반도체웨이퍼의 열처리용 보트 document_id 1019980705497

[청구항 1] 반도체웨이퍼의 열처리용 보트에 있어서, 상기 보트의 상하 끝부분에 각각 배치 설치된 상틀 및 하틀과, 복수의 수평인 웨이퍼지지레벨을 규정하도록 상기 상하 틀 사이에서 수직방향으로 간격을 두고 배치 설치된 복수의 트레이와, 상기 상하 틀 사이에 배치 설치되고 또한 상기 상하 틀에 각각 접속된 제 1, 제 2 및 제 3 지주와, 상기 제 1, 제 2 및 제 3 지주는 상기 복수의 트레이를 착탈 가능하게 지지하는 것과, 상기 제 1, 제 2 및 제 3 지주는 상기 보트에 대해서 상기 웨이퍼를 반출입하기 위한 입구를 규정하도록 배치되는 것과, 상기 상하 틀에 각각 형성된 제 1 및 제 2 구멍과, 각 트레이에 형성된 노치와, 상기 제 1 및 제 2 구멍과 상기 노치는 수직방향에 있어서 가지런하게 하는 것과, 상기 제 1 및 제 2 구멍을 통해서 상기 상하 틀에 착탈 가능하게 접속되는 동시에 상기 노치 내에 삽입되어 상기 제 1, 제 2 및 제 3 지주에 대해서 상기 복수의 트레이를 상대적으로 위치 결정하기 위한 봉을 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체웨이퍼의 열처리용 보트 [청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 상틀에 형성된 제 1 구멍이 상기 봉을 끼우고 통하기 가능한 투시구멍으로 이루어지고, 상기 제 1 구멍을 통해서 상기 봉이 상기 노치에 대해서착탈되는것을특징으로 하는반도체웨이퍼의 열처리용 보트. [청구항 3] 제 1 항에 있어서,상기 상하 틀 사이에서 수직방향으로 연장 또는 상기 상하 틀에 대해서 상대적으로 고정된 제 1 스토퍼와, 상기 제 1 스토퍼에 맞닿음 가능하게 각 트레이에 배치 설치된 맞닿음자를 또한 구비하고, 여기에서 상기 제 1 스토퍼와 상기 맞닿음자의 걸어맞춤과, 상기 노치와 상기 봉의 걸어맞춤의 협동에 의해 상기 제 1, 제 2 및 제 3 지주에 대해서 상기 복수의 트레이가상대적고정되는것을특징으로 하는반도체웨이퍼의 열처리용 보트. [청구항 4] 제 3 항에 있어서,상기 제 1 스토퍼가 상기 제 1, 제 2및제3지주중의하나의지주의측면구비하는것을특징으로 하는반도체웨이퍼의 열처리용 보트. [청구항 5] 제 3 항에 있어서,자가 상기 트레이에 형성된돌기구비하는것을특징으로 하는반도체웨이퍼의 열처리용 보트. [청구항 6] 제 3 항에 있어서,자가 상기 트레이에 형성된노치구비하는것을특징으로 하는반도체웨이퍼의 열처리용 보트. [청구항 7] 제 6 항에 있어서,상기 제 1 스토퍼가 상기 상하 틀에 착탈 가능하게 접속된 다른봉구비하는것을특징으로 하는반도체웨이퍼의 열처리용 보트. [청구항 8] 제 2 항에 있어서,상기 상하 틀 사이에서 수직방향으로 연장 또는 상기 상하 틀에 대해서 상대적으로 고정된 제 2 스토퍼를 또한 구비하고, 여기에서 상기 노치와 상기 봉이 걸어맞춤한 상태에 있어서상기봉과상기제2스토퍼맞춤하는것을특징으로 하는반도체웨이퍼의 열처리용 보트. [청구항 9] 제 8 항에 있어서,상기 제 2 스토퍼가 상기 제 1, 제 2및제3지주중의하나의지주의측면구비하는것을특징으로 하는반도체웨이퍼의 열처리용 보트. [청구항 