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마이크로파 플라즈마 처리장치 및 마이크로파 플라즈마 처리방법 document_id 1019980042223

출원번호
1019980042223
분류
전기(H섹션)
문맥 (context)
[청구항 1] 일측을 밀봉부재로 밀봉한 용기 이 용기내에 가스를 도입하는 가스도입로; 및 상기 밀봉부재의 표면에 대향하여 배치된 안테나를 구비하며, 상기 안테나는, 일단에 마이크로파를 입사하는 입사구를 설치하고, 타단을 폐색부재로 폐색한 관형상부재; 및 이 관형상부재의 상기 밀봉부재에 대면하는 부분에 상기 폐색부재로부터 소정 간격으로 복수 개설(開設)된 슬릿을 포함하며, 상기 관형상부재는, 관축방향을 상기 밀봉부재의 표면에 거의 평행하게 하여 벤딩 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 마이크로파 플라즈마 처리장치 [청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 관형상부재는 c 자 형상 또는 나선형상갖는것을특징으로 하는마이크로파 플라즈마 처리장치. [청구항 3] 제 1 항에 있어서,상기 간격(l) 은,l = λg/2 (단, λg : 안테나 내를 전파하는 마이크로파의 파장)에 의거하여있는것을특징으로 하는마이크로파 플라즈마 처리장치. [청구항 4] 제 1 항에 있어서,상기 슬릿은, 그 길이방향을 상기 관형상부재의 중심축과 교차하는방향설치되어있는것을특징으로 하는마이크로파 플라즈마 처리장치. [청구항 5] 제 1 항에 있어서,상기 슬릿은, 그 길이방향을 상기 관형상부재의 중심축에 거의 평행하게설치되어있는것을특징으로 하는마이크로파 플라즈마 처리장치. [청구항 6] 제 1 항에 있어서,상기 슬릿 내에는유전체있는것을특징으로 하는마이크로파 플라즈마 처리장치. [청구항 7] 제 1 항에 있어서,상기 관형상부재 내에는유전체있는것을특징으로 하는마이크로파 플라즈마 처리장치. [청구항 8] 제 1 항에 있어서,상기 폐색부재는, 상기 관형상부재에 그 길이방향으로 슬라이딩 가능하게삽입되어있는것을특징으로 하는마이크로파 플라즈마 처리장치. [청구항 9] 제 1 항에 있어서,상기 안테나를 지지하는 지지부재; 및 상기 안테나와 상기 밀봉부재 사이의 거리를 조정하기 위하여, 이 지지부재를 진퇴구동하는구동장치더구비하는것을특징으로 하는마이크로파 플라즈마 처리장치. [청구항 10] 제 1 항, 제 2 항, 및 제 3 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,안테나의 벤딩 형성된 부분으로 둘러싸인 상기 밀봉부재의 영역에, 상기 안테나와는 전기적으로 절연시켜 설치한 전극더 구비하는마이크로파 플라즈마 처리장치. [청구항 11] 제 10 항에 있어서,상기 전극에 전계를 인가하는 고주파수의 교류전원더 구비하는마이크로파 플라즈마 처리장치. [청구항 12] 제 10 항에 있어서,상기 전극에 전계를 인가하는 저주파수의 교류전원더 구비하는마이크로파 플라즈마 처리장치. [청구항 13] 제 10 항에 있어서,상기 전극에 전계를 인가하는 직류전원더 구비하는마이크로파 플라즈마 처리장치. [청구항 14] 제 1 항에 있어서,상기 안테나의 벤딩 형성된 부분으로 둘러싸인 상기 밀봉부재의 영역에 접속한 도파관과, 이 도파관내로 마이크로파를 발진하는 마이크로파 발진기더 구비하는마이크로파 플라즈마 처리장치. [청구항 15] 제 1 항에 있어서,상기 밀봉부재의 상기 용기내에 임하는 면에서, 상기 안테나의 벤딩 형성된 부분으로 둘러싸인 영역에 설치되어 있고, 상기 가스도입로를 통과한 가스를 상기 용기내로 도입하는 가스도입구더 구비하는마이크로파 플라즈마 처리장치. [청구항 16] 제 15 항에 있어서,상기 안테나의 벤딩 형성된 부분으로 둘러싸인 상기 밀봉부재의 영역에, 상기 안테나와는 전기적으로 절연시켜 설치한 전극을 더 구비하고, 상기 가스도입로는 상기 전극과 상기 밀봉부재관통하고 있는마이크로파 플라즈마 처리장치. [청구항 17] 제 15 항에 있어서,상기 안테나의 벤딩 형성된 부분으로 둘러싸인 상기 밀봉부재의 영역에 상기 안테나와는 전기적으로 절연시켜 설치한 전극을 더 구비하고, 상기 가스도입로는 상기 전극과 상기 안테나의 벤딩 형성된 내주부분의 간극에 대향하는 상기 밀봉부재의 부분관통하고 있는마이크로파 플라즈마 처리장치. [청구항 18] 제 15 항에 있어서,상기 안테나의 벤딩 형성된 부분으로 둘러싸인 상기 밀봉부재의 영역에 접속된 도파관과, 이 도파관내에 마이크로파를 발진하는 마이크로파 발진기를 더 구비하고, 상기 가스도입로는 상기 도파관과 상기 안테나의 벤딩 형성된 내주부분의 간극에 대향하는 상기 밀봉부재의 부분관통하고 있는마이크로파 플라즈마 처리장치.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
마이크로파 플라즈마 처리장치에서 안테나의 관형상부재에 개설된 슬릿의 간격(l)은 무엇을 기준으로 결정되는가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    마이크로파 플라즈마 처리장치의 안테나 관형상부재에 개설된 슬릿의 간격(l)을 결정하는 기준을 찾는 것이다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 3에서 슬릿의 간격(l)에 관한 수식과 기준을 명시하고 있다.

    • 상기 간격(l) 은,l = λg/2 (단, λg : 안테나 내를 전파하는 마이크로파의 파장)에 의거하여있는것을특징으로 하는마이크로파 플라즈마 처리장치
  3. 3근거 선택evidence_selection

    슬릿 간격(l)이 안테나 내를 전파하는 마이크로파의 파장(λg)에 의거하여 결정된다는 구절을 선택한다.

    • l = λg/2 (단, λg : 안테나 내를 전파하는 마이크로파의 파장)
  4. 4논리 통합logical_integration

    슬릿의 간격(l)은 안테나 내부를 전파하는 마이크로파의 파장(λg)의 절반 값인 λg/2에 의거하여 결정됨을 알 수 있다.

    • l = λg/2 (단, λg : 안테나 내를 전파하는 마이크로파의 파장)
  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    슬릿의 간격(l)은 안테나 내를 전파하는 마이크로파의 파장(λg)을 기준으로 결정된다.

    • l = λg/2 (단, λg : 안테나 내를 전파하는 마이크로파의 파장)
  6. 6답변 생성answer_generation

    추출된 정보를 바탕으로 질문에 대한 직접적인 답변을 작성한다.

    • l = λg/2 (단, λg : 안테나 내를 전파하는 마이크로파의 파장)
최종 답변 (final_answer)
l = λg/2 (단, λg : 안테나 내를 전파하는 마이크로파의 파장)
핵심 해석 (core_interpretation)
마이크로파 플라즈마 처리장치의 안테나 슬릿 간격을 안테나 내부를 전파하는 마이크로파 파장의 절반 값으로 설정하여 설계 기준을 제시함.