마이크로파 플라즈마 처리 장치 및 방법 document_id 1019970006840

[청구항 1] 주위가 대기로부터 유전체에 의해 분리되는 플라즈마 발생실, 상기 플라즈마 발생실의 주위에 제공된 복수개의 슬롯을 구비한 무종단(endless) 환상 도파관을 사용하는 마이크로파 도입 수단, 상기 플라즈마 발생실에 연결된 처리실, 상기 처리실내에 제공된 처리되는 기체(基體)(피처리 기체)용 지지 수단, 상기 플라즈마 발생실 및 상기 처리실용 가스 도입 수단, 및 상기 플라즈마 발생실 및 상기 처리실용 배기 수단을 포함하는 마이크로파 플라즈마 처리 장치에 있어서, 상기 무종단 환상 도파관의 원주 길이(l g ), 상기 무종단 환상 도파관내의 마이크로파의 파장(λ g ), 상기 유전체의 원주 길이(l s ) 및 상기 유전체내를 전파하는 표면파의 파장(λ s )가 l s /λ s = (2n + 1) l g /λ g (식 중, n은 0 또는 자연수이다)의 관계를 충족시키는 것을 특징으로 하는 마이크로파 플라즈마 처리 장치 [청구항 2] 제1항에 있어서,자계 발생 수단을더 포함하는마이크로파 처리 장치. [청구항 3] 제2항에 있어서,상기 자계 발생 수단에 의해 슬롯 근방의 자계를 마이크로파의 주파수의 대략 3.57 x 10-11(t/hz)배의자속밀도제어할수있는마이크로파 처리 장치. [청구항 4] 제1항에 있어서,상기 기체 지지 수단이 상기 플라즈마의 발생 영역으로부터 떨어진 위치제공되는마이크로파 처리 장치. [청구항 5] 제1항에 있어서,피처리 기체를 광에너지로 조사하기 위한 수단더 포함하는마이크로파 처리 장치. [청구항 6] 제5항에 있어서,상기 광에너지가자외선인마이크로파 처리 장치. [청구항 7] 제1항에 있어서,상기 지지 수단에 연결된 고주파 공급 수단더 포함하는마이크로파 처리 장치. [청구항 8] 제1항에 있어서,상기 도파관의 내부에 유전체제공되는마이크로파 처리 장치. [청구항 9] 제1항에 있어서,상기 도파관의 내부에 상기 유전체와는 상이한 유전체제공되는마이크로파 처리 장치. [청구항 10] 주위가 대기로부터 유전체에 의해 분리되는 플라즈마 발생실, 상기 플라즈마 발생실의 주위에 제공된 복수개의 슬롯을 구비한 원통상의 무종단 환상 도파관을 사용하는 마이크로파 도입 수단, 상기 플라즈마 발생실에 연결된 처리실, 상기 처리실내에 제공된 처리되는 기체(피처리 기체)용 지지 수단, 상기 플라즈마 발생실 및 상기 처리실용 가스 도입 수단, 및 상기 플라즈마 발생실 및 상기 처리실용 배기 수단을 포함하는 마이크로파 플라즈마 처리 장치에 있어서, 상기 무종단 환상 도파관의 중심 반경(r g ), 상기 무종단 환상 도파관내의 마이크로파의 파장(λ g ), 상기 유전체의 중심 반경(r s ) 및 상기 유전체내를 전파하는 표면파의 파장(λ s )가 r s /λ s = (2n + 1) r g /λ g (식 중, n은 0 또는 자연수이다)의 관계를 충족시키는 것을 특징으로 하는 마이크로파 플라즈마 처리 장치 [청구항 11] 제10항에 있어서,자계 발생 수단을더 포함하는마이크로파 처리 장치. [청구항 12] 제11항에 있어서,상기 자계 발생 수단에 의해 슬롯 근방의 자계를 마이크로파의 주파수의 대략 3.57 x 10-11(t/hz)배의자속밀도제어할수있는마이크로파 처리 장치. [청구항 13] 제10항에 있어서,피처리 기체가 상기 플라즈마의 발생 영역으로부터 떨어진 위치에 배치되도록 상기 기체 지지 수단제공되는마이크로파 처리 장치. [청구항 14] 제10항에 있어서,피처리 기체를 광에너지로 조사하기 위한 수단더 포함하는마이크로파 처리 장치. [청구항 15] 제14항에 있어서,상기 광에너지가자외선인마이크로파 처리 장치. [청구항 16] 제10항에 있어서,상기 지지 수단에 연결된 고주파 공급 수단더 포함하는마이크로파 처리 장치. [청구항 17] 제10항에 있어서,상기 도파관의 내부에 유전체제공되는마이크로파 처리 장치. [청구항 18] 제10항에 있어서,상기 도파관의 내부에 상기 유전체와는 상이한 유전체제공되는마이크로파 처리 장치. [청구항 20] 제19항에 있어서,상기제1 및 제2 유전체들의 유전 상수들의 비율이 상기 제1 및 상기 제2 유전체들의 원주 길이들의 비율의 제곱의 역수대략 동일한마이크로파 처리 장치. [청구항 21] 제19항에 있어서,자계 발생 수단을더 포함하는마이크로파 처리 장치. [청구항 22] 제21항에 있어서,슬롯 근방의 자계가 마이크로파의 주파수의 대략 3.57 x 10-11(t/hz)배의 자속 밀도가지는마이크로파 처리 장치. [청구항 23] 제19항에 있어서,상기 기체 지지 수단이 상기 플라즈마의 발생 영역으로부터 떨어진 위치제공되는마이크로파 처리 장치. [청구항 24] 제19항에 있어서,피처리 기체를 광에너지로 조사하기 위한 수단더 포함하는마이크로파 처리 장치. [청구항 25] 제19항에 있어서,상기 지지 수단에 연결된 고주파 공급 수단더 포함하는마이크로파 처리 장치.