플라즈마처리장치 document_id 1019970033443

[청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 상부 배기계가 상기 처리실의 상측에 배치된 상부 배기실과, 상기 처리실과 상기 상부 배기실 사이의 상부 칸막이 판에 형성된 복수의 상부 배기 구멍갖는플라즈마 처리 장치. [청구항 3] 제 2 항에 있어서,상기 가스 공급계가 상기 탑재대의 상측에 개구하는 공급구를 갖고, 상기 상부 배기 구멍이 상기 공급구배치되는플라즈마 처리 장치. [청구항 4] 제 3 항에 있어서,상기 가스 공급계가 상기 탑재대의 상측에 배치된 샤워헤드를 구비하고, 상기 샤워헤드가 상기 공급구로서 기능하는 복수의 공급 구멍이 형성된 분산판갖는플라즈마 처리 장치. [청구항 5] 제 4 항에 있어서,상기 상부 칸막이 판과 상기 분산판이 상기 처리실의 천정을 형성하는 한 장의 천정판형성하는플라즈마 처리 장치. [청구항 6] 제 5 항에 있어서,상기 처리실이 상기 탑재대의 상기 지지면을 제외하고,일체적으로 연속한 내벽면을 상기 처리실내에 노출시키는 중앙 케이스 부품에 의해 형성되어, 상기 내벽면의 전위가 실질적으로 등가설정되는플라즈마 처리 장치. [청구항 7] 제 6 항에 있어서,상기 상부 배기실 및 상기 샤워헤드가 상기 중앙 케이스 부품과, 상기 중앙 케이스 부품과 분리가 가능하도록 조합되는 상부 케이스 부품으로 기밀형성되는플라즈마 처리 장치. [청구항 8] 제 3 항에 있어서,상기 하부 배기계가 상기 처리실의 하측에 배치된 하부 배기실을 갖는 것과, 상기 하부 배기실에 상기 피처리체를 반출입하기 위한 게이트가 배치되는 것과, 상기 탑재대가 상하로 이동함으로써 상기 지지면이 상기 하부 배기실내에 있는 하측 위치와 상기 처리실내에 있는 상측 위치 사이에서이동가능한것을구비하는플라즈마 처리 장치. [청구항 9] 제 8 항에 있어서,상기 하부 배기계가 상기 처리실과 상기 하부 배기실 사이의 하부 칸막이 판에 형성된 복수의 하부 배기 구멍갖는플라즈마 처리 장치. [청구항 10] 제 9 항에 있어서,상기 처리실이 상기 탑재대의 상기 지지면을 제외하고, 일체적으로 연속한 내벽면을 상기 처리실내에 노출시키는 중앙 케이스 부품에 의해 형성되어, 상기 내벽면의 전위가 실질적으로 등가설정되는플라즈마 처리 장치. [청구항 11] 제 10 항에 있어서,상기 하부 배기실이 상기 중앙 케이스 부품과, 상기 탑재대를 둘러싸고 또한 상기 중앙 케이스 부품과 분리가 가능하도록 조합되는 하부 케이스 부품에 의해 기밀형성되는플라즈마 처리 장치. [청구항 12] 제 1 항에 있어서,상기 상부 및 하부 배기계를 연동시키기 위한 제어기구비한플라즈마 처리 장치. [청구항 13] 제 12 항에 있어서,상기 제어기가 상기 처리를 실시할 때에, 상기 상부 및 하부 배기계의 배기량의 차이를 일정하게 유지하도록 상기 상부 및 하부 배기계제어하는플라즈마 처리 장치. [청구항 14] 제 13 항에 있어서,상기 상부 및 하부 배기계가 상부 압력 조정 밸브 및 하부 압력 조정 밸브를 각각 갖고, 상기 제어기가 상기 처리를 실시할 때에, 상기 상부 및 하부 압력 조정 밸브의 개방도차를 일정하게 유지하도록, 상기 상부 및 하부 배기계제어하는플라즈마 처리 장치. [청구항 16] 제 15 항에 있어서,상기 내벽면이 실질적으로 요철형성되는플라즈마 처리 장치. [청구항 17] 제 15 항에 있어서,상기 배기계가 상기 처리실내의 가스를 각각 상측 및 하측을 향하여 흐르게 하기 위한 상기 상부 및 하부 배기계구비하는플라즈마 처리 장치. [청구항 18] 제 17 항에 있어서,상기 상부 배기계가 상기 처리실의 상측에 배치된 상부 배기실을 갖음과 동시에, 상기 가스 공급계가 상기 탑재대의 상측에 배치된 샤워헤드를 갖고, 상기 상부 배기실 및 상기 샤워헤드가 상기 중앙 케이스 부품과, 상기 중앙 케이스 부품과 분리가 가능하도록 조합되는 상부 케이스 부품으로 기밀형성되는플라즈마 처리 장치. [청구항 19] 제 17 항에 있어서,상기 하부 배기계가 상기 처리실의 하측에 배치된 하부 배기실을 갖으며, 상기 하부 배기실에 상기 피처리체를 반출입하기 위한 게이트가 배치되고, 상기 탑재대가 상하로 이동함으로써 상기 지지면이 상기 하부 배기실내에 있는 하측 위치와 상기 처리실내에 있는 상측 위치 사이에서이동가능한것을구비하는플라즈마 처리 장치. [청구항 20] 제 19 항에 있어서,상기 하부 배기실이 상기 중앙 케이스 부품과, 상기 탑재대를 둘러싸고 또한 상기 중앙 케이스 부품과 분리가 가능하도록 조합되는 하부 케이스 부품으로 기밀형성되는플라즈마 처리 장치.