문맥 (context)
[청구항 2]
제1항에 있어서,멤브레인의 한 면 또는 양면에 도포되어 있는 미분된 금속이 백금족 금속포함하는멤브레인/전극 복합재.
[청구항 3]
제2항에 있어서,미분된 금속백금인멤브레인/전극 복합체.
[청구항 4]
제1항에 있어서,중합체가 화학식 ar3-c(ch3)2-, ar3-c(cf3)2-, ar3-c-(페닐)2-의 2가 라디칼, 또는 화학식 ar3-사이클로헥실렌 또는 ar3-플루오렌의 라디칼[여기서, ar3은 방향족 단위갖는멤브레인/전극 복합체.
[청구항 5]
제1항에 있어서,양이온 교환 재료의 중합체가 2가의 n,n'-피로멜리트산 디이미드 라디칼, 프탈이미드 라디칼 및 벤즈이미다졸 라디칼로 이루어진 그룹으로부터의 선택된 하나 이상의 라디칼갖는멤브레인/전극 복합체.
[청구항 6]
제1항에 있어서,중합체의 조성물에서 라디칼 ar1 및 ar2가 페닐렌라디칼인멤브레인/전극 복합체.
[청구항 7]
제1항 내지 제6항 중의 어느 한 항에 있어서,멤브레인의 이온 교환 당량이 0.2 내지인멤브레인/전극 복합체.
[청구항 8]
제1항 내지 제6항 중의 어느 한 항에 있어서,양이온 교환 재료의 설폰산 그룹의 일부 또는 전부가 칼륨염, 루비듐염, 세슘염 또는 암모늄염존재하는멤브레인/전극 복합체.
[청구항 9]
제1항 내지 제6항 중의 어느 한 항에 있어서,중합체가 설폰화 방향족 폴리에테르 케톤, 폴리설폰, 폴리아릴렌 설파이드폴리벤즈이미다졸인멤브레인/전극 복합체.
[청구항 10]
제1항에 있어서,미분된 금속 이외에, 미분된 전기 전도성 탄소 입자가 멤브레인의 표면도포되어 있는멤브레인/전극 복합체.
[청구항 11]
제10항에 있어서,연료 전지 및 전해조에서 진행되는 전기 화학적 반응을 촉매화하는 촉매적으로 활성인 금속이 미분된 전기 전도성 탄소 입자적재되어 있는멤브레인/전극 복합체.
[청구항 12]
제1항에 있어서,멤브레인 재료의 일부 또는 전부가 음이온성 그룹을 함유하지 않는 중합체와의 혼합물존재하는멤브레인/전극 복합체.
[청구항 13]
제12항에 있어서,이온성 그룹을 함유하지 않는 중합체가 비양성자성 극성 용매가용성인멤브레인/전극 복합체.
[청구항 14]
제2항에 있어서,표면에 도포된 백금족 금속의 양이 멤브레인 면적(cm2)당 0.001 내지인멤브레인/전극 복합체.
[청구항 20]
제15항, 제17항 및 제18항 중의 어느 한 항에 있어서,금속으로 피복되지 않은 멤브레인을 비양성자성 극성 용매에 용해된 화학식 7 및 화학식 8의 단위를 포함하는 제2 설폰화 중합체의 용액으로 처리하고, 멤브레인 표면을 중합체에 대한 상기 용매와는 혼화성이고, 제2 설폰화 중합체는 용해시키지 않는 액체로 처리함으로써 다공성 표면을 형성시킨 다음, 멤브레인을 금속으로 피복시킴을 포함하는 멤브레인/전극 복합체를 제조하는 방법.화학식 7[ar3x]화학식 8[ar4y]상기 화학식 7 및 화학식 8에서,ar3 및 ar4는 수 개의 설폰산 그룹을 함유하는동일하거나상이한2가의 아릴렌 라디칼이고,x는 산소 또는 황이고y는 카보닐, 설폭사이드 또는 설포닐 그룹이다.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
금속으로 피복되지 않은 멤브레인을 사용하여 다공성 표면을 형성한 후 금속으로 피복시키는 제조 방법에서, 멤브레인을 처리할 때 사용하는 제2 설폰화 중합체 용액의 용매와 멤브레인 표면의 관계는 어떠해야 하는가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation제조 방법 중 멤브레인을 제2 설폰화 중합체 용액으로 처리할 때, 용매와 멤브레인 표면 사이의 관계를 찾는 것이다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 20에서 멤브레인을 처리하는 구체적인 조건이 명시되어 있다.
- 금속으로 피복되지 않은 멤브레인을 비양성자성 극성 용매에 용해된 화학식 7 및 화학식 8의 단위를 포함하는 제2 설폰화 중합체의 용액으로 처리하고
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3근거 선택
evidence_selection용매와 멤브레인 표면의 관계를 설명하는 핵심 구절을 선택한다.
- 멤브레인 표면을 중합체에 대한 상기 용매와는 혼화성이고, 제2 설폰화 중합체는 용해시키지 않는 액체로 처리함으로써
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4논리 통합
logical_integration용매는 멤브레인 표면과 혼화성이 있어야 하며, 동시에 제2 설폰화 중합체는 용해시키지 않아야 다공성 표면이 형성됨을 알 수 있다.
- 멤브레인 표면을 중합체에 대한 상기 용매와는 혼화성이고, 제2 설폰화 중합체는 용해시키지 않는 액체로 처리함으로써
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5결론 도출
conclusion_formulation용매는 멤브레인 표면과 혼화성이 있어야 하고, 제2 설폰화 중합체는 용해시키지 않는 액체여야 한다.
- 멤브레인 표면을 중합체에 대한 상기 용매와는 혼화성이고, 제2 설폰화 중합체는 용해시키지 않는 액체로 처리함으로써
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6답변 생성
answer_generation질문에 대한 직접적인 답변을 추출하여 작성한다.
- 멤브레인 표면을 중합체에 대한 상기 용매와는 혼화성이고, 제2 설폰화 중합체는 용해시키지 않는 액체
최종 답변 (final_answer)
멤브레인 표면은 중합체에 대한 상기 용매와는 혼화성이고, 제2 설폰화 중합체는 용해시키지 않는 액체여야 한다.
핵심 해석 (core_interpretation)
다공성 표면을 형성하기 위해 용매는 멤브레인 표면과 혼화성을 가지되, 제2 설폰화 중합체는 용해시키지 않는 특성을 가져야 한다.