저도시즈 스캐닝 빔을 사용하는 디지탈 X-선 이미징 시스템을 위한 X-선 검지기 document_id 1019950704401

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 검지기 입력면이 직사각형 모양으로배열내배치된것을특징으로 하는스캐닝빔 디지탈-x선 이미징 시스템의 x-선 검지기. [청구항 3] 제1항에 있어서,상기 검지기 입력면이 원 모양에 근사되는배열내배치된것을특징으로 하는스캐닝빔 디지탈 x-선 이미징 시스템의 x-선 검지기. [청구항 4] 제1항에 있어서,각각의 상기 이산x-선 검지기가 신틸레이터부 및 상기 신틸레이터부에 광학 결합된 광 검지기부를 포함하고, 상기 신틸레이터부가 x-선신틸레이터재료제조된것을특징으로 하는스캐닝빔 디지탈 x-선 이미징 시스템의 x-선 검지기. [청구항 5] 제4항에 있어서,상기x-선 신틸레이터 재료가 yso, lso, bgo, 및 플라스틱으로 구성된 그룹으로부터 선택된재료인것을특징으로 하는스캐닝 빔 디지탈 x-선 이미징 시스템의 x-선 검지기. [청구항 6] 제4항에 있어서,상기 신틸레이터부가 피라미드 원추대(frustrum)모양제조된것을특징으로 하는스캐닝 빔 디지탈 x-선 이미징 시스템의 x-선 검지기. [청구항 7] 제4항에 있어서,상기 신틸레이터부가직사각형입방체모양제조된것을특징으로 하는스캐닝빔 디지탈 x-선 이미징 시스템의 x-선 검지기. [청구항 8] 제4항에 있어서,상기 신틸레이터 부분이 첫째 영역의 신틸레이터 입력 패시트(facet) 및 둘째 영역의 신틸레이터 출력 패시트를 포함하고, 상기 신틸레이터 출력 패시트가 상기 신틸레이터 입력 패시트와 평행하게 소정의 길이만큼 떨어져 배치되고 상기 검지기 입력면이상기신틸레이터입력패시트같이연장된것을특징으로 하는스캐닝 빔 디지탈 x-선 이미징 시스템의 x-선 검지기. [청구항 9] 제8항에 있어서,상기 신틸레이터부가 상기 신틸레이터 입력 패시트 및 상기 신틸레이터 출력 패시트와 구별되는 외부 표면을 포함하고 상기 출력면이 광을 반사시키는재료코팅된것을특징으로 하는스캐닝빔 디지탈 x-선 이미징 시스템의 x-선 검지기. [청구항 12] 제11항에 있어서,선 검지기 배열이 시행한 측정으로부터 이미지를 생성하는프로세서더포함하는것을특징으로 하는스캐닝 빔 디지탈 x-선 이미징 시스템. [청구항 13] 제12항에 있어서,상기 이미지를 디스플레이하는디스플레이더포함하는것을특징으로 하는스캐닝 빔 디지탈 x-선 이미징 시스템. [청구항 14] 제13항에 있어서,상기x-선 검지기 배열이 시행한 측정에 기초하여 상기 스캐닝 x-선 튜브의 출력을 제한하는피드백 회로더포함하는것을특징으로 하는스캐닝 빔 디지탈 x-선 이미징 시스템. [청구항 15] 제11항에 있어서,이미 결정된 패턴에 따라서 선택된 개구로부터 x-선이 방사되도록 하는제어 회로더포함하는것을특징으로 하는스캐닝 빔 디지탈 x-선 이미징 시스템. [청구항 18] 제17항에 있어서,상기 신틸레이터부가직사각형입방체모양각각제조된것을특징으로 하는스캐닝 빔 디지탈 x-선 이미징 시스템. [청구항 19] 제17항에 있어서,상기 신틸레이터부가피라미드원추대모양각각제조된것을특징으로 하는스캐닝 빔 디지탈 x-선 이미징 시스템. [청구항 20] 제18항에 있어서,상기x-선 신틸레이터 재료가 yso, lso, bgo, 및 플라스틱으로 구성된 그룹으로부터 선택된재료인것을특징으로 하는스캐닝 빔 디지탈 x-선 이미징 시스템. [청구항 22] 제21항에 있어서,상기 첫째 및 둘째x-선 검지기 배열이 시행한 측정으로부터 입체형 이미지를 생성하는프로세서더포함하는것을특징으로 하는입체형 스캐닝 빔 디지탈 x-선 이미징 시스템. [청구항 23] 제22항에 있어서,상기 입체형 이미지를 디스플레이하는입체형디스플레이더포함하는것을특징으로 하는입체형 스캐닝 빔 디지탈 x-선 이미징 시스템. [청구항 24] 제23항에 있어서,상기 첫째 및 둘째x-선 검지기 배열이 시행한 측정에 기초하여 상기 스캐닝 x-선튜브의 출력을 제한하는피드백 회로더포함하는것을특징으로 하는입체형 스캐닝 빔 디지탈 x-선 이미징 시스템. [청구항 25] 