10] 제 1 항에 있어서,상기 노치가 각 트레이에 형성된투시구멍으로이루어지는것을특징으로 하는반도체웨이퍼의 열처리용 보트. [청구항 11] 대략 원형의 반도체웨이퍼의 열처리용 보트에 있어서, 상기 보트의 상하 끝부분에 각각 배치 설치된 상틀 및 하틀과, 상기 상하 틀 사이에 배치 설치되고 또한 상기 상하 틀에 각각 접속된 제 1, 제 2 및 제 3 지주와, 상기 제 1, 제 2 및 제 3 지주는 상기 보트에 대해서 상기 웨이퍼를 반출입하기 위한 입구를 규정하도록 배치되는 것과, 상기 제 1 , 제 2 및 제 3 지주의 각각에 수직방향으로 간격을 두고 접속되며 또한 상기 보트의 안쪽으로 향하여 뻗는 복수의 제 1 빔, 복수의 제 2 빔 및 복수의 제 3 빔과, 복수의 수평인 웨이퍼지지레벨을 규정하도록 상기 제 1, 제 2 및 제 3 빔의 선단부에 각각 설치된 제 1, 제 2 및 제 3 재치부와, 각 웨이퍼지지레벨은 대응의 높이에 있는 1개의 상기 제 1 재치부와, 1개의 상기 제 2 재치부와, 1개의 상기 제 3 재치부가 1조로 되어 형성되는 것과, 여기에서 각 재치부는 상기 웨이퍼의 이면과 접촉하는 최내단 위치가 상기 웨이퍼의 직경을 d로 한 때 상기 웨이퍼의 이면 상의 0. 6d∼0. 95d의 범위에 있도록 설정되는 것을 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체웨이퍼의 열처리용 보트 [청구항 12] 제 11 항에 있어서,상기 최내단 위치가 상기 웨이퍼의 이면 상의 0. 7d∼0. 9d의범위설정되는것을특징으로 하는반도체웨이퍼의 열처리용 보트. [청구항 13] 제 11 항에 있어서,상기제 1, 제 2 및 제 3 빔이 상기 제 1, 제 2 및 제 3 지주와각각일체적형성되는것을특징으로 하는반도체웨이퍼의 열처리용 보트. [청구항 14] 제 13 항에 있어서,상기 상하 틀에 고정되고 또한 상기 상하 틀을 접속하는 제 1 및 제 2 접속봉을 또한 구비하고, 상기 제 1, 제 2 및 제 3 지주는 상기 제 1 및 제 2 접속봉보다도 연화점이 높은재료형성되는것을특징으로 하는반도체웨이퍼의 열처리용 보트. [청구항 15] 제 14 항에 있어서,상기제 1 및 제 2 접속봉이 석영 또는 폴리실리콘으로 이루어지고, 상기 제 1, 제 2및제3지주탄화규소로이루어지는것을특징으로 하는반도체웨이퍼의 열처리용 보트. [청구항 16] 제 14 항에 있어서,상기제 1 및 제 2 접속봉이 석영으로 이루어지고, 상기 제 1, 제 2 및 제 3 지주가폴리실리콘으로이루어지는것을특징으로 하는반도체웨이퍼의 열처리용 보트. [청구항 17] 제 13 항에 있어서,상기제 1, 제 2 및 제 3 지주가중공체로이루어지는것을특징으로 하는반도체웨이퍼의 열처리용 보트. [청구항 18] 제 11 항에 있어서,빔에 피벗요동 가능하게 요동자가 배치 설치되고, 상기 재치부가상기요동자위형성되는것을특징으로 하는반도체웨이퍼의 열처리용 보트. [청구항 19] 제 18 항에 있어서,상기 요동자가 돌기에 의한 점접촉을 통해서상기빔지지되는것을특징으로 하는반도체웨이퍼의 열처리용 보트. [청구항 20] 제 19 항에 있어서,상기 요동자가 상기 빔으로부터 탈락하는 것을 방지하기 위한탈락방지기구구비하는것을특징으로 하는반도체웨이퍼의 열처리용 보트.