기유도로의 상방에서 냉각매체배출하는플라즈마처리 장치. [청구항 5] 제4항에 있어서,상기 차폐판에는 상기 이중벽의 내벽측의 면에 그 내벽의 외면에 거의 도달하는 돌기부분이 형성되고, 상기 이중벽의 내벽의 외면과 상기 차폐판은 상기 차폐판의 수평방향의 위치를 화정하고, 상기 차폐판에 형성된 돌기부분은 상기 유도로의 연직방향의 위치화정하여 있는플라즈마처리장치. [청구항 6] 제4항에 있어서,상기 차폐판에는 상기 고주파자장의 방향과 거의 평행으로 복수의 슬릿설치되어 있는플라즈마처리 장치. [청구항 7] 제1항에 있어서,상기 재치대는 상기 플라즈마가 발생하는 공간외부배치되어 있는플라즈마처리 장치. [청구항 8] 제1항에 있어서,상기 자장발생수단은 상기 플라즈마가 발생하는 공간을 둘러싸도록 상기 처리용기의 외부에 감긴 코일과, 상기 코일에 고주파전류를 공급하기 위한고주파전원포함하여구성되는플라즈마처리 장치. [청구항 9] 제8항에 있어서,상기 코일의 일단 및 상기 차폐판은 함께 접지되고, 접지전위인가되는플라즈마처리장치. [청구항 10] 제9항에 있어서,상기 재치대는 도체에 의해서 형성되어 있고, 더욱이 상기 접지 전위를 기준으로서 상기재치대에 고주파전압을 인가하기 위한 다른 고주파전원더 포함한플라즈마처리장치. [청구항 12] 제11항에 있어서,상기 플라즈마를 발생하는 공정은 상기 냉매의 낮은 상태에서 고주파자장의 인가를 개시하여 플라즈마를 발생시키는 공정과, 상기 냉매를 공급하여 고주파자장의 인가를 계속하고, 상기 플라즈마를 유지하는공정포함하는플라즈마처리 방법.