반도체소자 제조용 식각설비의 멀티챔버 시스템 document_id 1019980014228

[청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 공정챔버는,다층이루는것을특징으로 하는상기 반도체소자 제조용 식각설비의 멀티챔버 시스템. [청구항 3] 제 1 항에 있어서,상기 공정챔버는,웨이퍼의 출입이 가능하고, 선택적으로 개폐되도록 상기 이송통로방향으로게이트형성되는것특징으로 하는상기 반도체소자 제조용 식각설비의 멀티챔버 시스템. [청구항 4] 제 1 항에 있어서,상기 공정챔버는,일측면에 웨이퍼의 대기장소인 로드락챔버가 연결되어설치되는것특징으로 하는상기 반도체소자 제조용 식각설비의 멀티챔버 시스템. [청구항 5] 제 4 항에 있어서,상기 로드락챔버는,내부에 상기 웨이퍼이송장치로부터 웨이퍼를 인계받아 이를 상기 공정챔버로 이송하도록 웨이퍼가 안착되는 이송암 및 상기 이송암을 이동시키는 챔버내이송장치가 설치되고, 이송통로측 일면과 공정챔버측 일면에 각각 웨이퍼의 출입이 가능하고, 선택적인 개폐가 가능한게이트형성되는것특징으로 하는상기 반도체소자 제조용 식각설비의 멀티챔버 시스템. [청구항 6] 제 5 항에 있어서,상기 이송암은,다수개의 웨이퍼를 동시에 개별 이송할 수 있도록다수개설치되는것을특징으로 하는상기 반도체소자 제조용 식각설비의 멀티챔버 시스템. [청구항 7] 제 4 항에 있어서,상기 로드락챔버는,내부의 진공압을 형성하기 위한진공압형성장치설치되는것을특징으로 하는상기 반도체소자 제조용 식각설비의 멀티챔버 시스템. [청구항 8] 제 4 항에 있어서,상기 공정챔버는,다수개의 공정챔버가 1개의 상기 로드락챔버를 공유하는형태인것특징으로 하는상기 반도체소자 제조용 식각설비의 멀티챔버 시스템. [청구항 9] 제 1 항에 있어서,상기 공정챔버는,공정챔버에서 가공을 마친 웨이퍼가 다음 공정이 이루어지는 공정챔버로 직접 이송될 수 있도록 게이트를 통하여 공정챔버와 공정챔버가 서로 연결되는형태인것특징으로 하는상기 반도체소자 제조용 식각설비의 멀티챔버 시스템. [청구항 10] 제 1 항에 있어서,상기 공정챔버는,내부의 진공압을 형성하기 위한진공압형성장치설치되는것을특징으로 하는상기 반도체소자 제조용 식각설비의 멀티챔버 시스템. [청구항 11] 제 1 항에 있어서,상기 웨이퍼이송장치는,웨이퍼를 선택적으로 파지하는 이송암;상기 이송암을 이동시킴으로써 상기 공정챔버에 웨이퍼를 로딩 및 언로딩시키는 것이 가능한 이송로봇;상기 이송로봇을 수평이동시키는 수평이동구동부; 및상기 이송로봇 및 수평이동구동부에 제어신호를 인가하여 이들을 제어하는제어부포함하여이루어지는것을특징으로 하는상기 반도체소자 제조용 식각설비의 멀티챔버 시스템. [청구항 12] 제 11 항에 있어서,상기 웨이퍼이송장치는,상기 제어부로부터 제어신호를 인가받아 제어되고, 상기 이송로봇을 승하강시키는승하강구동부더포함하여이루어지는것특징으로 하는상기 반도체소자 제조용 식각설비의 멀티챔버 시스템. [청구항 13] 제 11 항에 있어서,상기 이송암은,웨이퍼를 진공흡착하는 것이 가능하도록진공라인설치되는것을특징으로 하는상기 반도체소자 제조용 식각설비의 멀티챔버 시스템. [청구항 14] 제 11 항에 있어서,상기 이송암은,다수개의 웨이퍼를 동시에 개별 이송할 수 있도록다수개설치되는것을특징으로 하는상기 반도체소자 제조용 식각설비의 멀티챔버 시스템. [청구항 15] 제 11 항에 있어서,상기 수평이동구동부는,모터또는공압실린더포함하여이루어지는것을특징으로 하는상기 반도체소자 제조용 식각설비의 멀티챔버 시스템. [청구항 16] 제 11 항에 있어서,상기 승하강구동부는,모터또는공압실린더포함하여이루어지는것을특징으로 하는상기 반도체소자 제조용 식각설비의 멀티챔버 시스템. [청구항 17] 제 1 항에 있어서,상기 웨이퍼이송장치는,상기 