하전립자선 전사장치 document_id 1019970048115

[청구항 1] 전사용의 패턴이 형성된 마스크를 하전립자선으로 소정의 주사방향(x방향)으로 주사하여 상기 패턴을 전사대상의 기판위에 전사하는 하전립자선 전사장치에 있어서, 상기 주사방향의 폭이 상기 주사방향으로 수직인 비주사 방향의 폭에 비교하여 좁은 단면형상을 갖는 하전립자선으로 상기 마스크위를 상기 주사방향으로 주사하는 주사수단과, 상기 마스크를 투과한 상기 하전립자선을 집속하여 상기 기판위에 상기 패턴 일부의 상을 형성하는 축대칭의 투영수단을 갖는 것을 특징으로 하는 하전립자선 전사장치 [청구항 2] 제 1항에 있어서,상기 주사수단에 의해 주사되는 하전립자선의 편향각을 θ로 할때, 상기 주사수단에 대한 구동신호는, 변화율이 θ/sinθ에 비례하도록설정되는것을특징으로 하는하전립자선 전사장치. [청구항 3] 제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 축대칭의 투영수단은, 복수의 전자렌즈에 의해 구성되며, 상기 복수의 전자렌즈중의 적어도 어느하나의 전자렌즈내에 배치된 실질적으로 축대칭인 도전성의 전극과, 상기 주사수단을 통해 하전립자선에서 상기 마스크를 주사하는 경우에, 상기 전극에 인가되는 전위를 제어하는 것에 의해 상기 투영수단의 초점거리를 제어하는초점거리제어수단구비하는것을특징으로 하는하전립자선 전사장치. [청구항 4] 제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 마스크를 투과한 하전립자선의 빔 전류의 기산변화에 따라서 상기 투영수단의 초점거리를 보정하는초점거리보정수단설치한것을특징으로 하는하전립자선 전사장치. [청구항 5] 전사용의 패턴이 형성된 마스크를 하전립자선으로 소정의 주사방향으로 주사하여 상기 패턴을 전사대상의 기판위에 전사하는 하전립자선 전사장치에 있어서, 상기 하전립자선의 강도분포의 편차(deflection)을 주사후에 상쇄또는 저감하도록한 단면형상을 이루는 하전립자선으로 상기 마스크위를 상기 주사방향으로 주사하는 주사수단과, 상기 마스크를 투과한 상기 하전립자선을 집속하여 상기 기판위에 상기 패턴 일부의 상을 형성하는 투영수단을 갖는 것을 특징으로 하는 하전립자선 전사장치 [청구항 6] 제 5항에 있어서,상기 마스크를 투과한 하전립자선의 비점 차수를 보정하기 위한 비 축대칭의 비점 보정코일, 또는 편향장치를 설치하며, 상기 하전립자선의 강도분포가 상기 주사방향에 있어서 립플을 갖고 변동하는 경우에,상기 하전립자선의 단면형상은, 상기 주사방향의 폭이 상기 립플의 폭보다 넓거나, 상기 하전립자선의 강도분포가 중앙부에서 높고 주변부에서 낮은 경우에,상기 하전립자선의 단면형상은, 상기 주사방향으로 수직인비주사방향의중앙부있는것을특징으로 하는하전립자선 전사장치. [청구항 7] 제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 주사방향으로 수직인 비주사방향에 상기 마스크 및 상기 기판을 동기하여 이동하는 스테이지 장치를 설치하며, 상기 마스크로서, 패턴영역이 상기 비 주사방향에 대하여 상기 주사수단에 의해 주사되는 하전립자선의 길이방향의 폭에 대응하는 폭인 복수의 시야로 분할됨과 동시에, 각 인접하는 2개의 시야가 상호 중복되는 부분을 갖는 마스크가 설치된 경우에,상기 스테이지 장치를 통해 상기 마스크 및 상기 기판을 상기 비주사방향으로 이동하며, 상기 주사수단을 통해 상기 마스크위에서 상기 하전립자선을 상기 주사방향으로 주사하는 것에 의해,상기 마스크위의 각 인접하는 2개의 시야 상호중복되는 부분을 상기 기판위에 겹쳐전사하는것을특징으로 하는하전립자선 전사장치. [청구항 8] 제 5항 또는 제 6항에 있어서,상기 마스크를 투과한 하전립자선의 빔 전류의 시간변화에 따라서 상기 투영수단의 초점거리, 비점 수차 및 편향기 전류의 모두를 보정하는결상특성보정수단설피하는것을특징으로 하는하전립자선 전사장치. [청구항 9] 제 5항 또는 제 6항에 있어서,상기 주사방향으로 수직인 비주사방향에 상기 마스크 및 상기 기판을 동기하여 이동하는 스테이지 장치를 설치하며, 상기 마스크로서, 패턴영역이 상기 비 주사방향에 대하여 상기 주사수단에 의해 주사되는 하전립자선의 길이방향의 폭에 대응하는 폭인 복수의 시야로 분할됨과 동시에, 각 인접하는 2개의 시야가 상호 중복되는 부분을 갖는 마스크가 설치된 경우에,상기 스테이지 장치를 통해 상기 마스크 및 상기 기판을 상기 비주사방향으로 이동하며, 상기 주사수단을 통해 상기 마스크위에서 상기 하전립자선을 상기 주사방향으로 주사하는 것에 의해,상기 마스크위의 각 인접하는 2개의 시야 상호중복되는 부분을 상기 기판위에 겹쳐전사하는것을특징으로 하는하전립자선 전사장치. [청구항 10] 제 7항에 있어서,상기 마스크를 투과한 하전립자선의 빔 전류의 시간변화에 따라서 상기 투영수단의 초점거리, 비점 수차 및 편향기 전류의 모두를 보정하는결상특성보정수단설피하는것을특징으로 하는하전립자선 전사장치. [청구항 11] 제 10항에 있어서,상기 마스크를 투과한 하전립자선의 빔 전류의 시간변화에 따라서 상기 투영수단의 초점거리, 비점 수차 및 편향기 전류의 모두를 보정하는결상특성보정수단설피하는것을특징으로 하는하전립자선 전사장치.