플라스마처리장치 document_id 1019960017934

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 도전성 판은 중심과 외주를 갖고, 상기 슬릿은 다수의 루프 상에 형성되며, 상기 슬릿의 지름으로부터 외주를 향해 점차 커지고, 길이방향 및 폭방향으로 소정 간격을 갖고 배치되어 있으며, 상기 슬릿은 상기 마이크로파의 관내파장보다 더 짧은 길이를 가지며, 서로 이웃하는 슬릿의 폭방향의 간격은 상기 마이크로파의 관내파장보다 짧은길이설정되어있는것을특징으로 하는플라스마처리장치. [청구항 3] 제2항에 있어서,상기 슬릿 각각은 상기 마이크로파의 상기 관내파장의 1/2을 중심으로 하여 관내파장의 ±30%의길이갖는것을특징으로 하는플라스마처리장치. [청구항 4] 제3항에 있어서,상기 슬릿은 상기 마이크로파의 관내파장의 5% 내지 50%의 간격으로 관내 파장 방향으로공간떨어진것을특징으로 하는플라스마처리장치. [청구항 5] 제2항에 있어서,상기 도전성 판은 금속원판을 갖고, 상기 슬릿은 상기 금속원판에동심원상또는소용돌이상배치되어있는것을특징으로 하는플라스마처리장치. [청구항 6] 제2항에 있어서,상기 안테나부품의 반직경 방향으로 인접하는 상기 슬릿에 의해 형성되는 정전계의 위상들이상호역위상설정되는것을특징으로 하는플라스마처리장치. [청구항 7] 제2항에 있어서,상기 안테나부품의 외주에 있어서의 플라스마밀도가 상기 안테나부품의 중심부에서 보다 더 높도록, 상기 슬릿들의 길이가 상기 안테나부품의 중심부로부터 상기 안테나부품의 외주를 향해반직경방향차례로커지는것을특징으로 하는플라스마처리장치. [청구항 8] 제2항에 있어서,상기 도전성 판의 최외각에 위치하는 슬릿은 다른 슬릿보다도 긴 것특징으로 하는플라스마처리장치. [청구항 9] 제1항에 있어서,상기 피처리체와 대면하는 상기 평면안테나 부품의 표면을 덮기 위한절연보호판을추가포함하는것을특징으로 하는플라스마처리장치. [청구항 10] 제8항에 있어서,파장을 관내파장으로 만들기 위해 도파관으로부터 공급되는 상기 마이크로 파의 파장을 짧게 하도록 처리될 상기 피처리체를 대면하는 표면에 반대하는 상기 평면 안테나부품의 표면을 덮기 위한유전체를추가포함하는것을특징으로 하는플라스마처리장치. [청구항 11] 제10항에 있어서,상기 보호판과, 상기 평면안테나부품과, 상기 유전체는 땜질에 의해일체적구성되어있는것을특징으로 하는플라스마처리장치. [청구항 12] 제1항에 있어서,상기 용기는 상기 지지수단에 의해 지지되는 상기 피처리체의 상기 표면을 간격을 가지고 대면하는 개구를 구비한 외벽과, 상기 개구를 에워싸기 위한 주위부를 가지며, 상기 평면 안테나부품이 상기 개구를 통하여 상기 지지수단에 의해 지지되는 상기 피처리체의 표면을 간격을 두고 대면하도록 상기 안테나부품을 덮고 지지하기 위한 안테나덮음부품과 상기 개구가 폐쇄되도록 상기 안테나덮음부품을 상기 외주부에 설치하기 위한수단을추가포함하는것을특징으로 하는플라스마처리장치. [청구항 13] 제12항에 있어서,상기 안테나덮음부품은 대기에서 냉각되도록 대기에 노출된열방출면갖는것을특징으로 하는플라스마처리장치. [청구항 14] 제13항에 있어서,파장이 관내파장이 되도록 만들기 위해 상기 안테나 부품에 공급될 마이크로파의 파장을 짧게 하기 위해 상기 안테나 덮음부품 및 상기 평면 안테나 부품 사이에 설치되는 유전체와; 상기 안테나덮음부품, 상기 안테나부품 및 상기 유전체사이의 간격이 메워지도록 상기 안테나덮음부품, 상기 안테나부품 및 상기 유전체를 일체적으로 고정부착하기 위한수단을추가적포함하는것을특징으로 하는플라스마처리 장치. [청구항 15] 제14항에 있어서,상기 안테나덮음부품, 