문맥 (context)
[청구항 7]
제 6 항에 있어서,상기 대향하는 한쌍 로울러 사이의 간격(d)은 이하에 나타내는범위에있는것을특징으로 하는제조방법. d×0.6≤d≤d0(d는 도전성 기재의 두께, d0는 시트형상 극판의 가압후의 목표두께를 각각 나타낸다.)
[청구항 14]
제 13 항에 있어서,상기 전극 재료 조성물의 미도포 부분은 극판의 양단부형성되어있는것을특징으로 하는비수전해질 전지용 극판.
[청구항 15]
제 13 항에 있어서,상기 전극 재료 조성물층은 시트형상 도전성 기재 표면에 전극 재료 조성물을 코팅하는 것에 의해형성되어있는것을특징으로 하는비수전해질 전지용 극판.
[청구항 16]
제 13 항에 있어서,상기 시트형상 도전성 기재의 제 1 면 및 제 2 면의 적어도 한쪽 면상에 형성된 전극 재료 조성물층은 도포량이 상기 시트형상 도전성 기재의 제 1 변을 따라서 한단에서 타단을 향하여 연속적으로 증가 또는 감소하도록형성되어있는것을특징으로 하는비수전해질 전지용 전극판.
[청구항 17]
제 16 항에 있어서,상기 전극 재료 조성물의 도포량은 시트형상 도전성 기재의 제 1 변을 따라서 일단에서 타단을 향하여 2∼20%증가감소하고있는것을특징으로 하는비수전해질 전지용 전극판.
[청구항 18]
제 16 항에 있어서,상기 시트형상 도전성 기재의 제 1 및 제 2 면중 한쪽이상의 면상에 형성된 전극 재료 조성물층은 전극 재료 조성물층 중의 활성물질 밀도가 상기 시트형상 도전성기재의 제 1 변을 따라서 일단에서 타단을 향하여 연속적으로 증가 또는 감소하도록형성되어있는것을특징으로 하는비수전해질 전지용 전극판.
[청구항 19]
제 13 항에 있어서,상기 제 1 전극 재료 조성물층과 제 2 전극 재료 도포층과는 전극 재료 조성물의 도포량이 다른 것특징으로 하는비수전해질 전지용 전극판.
[청구항 20]
제 19 항에 있어서,상기 제 1 전극 재료 조성물층과 제 2 전극 재료 도포층과의 사이에서 전극 재료 조성물의 단위면적당의 도포량의 차는 소량측인면의도포량비율인것을특징으로 하는비수전해질 전지용 극판.
[청구항 22]
제 21 항에 있어서,상기 가압압축 수단은 대향하는 한쌍의 로울러의 사이에 간격을 두고 설치된로울러프레스장치인것을특징으로 하는제조장치.
[청구항 23]
제 21 항에 있어서,상기 대향하는 한쌍의 로울러사이의 간격(d)이 이하에 나타나는 범위에 있는 것을 특징하는제조장치. d×0.6≤d≤d0(d는 도전성 기재의 두께, d0는 시트형상 극판의 가압후의 목표두께를 각각 나타낸다.)
[청구항 25]
제 24 항에 있어서,상기 전극 재료 조성물의 미도포 부분은 극판의 양단부형성되어있는것을특징으로 하는비수전해질 전지.
[청구항 26]
제 24 항에 있어서,상기 전극 재료 조성물층은 시트형상 도전성 기재 표면에 전극 재료 조성물을 코팅하는 것에 의해형성된것을특징으로 하는비수전해질 전지.
[청구항 28]
제 27 항에 있어서,상기 양극판과 음극판의 사이의 거리는 전지의 중심부에서 외주부에 걸쳐서 연속적으로감소증가하고있는것을특징으로 하는비수전해질 전지.
[청구항 29]
제 28 항에 있어서,상기 양극판과 음극판의 사이의 거리는 전지의 중심부에서 외주부를 향하여 2∼20%증가감소하고있는것을특징으로 하는비수전해질 전지.
[청구항 31]
제 30 항에 있어서,상기 양극판및/또는 음극판상에 도포된 전극 재료 조성물층의 활성물질 밀도는 중심부에서 외주부를 향하여 2∼20%증가감소하고있는것을특징으로 하는비수전해질 전지.
[청구항 32]
제 27항에 있어서,상기 양극판및/또는 음극판의 각각의 제 1 및 제 2 면상에는 전극 재료 조성물층이 형성되어 있고, 전극 재료 조성물의 도포량은 상기 제 1 면과 제 2 면에서 다른 것특징으로 하는비수전해질 전지.
[청구항 33]
제 32 항에 있어서,상기 제 1 전극 재료 조성물층과 제 2 전극 재료 도포층과의 사이에서 전극재료 조성물의 단위면적당 도포량의 차는 소량측인 면의 도포량에 대해비율인것을특징으로 하는비수전해질 전지.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
비수전해질 전지용 극판 제조 시, 대향하는 한 쌍의 로울러 사이의 간격(d)은 도전성 기재의 두께(d)와 가압 후의 목표 두께(d0)를 이용하여 어떠한 범위로 설정되어야 하는가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation비수전해질 전지용 극판 제조 시 로울러 사이의 간격(d)이 도전성 기재 두께(d)와 목표 두께(d0)를 이용하여 어떻게 설정되는지 범위를 찾는 과업이다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 7 및 청구항 23에서 로울러 사이의 간격(d)에 대한 수식과 변수 정의를 추출한다.
- d×0.6≤d≤d0(d는 도전성 기재의 두께, d0는 시트형상 극판의 가압후의 목표두께를 각각 나타낸다.)
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3근거 선택
evidence_selection질문에서 요구하는 간격(d)의 범위와 변수 관계가 명시된 구절을 선택한다.
- d×0.6≤d≤d0(d는 도전성 기재의 두께, d0는 시트형상 극판의 가압후의 목표두께를 각각 나타낸다.)
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4논리 통합
logical_integration추출된 수식 d×0.6≤d≤d0를 통해 간격 d가 도전성 기재 두께 d의 0.6배 이상, 목표 두께 d0 이하의 범위에 있어야 함을 파악한다.
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5결론 도출
conclusion_formulation질문에 대한 직접적인 답변으로 해당 수식 범위를 정리한다.
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6답변 생성
answer_generation최종 답변을 추출 형식에 맞춰 작성한다.
최종 답변 (final_answer)
d×0.6≤d≤d0 (d는 도전성 기재의 두께, d0는 시트형상 극판의 가압후의 목표두께를 각각 나타낸다.)
핵심 해석 (core_interpretation)
비수전해질 전지용 극판 제조 공정에서 로울러 사이의 간격을 도전성 기재의 두께와 가압 후 목표 두께를 기준으로 특정 범위 내로 제어하여 가압 공정을 수행함을 의미한다.