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박막트랜지스터 및 그 제조방법 document_id 1019980053948

출원번호
1019980053948
분류
전기(H섹션)
문맥 (context)
[청구항 2] 청구항 1에 있어서,상기 내부공간의 측면은형성된박막트랜지스터. [청구항 3] 청구항 1에 있어서,상기 게이트절연막이 상기 활성층 전면형성된박막트랜지스터. [청구항 4] 청구항 1에 있어서,상기 게이트절연막이 상기 공간부형성된박막트랜지스터. [청구항 5] 청구항 3 또는, 청구항 4에 있어서,상기 게이트전극nan은상기공간부중첩되도록형성된박막트랜지스터. [청구항 6] 청구항 3에 있어서,상기 게이트전극 및 상기 게이트절연막을 덮는 보호막과,상기 보호막과 상기 게이트절연막에 상기 소오스영역과 드레인영역을 노출시키도록 형성된 콘택홀과,상기 노출된 소오스영역에 연결된 소오스전극과 상기 노출된 드레인영역에 연결된 드레인전극을 더 포함하는 박막트랜지스터. 상기 게이트절연막이 상기 활성층 전면형성된박막트랜지스터. [청구항 7] 청구항 4에 있어서,상기 게이트절연막 하단에 접촉하는 상기 활성층 부분은 상기 소오스영역 및 드레인영역보다 고저항을 가지는 고저항영역형성된박막트랜지스터. [청구항 8] 청구항 7에 있어서,상기 고저항영역은 오프셋영역인박막트랜지스터. [청구항 9] 청구항 7에 있어서,상기 고저항영역은 엘디디영역인박막트랜지스터. [청구항 10] 청구항 8에 있어서,상기 게이트전극, 상기 게이트절연막 및 상기 활성층을 덮는 보호막과,상기 보호막에 상기 소오스영역과 드레인영역을 노출시키도록 형성된 콘택홀과,상기 노출된 소오스영역에 연결된 소오스전극과 상기 노출된 드레인영역에 연결된 드레인전극더 포함하는박막트랜지스터.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
청구항 4의 박막트랜지스터에서 게이트절연막 하단에 접촉하는 활성층 부분의 저항 특성과 해당 영역의 명칭은 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    청구항 4를 인용하는 청구항들 중에서 게이트절연막 하단에 접촉하는 활성층 부분의 저항 특성과 그 명칭을 찾는 작업이다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 7에서 게이트절연막 하단에 접촉하는 활성층 부분이 소오스/드레인 영역보다 고저항을 가진다는 점과 '고저항영역'이라는 명칭을 추출한다.

    • 상기 게이트절연막 하단에 접촉하는 상기 활성층 부분은 상기 소오스영역 및 드레인영역보다 고저항을 가지는 고저항영역
  3. 3근거 선택evidence_selection

    질문에서 요구하는 저항 특성(고저항)과 명칭(고저항영역)이 명시된 청구항 7의 구절을 선택한다.

    • 상기 게이트절연막 하단에 접촉하는 상기 활성층 부분은 상기 소오스영역 및 드레인영역보다 고저항을 가지는 고저항영역
  4. 4논리 통합logical_integration

    청구항 4를 인용하는 청구항 7의 내용을 통해, 해당 영역의 특성은 '고저항'이며 명칭은 '고저항영역'임을 연결한다.

  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    저항 특성은 소오스영역 및 드레인영역보다 높은 고저항이며, 해당 영역의 명칭은 고저항영역임을 결론짓는다.

  6. 6답변 생성answer_generation

    질문에 따라 저항 특성과 명칭을 리스트 형식으로 구성하여 최종 답변을 생성한다.

최종 답변 (final_answer)
["저항 특성: 소오스영역 및 드레인영역보다 고저항을 가짐", "명칭: 고저항영역"]
핵심 해석 (core_interpretation)
박막트랜지스터의 게이트절연막 하단에 접촉하는 활성층 부분에 소오스/드레인 영역보다 높은 저항을 갖는 고저항영역을 형성하여 소자의 특성을 제어하는 기술이다.