상기 안테나부품 및 상기 유전체는 서로 대면하며 상기 고정부착수단은 좋은열전도성갖는것을특징으로 하는플라스마처리 장치. [청구항 16] 제15항에 있어서,상기 안테나덮음부품은 중심축을 갖는 원형의 후퇴부를 갖은 일면과, 대기에 노출된 타면과, 상기 두 개의 표면사이를 상기 중심축과 동축으로 관통하여 상기 후퇴부와 통하는 투과구멍을 구비한 판상의 본체를 가지며; 상기 유전체는 상기 후퇴부내에 동축으로 배치되고 상기 중심축과 동축으로 관통하는 투과구멍을 구비한 원판상의 본체를 가지며; 상기 후퇴부를 덮기 위해 상기 안테나덮음부품과 상기 유전체의 상기 본체와 동축으로 배치되는 방법으로 상기 평면안테나부품은 상기 안테나덮음부품의 상기 일면과 상기 유전체의 상기 본체에 고정부착되며; 상기 도파관은 상기 안테나덮음부품의 타면에 고정부착된 일단을 구비한 관상의 외부도체와, 상기 안테나덮음부품의 본체와 유전체의 본체의 투과구멍을 지나서 상기 안테나부품의 중심에 전기적으로 접속된 일단을 구비한중심도체갖는것을특징으로 하는플라스마처리장치. [청구항 17] 제16항에 있어서,상기 도파관의 중심도체는 상기 안테나부품의 중심부와 대면하여 개방된 일단과 개방된 타단을 구비하는 관상을 이루고; 상기 처리가스를 공급하는 수단은 처리가스원과, 상기 처리가스원을 상기 도파관의 중심도체의 개방된 타단에 연결하기 위한 공급 라인을 가지며; 상기 안테나부품은 중심부에 형성된 적어도 하나 이상의 가스통과구멍을 가지며; 상기 처리가스는 상기 중심도체 및 상기 가스통과구멍을 통하여 상기 공급라인으로부터상기플라스마형성영역분사되는것을특징으로 하는플라스마처리장치. [청구항 18] 제17항에 있어서,상기 처리가스를 공급하는 수단은 상기 안테나덮음부품의 외주부를 통하여 상기 플라스마형성영역에 처리가스를 공급하기 위한보조공급수단갖는것을특징으로 하는플라스마처리장치. [청구항 19] 제18항에 있어서,상기 보조-공급수단은 둘레방향으로 소정 간격을 두고 상기 안테나덮음부품의 외주부에 형성되고 상기 안테나덮음부품의 일면에서 개방된 복수의 가스보조통과구멍과, 상기 가스공급원으로부터 상기 가스보조통과구멍으로 처리가스를 공급하는 수단을 포함하며, 상기 처리가스는 상기 보조가스통과구멍을 통해 상기 가스보조통과구멍에 상기 처리가스를 공급하는 상기 수단으로부터상기플라스마형성영역분사되는것을특징으로 하는플라스마처리장치. [청구항 20] 제19항에 있어서,상기 안테나부품의 상기 가스통과구멍과 상기 안테나덮음부품의 가스보조통과구멍의 적어도 하나이상의 가스분사측에 설치되고, 분사될 처리가스를 복수의 분사로 나누도록 복수의 가스분사구를 갖는토출판을추가포함하는것을특징으로 하는플라스마처리장치. [청구항 21] 제19항에 있어서,상기 안테나덮음부품의 상기 가스보조통과구멍의 가스분사측에 설치되고, 분사될 상기 처리가스가 상기 플라스마형성영역의 중심을 향해 복수의 분사로 나누어지는 그러한 방식으로 중심을 향한 복수의 가스분사구를 갖는토출판을추가포함하는것을특징으로 하는플라스마처리장치. [청구항 23] 제22 항에 있어서,상기 분기도파관은 상기 안테나부품상에 세워 설치되고 서로 평행하게 연장된 복수의 구획벽을 구비하며, 상기 분기도파관의 각각은 인접하는 두 개의 구획벽에 의해 규정되고, 상기 슬릿은 상기 인접하는 두 개의 구획벽들 사이에 연장하고 상기 구획벽이 상기 구획벽들을 따라 폭 방향으로 서로 인접하게 연장 배열되는 방향에 대해소정각도가지는것을특징으로 하는플라스마처리장치. [청구항 24] 제23항에 있어서,상기 슬릿 각각은 상기 마이크로파의 관내파장보다 짧은 길이를 가지며, 인접하는 슬릿의 폭방향 간격은상기마이크로파의상기관내파장설정되는것을특징으로 하는플라스마처리장치.