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반도체 소자 제조용 확산 로 document_id 1019960031176

출원번호
1019960031176
분류
기계(F섹션)
문맥 (context)
[청구항1] 웨이퍼; 상기 웨이퍼가 탑재된 석영보우트 및 상기 석영 보우트를 지지하기 위해 상기 석영보우트 아래에 설치된 다수개의 고정막대를 구비한 반도체소자 제조용 확산로에 있어서 제조공정에 사용되는 가스 흐름 방해를 최소로 억제하고 웨이퍼와 접촉되는 면적을 최소로 하기 위해, 적어도 하나이상의 고정막대가 삼각기둥형으로 제조된 것을 특징으로 하는 반도체소자 제조용 확산로 [청구항2] 제1항에 있어서,상기 삼각기둥형 고정막대의 모서리를 라운드화한 것을특징으로 하는반도체소자 제조용 확산로. [청구항3] 제1항에 있어서,상기 삼각 기둥형의 각진 방향에 슬롯을 형성함으로써 웨이퍼와 접촉하는면적을최소화하는것을특징으로 하는반도체소자 제조용 확산로. [청구항4] 제1항에 있어서,상기 고정막대의 개수가 3개인 것을 특징으로 하는 반도체소자 제조용 확산로.※ 참고사항 : 최초출원 내용공개하는 것임
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
반도체 소자 제조용 확산로에서 고정막대를 삼각기둥형으로 제조하는 구체적인 목적과 이를 통해 얻을 수 있는 효과는 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    고정막대의 삼각기둥형 구조가 갖는 목적과 효과를 파악해야 한다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 1에서 고정막대의 형상과 관련된 기술적 특징을 추출한다.

    • 적어도 하나이상의 고정막대가 삼각기둥형으로 제조된 것
  3. 3근거 선택evidence_selection

    삼각기둥형 제조의 이유와 결과로 명시된 문구를 선택한다.

    • 제조공정에 사용되는 가스 흐름 방해를 최소로 억제
    • 웨이퍼와 접촉되는 면적을 최소로 하기 위해
  4. 4논리 통합logical_integration

    삼각기둥 형상이 가스 흐름 방해 억제와 접촉 면적 최소화라는 두 가지 목적을 동시에 달성함을 연결한다.

    • 가스 흐름 방해를 최소로 억제
    • 웨이퍼와 접촉되는 면적을 최소로 하기 위해
  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    고정막대를 삼각기둥형으로 만드는 목적은 가스 흐름 방해를 줄이고 웨이퍼 접촉 면적을 줄이기 위함임을 정리한다.

    • 가스 흐름 방해를 최소로 억제
    • 웨이퍼와 접촉되는 면적을 최소로 하기 위해
  6. 6답변 생성answer_generation

    추출된 정보를 바탕으로 질문에 대한 최종 답변을 작성한다.

    • 가스 흐름 방해를 최소로 억제
    • 웨이퍼와 접촉되는 면적을 최소로 하기 위해
최종 답변 (final_answer)
고정막대를 삼각기둥형으로 제조하는 목적은 제조공정에 사용되는 가스 흐름의 방해를 최소로 억제하고, 웨이퍼와 접촉되는 면적을 최소화하기 위함이다.
핵심 해석 (core_interpretation)
삼각기둥형 고정막대는 가스 흐름 방해 억제 및 웨이퍼 접촉 면적 최소화라는 기능적 목적을 가진다.