표면처리를 위한 전자빔 어레이 document_id 1019950705259

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 윈도우가규소박막포함하는것을특징으로 하는전자빔 발생 장치. [청구항 3] 제1항에 있어서,각각의 전자빔관의 출력을 측정하는수단을추가포함하는것을특징으로 하는전자빔 발생 장치. [청구항 4] 제1항에 있어서,상기 어레이들의 전자빔관이 각각의 섹션에서 상이한 출력빔 에너지를 갖는 상이한섹션들집합으로되는것을특징으로 하는전자빔 발생 장치. [청구항 5] 제1항에 있어서,상기 전자빔관이 베이스 단부와 베이스 단부로부터 이격된 윈도우 단부를 갖는 진공관 엔벨로프를 포함하는데, 상기 윈도우 단부가 전자빔이 투과할 수 있는 얇은 카바이드 또는 니트라이드 필름, 기체 불투과 윈도우를 갖고, 상기 윈도우가 상기 진공관 엔벨로프의 윈도우 단부 양단에 특정 최대 디멘젼을 갖고, 상기 베이스 단부에 근접한 상기 진공관 엔벨로프내에 힁으로 배치되어 전자를 발생하는 연장된 필라멘트를 포함하고, 연장된 필라멘트에 근접하여 배치되어 연장된 스트라이프형의 전자빔을 형성하는 빔 형성 전극수단을 포함하는뎨, 상기 연장된 형상의 상기 전자빔은 상기 윈도우의 최대 디멘젼예 평행한 방향이 되고, 상기 필름에 근접하여 상기 윈도우를 통해 선형 스트라이프형 빔으로 상기 전자빔을 방사하는 빔 가속 전극수단을 포함하는데, 상기 전자빔이 125 kv보다 적은에너지갖는것을특징으로 하는전자빔 발생 장치. [청구항 6] 제5항에 있어서,상기 전자 가속 전극이원통의포물형상갖는것을특징으로 하는전자빔 발생 장치. [청구항 7] 제5항에 있어서,상기 연장된 필라멘트가 연장된선형필라멘트인것을특징으로 하는전자빔 발생 장치. [청구항 8] 제5항에 있어서,상기 빔 형성 전극이 상기 연장된 필라멘트와 상기 윈도우 사이의 빔 개구를 제한하는전방배플갖는것을특징으로 하는전자빔 발생 장치. [청구항 9] 제5항에 있어서,상기 전자빔 투과가능 윈도우가 연장된선형인것을특징으로 하는전자빔 발생 장치. [청구항 10] 제5항에 있어서,상기 전자빔 투과가능 기체 불투과 윈도우가탄화규소층인것을특징으로하는전자빔 발생 장치. [청구항 11] 제5항에 있어서,상기 전자빔 투과가능 기체 불투과 탄화 규소 또는 질화 붕소 또는 도핑된규소층인것을특징으로 하는전자빔 발생 장치. [청구항 12] 제5항에 있어서,상기 연장 빔이 적어도 1cm의범위갖는것을특징으로 하는전자빔 발생 장치. [청구항 13] 제1항에 있어서,상기 지지판이평면인것을특징으로 하는전자빔 발생 장치. [청구항 14] 제1항에 있어서,상기 지지판이 상기 지지판에 의해 한정된 삼각형의 내부에서 전자빔을 유도하는전자빔관과삼각형이루는것을특징으로 하는전자빔 발생 장치. [청구항 16] 제15항에 있어서,상기 지지수단이 상기 전자빔관의 윈도우 단부에 접촉하는 플레이트 수단을 포함하는데, 상기 플레이트 수단이 각각의 전자빔관에 대해 필연 관계로전위유지하는것을특징으로 하는전자빔 발생 장치. [청구항 17] 제15항에 있어서,상기 지지수단이평면또는삼각형플레이트수단포함하는것을특징으로 하는전자빔 발생 장치. [청구항 18] 제16항에 있어서,상기 플레이트 수단이 전도 트레이스를 갖는 절연 시트를 포함하는데, 적어도 하나의 트레이스가 각각의 전자빔관에 접속되고 전압이 각각의 전자빔관에 인가될 수있는것을특징으로 하는전자빔발생 장치. [청구항 19] 제15항에 있어서,상기 복수의 전자빔관을 통과하여 물질을 전진시키는 수단을 갖는 상기 지지판으로부터 이격된 길이와 폭을 갖는물질취급테이블을추가포함하는것을특징으로 하는전자빔 발생 장치. [청구항 20] 제19항에 있어서,물질을 전진시키는 상기 수단은 상기 트랙이 상기 데이블의 길이와 평행한방향동작하는것을특징으로 하는전자빔 발생 장치. [청구항 21] 제19항에 있어서,물질은 전진시키는 상기 수단은 상기 트랙이 상기 테이블의 폭과 평행한방향동작하는것을특징으로 하는전자빔 발생 장치. [청구항 22] 제15항에 있어서,특정 폭을 갖는 평면을 한정하는 이격된 물질 취급 를러를 추가로 포함하는데, 상기 평면은 상기 지지판으로부터 이격되어 있고, 상기 롤러는 상기 트랙이 상기 방향과 횡으로 되는 것과 같이 상기 복수의 전자빔관을 통과하는 방향으로물질전진시키는것을특징으로 하는전자빔 발생 장치. [청구항 23] 제15항에 있어서,상기 전자빔 투과가능 기체 불투과 윈도우가 질화 규소 또는 질화 붕소 또는 도핑된규소층인것을특징으로 하는전자빔 발생 장치. [청구항 25] 제24항에 있어서,상기 전자빔 투과가능 기체 불투과 윈도우가 질화 규소 또는 질화 붕소 또는 도핑된규소층인것을특징으로 하는전자빔 발생 장치.