이송통로의 길이가 늘어날 경우 서로 인계받고, 인계하는 것이 가능한복수개의웨이퍼이송장치설치되는것특징으로 하는상기 반도체소자 제조용 식각설비의 멀티챔버 시스템. [청구항 18] 제 1 항에 있어서,상기 웨이퍼이송장치는,공정이 이루어지기 전의 웨이퍼를 적재한 카셋트가 안착되는 제 1 카셋트스테이지에서 상기 웨이퍼를 상기 공정챔버로 이송하고, 상기 공정챔버에서 공정을 마친 웨이퍼들을 다음 공정을 위한 웨이퍼 이송이 편리한 위치에 설치된제2카셋트스테이지이송하는것특징으로 하는상기 반도체소자 제조용 식각설비의 멀티챔버 시스템. [청구항 20] 제 19 항에 있어서,상기 공정챔버는,2층내지5층구조인것을특징으로 하는상기 반도체소자 제조용 식각설비의 멀티챔버 시스템. [청구항 21] 제 19 항에 있어서,상기 공정챔버는,일측면에 웨이퍼의 대기장소인 로드락챔버가 연결되어설치되는것특징으로 하는상기 반도체소자 제조용 식각설비의 멀티챔버 시스템. [청구항 22] 제 21 항에 있어서,상기 로드락챔버는,내부에 상기 웨이퍼이송장치로부터 웨이퍼를 인계받아 이를 상기 공정챔버로 이송하도록 웨이퍼가 안착되는 이송암 및 상기 이송암을 이동시키는 챔버내이송장치가 설치되고, 이송통로측 일면과 공정챔버측 일면에 각각 웨이퍼의 출입이 가능하고, 선택적인 개폐가 가능한게이트형성되는것특징으로 하는상기 반도체소자 제조용 식각설비의 멀티챔버 시스템. [청구항 23] 제 22 항에 있어서,상기 이송암은,다수개의 웨이퍼를 동시에 개별 이송할 수 있도록다수개설치되는것을특징으로 하는상기 반도체소자 제조용 식각설비의 멀티챔버 시스템. [청구항 24] 제 19 항에 있어서,상기 웨이퍼이송장치는,웨이퍼를 선택적으로 진공흡착하여 파지할 수 있도록 진공라인이 설치되는 이송암;상기 이송암을 이동시킴으로써 상기 공정챔버에 웨이퍼를 로딩 및 언로딩시키는 것이 가능한 이송로봇;상기 이송로봇을 승하강시키는 승하강구동부;상기 이송로봇을 수평이동시키는 수평이동구동부; 및상기 이송로봇, 승하강구동부, 및 수평이동구동부에 제어신호를 인가하여 이들을 제어하는제어부포함하여이루어지는것을특징으로 하는상기 반도체소자 제조용 식각설비의 멀티챔버 시스템. [청구항 25] 제 24 항에 있어서,상기 이송암은,다수개의 웨이퍼를 동시에 개별 이송할 수 있도록다수개설치되는것을특징으로 하는상기 반도체소자 제조용 식각설비의 멀티챔버 시스템. [청구항 26] 제 24 항에 있어서,상기 승하강구동부 및 수평이동구동부는,모터또는공압실린더포함하여이루어지는것을특징으로 하는상기 반도체소자 제조용 식각설비의 멀티챔버 시스템. [청구항 27] 제 19 항에 있어서,상기 웨이퍼이송장치는,상기 이송통로의 길이가 늘어날 경우 서로 인계받고, 인계하는 것이 가능한복수개의웨이퍼이송장치설치되는것특징으로 하는상기 반도체소자 제조용 식각설비의 멀티챔버 시스템. [청구항 28] 제 19 항에 있어서,상기 웨이퍼이송장치는,공정이 이루어지기 전의 웨이퍼를 적재한 카셋트가 안착되는 제 1 카셋트스테이지에서 상기 웨이퍼를 상기 공정챔버로 이송하고, 상기 공정챔버에서 공정을 마친 웨이퍼들을 다음 공정을 위한 웨이퍼 이송이 편리한 위치에 설치된제2카셋트스테이지이송하는것특징으로 하는상기 반도체소자 제조용 식각설비의 멀티챔버 시스템. [청구항 30] 제 29 항에 있어서,상기 웨이퍼이송장치는,웨이퍼를 선택적으로 진공흡착하여 파지할 수 있도록 진공라인이 설치되는 이송암;상기 이송암을 이동시킴으로써 상기 공정챔버에 웨이퍼를 로딩 및 언로딩시키는 것이 가능한 이송로봇;상기 이송로봇을 승하강시키는 승하강구동부;상기 이송로봇을 수평이동시키는 수평이동구동부; 및상기 이송로봇, 승하강구동부, 및 수평이동구동부에 제어신호를 인가하여 이들을 제어하는제어부포함하여이루어지는것을특징으로 하는상기 반도체소자 제조용 식각설비의 멀티챔버 시스템.