제22항에 있어서,선택된 개구로부터 미리 결정된 패턴에 따라 x-선이 방사되도록 하는제어 회로더포함하는것을특징으로 하는입체형 스캐닝 빔 디지탈 x-선 이미징 시스템. [청구항 26] 제12항에 있어서,상기 프로세서가 표준 컨벌루션수행하는것을특징으로 하는스캐닝 빔 디지탈 x-선 이미징 시스템. [청구항 27] 제12항에 있어서,상기 프로세서가 다중 출력 컨벌루션수행하는것을특징으로 하는스캐닝 빔 디지탈 x-선 이미징 시스템. [청구항 28] 제12항에 있어서,상기 프로세서가 다중 이미지 컨벌루션수행하는것을특징으로 하는스캐닝 빔 디지탈 x-선 이미징 시스템. [청구항 30] 제29항에 있어서,상기x-선 검지기 배열이 시행한 측정으로부터 이미지를 생성하는 프로세서를 더 포함하고, 상기 이미지가 상기 첫째 그룹의 개구들을 통과한 x-선 및 상기 둘째 그룹의 개구들을 통과한 x-선들이 나타내는 세기를 상기 x-선 검지기가 측정한값들사이의비율나타낸것을특징으로 하는다중 에너지 스캐닝 빔 디지탈 x-선 이미징 시스템. [청구항 31] 제30항에 있어서,상기 이미지를 디스플레이하는디스플레이더포함하는것을특징으로 하는다중 에너지 스캐닝 빔 디지탈 x-선 이미징 시스템. [청구항 32] 제31항에 있어서,상기x-선 검지기 배열이 시행한 측정에 기초하여 상기 스캐닝 x-선 튜브의 출력을 제한하는피드백 회로더포함하는것을특징으로 하는다중 에너지 스캐닝 빔 디지탈 x-선 이미징 시스템. [청구항 33] 제29항에 있어서,선택된 개구로부터 미리 결정된 패턴에 따라 x-선이 방사되도록 하는제어 회로더포함하는것을특징으로 하는다중 에너지 스캐닝 빔 디지탈 x-선 이미징 시스템. [청구항 34] 제33항에 있어서,상기 선정된 패턴이 상기 첫째 그룹의 개구가 제1그룹의 세기를 형성하기 위해 먼저 스캔되고 상기 둘째 그룹의 개구가 제2그룹의 세기를 형성하기 위해 그 후 스캔되는패턴인것을특징으로 하는다중 에너지 스캐닝 빔 디지탈 x-선 이미징 시스템. [청구항 35] 제34항에 있어서,비율 이미지가 상기 제1그룹 세기와 상기 제2그룹 세기사이의 비율을 획득함형성된것을특징으로 하는다중 에너지 스캐닝 빔 디지탈 x-선 이미징 시스템. [청구항 36] 제35항에 있어서,상기 비율 이미지를 디스플레이하는디스플레이더포함하는것을특징으로 하는다중 에너지 스캐닝 빔 디지탈 x-선 이미징 시스템. [청구항 46] 제45항에 있어서,상기 다수의 이미지를 디스플레이하는디스플레이더포함하는것을특징으로 하는스캐닝 빔 디지탈 x-선 토모그래픽 이미징 시스템. [청구항 48] 애노드 및 상기 애노드에 인접한 출력면을 갖는 스캐닝 x-선 튜브, 비교적 x-선에 불투명한 재료로 만들어지고 상기 출력면과 평행하여 인접하며 평면성 입력면과 평면성 출력면을 갖는 컬리메이션 그리드, 상기 컬리메이션 그리드의 출력면 위의 첫째 영역 내에서 상기 출력면을 관통하는 다수의 개구를 갖고 상기 개구들이 그 자신을 통과하여 배치된 상기 컬리메이션 그리드, 그 각각이 검지기 입력면을 포함하고, 상기 검지기 입력면이 한 라인 내에 모두 배치되지 않고, 상기 검지기의 모든 입력면이 상기 컬리메이션 그리드 출력면위의 상기 첫째 영역보다 작은 면적을 갖는 상기 검지기 평면 위의 둘째 영역 내에 포함된 세개 이상의 이산 x-선 검지기들을 갖는 x-선 검지기 배열, 상기 애노드로부터 나온 x-선을 상기 x-선 검지기 배열로 지향시키기 위해 상기 컬리메이션 그리드 내에 배치된 상기 개구들, 그 위에 부딪히는 개별 x-선 광자의 에너지를 측정하는 데에 적합화된 각각의 상기 이산 x-선 검지기, 상기 이산 x-선 검지기의 출력에 기초하여 특정 x-선 광자가 다수의 에너지 밴드 중 어디에 속하는지를 결정하고 그에 따라 계수 값을 발생시키는 프로세서, 상기 계수를 저장하기 위해 그 각각이 상기 에너지 밴드 중 하나와 관련된 다수의 메모리 뱅크, 상기 다수의 메모리 뱅크 중 두개 사이의 비율에 기초하여 비율 이미지를 형성하는 이미지 프로세서, 및 상기 비율 이미지를 디스플레이하는 디스플레이를 포함하는 것을 특징으로 하는 다중 에너지 스캐닝 빔 디지탈 x-선 이미징 시스템