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반도체장치 제조용 확산로 document_id 1019980021803

출원번호
1019980021803
분류
기계(F섹션)
문맥 (context)
[청구항1] 반도체장치 제조공정이 진행될 다수의 웨이퍼가 적재된 보트(boat)가 내부에 위치되는 내부튜브와 상기 내부튜브를 수용하는 외부튜브와 상기 내부튜브 내부에 반응가스를 공급할 수 있는 반응가스 공급수단이 구비되는 반도체장치 제조용 확산로에 있어서, 상기 내부튜브 내부로 공급된 반응가스가 상기 내부튜브 내측벽에서 상기 내부튜브 중앙부로 산란될 수 있도록 상기 내부튜브 내벽면에 반응가스 산란수단이 구비되는 것을 특징으로 하는 반도체장치 제조용 확산로 [청구항2] 제 1 항에 있어서,상기 반응가스 산란수단은 상기 내부튜브 내벽에 울퉁불통하게 형성된굴곡면인것을특징으로 하는상기 반도체장치 제조용 확산로. [청구항3] 제 1 항에 있어서,상기 반응가스 산란수단은 상기 내부튜브 내벽에 나사모양으로 형성된곡면인것을특징으로 하는상기 반도체장치 제조용 확산로. [청구항4] 제 1 항에 있어서,상기 반응가스 산란수단은 상기 내부튜브 내부 저면에서 상부로 소정간격 이격되며 상기 내부튜브 내측벽에 고정설치되는다수링인것을특징으로 하는상기 반도체장치 제조용 확산로. [청구항5] 제 4 항에 있어서,상기 링은 석영재질인것을특징으로 하는상기 반도체장치 제조용 확산로.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
반도체장치 제조용 확산로에서 반응가스 산란수단이 구현될 수 있는 세 가지 형태는 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    반응가스 산란수단의 구체적인 형태를 청구항에서 추출하는 과업을 파악한다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 2, 3, 4에서 산란수단의 구체적 형상을 나타내는 문구를 추출한다.

    • 내부튜브 내벽에 울퉁불통하게 형성된굴곡면
    • 내부튜브 내벽에 나사모양으로 형성된곡면
    • 내부튜브 내측벽에 고정설치되는다수링
  3. 3근거 선택evidence_selection

    산란수단의 형태를 직접적으로 설명하는 청구항 2, 3, 4의 내용을 선택한다.

    • 상기 반응가스 산란수단은 상기 내부튜브 내벽에 울퉁불통하게 형성된굴곡면인것을특징으로
    • 상기 반응가스 산란수단은 상기 내부튜브 내벽에 나사모양으로 형성된곡면인것을특징으로
    • 상기 반응가스 산란수단은 상기 내부튜브 내부 저면에서 상부로 소정간격 이격되며 상기 내부튜브 내측벽에 고정설치되는다수링인것을특징으로
  4. 4논리 통합logical_integration

    추출된 세 가지 형태를 독립적인 구성 요소로 분류하여 정리한다.

  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    굴곡면, 나사모양 곡면, 다수링의 세 가지 형태로 결론을 도출한다.

    • 울퉁불통하게 형성된굴곡면
    • 나사모양으로 형성된곡면
    • 내부튜브 내측벽에 고정설치되는다수링
  6. 6답변 생성answer_generation

    질문에 적합한 리스트 형식으로 최종 답변을 작성한다.

최종 답변 (final_answer)
반응가스 산란수단의 세 가지 형태는 다음과 같다. 1) 내부튜브 내벽에 울퉁불퉁하게 형성된 굴곡면, 2) 내부튜브 내벽에 나사모양으로 형성된 곡면, 3) 내부튜브 내측벽에 고정설치되는 다수링이다.
핵심 해석 (core_interpretation)
반도체장치 제조용 확산로의 반응가스 산란수단은 굴곡면, 나사모양 곡면, 또는 내측벽에 고정된 다수링의 형태로 구현될 수 있다.