전기화학 전지의 제조방법 및 제조장치 document_id 1019980706547

[청구항 13] 제12항에 있어서,상기 애노드 집전체는 그 양면에 애노드 필름을 가지고 있고 캐소드 집전체는 그 양면에캐소드필름있는것을특징으로 하는전기화학 전지. [청구항 14] 제12항에 있어서,상기 애노드 애노드 집전체의 주변부는 애노드 필름의 주변부와 동일 평면에 있고, 캐소드 집전체의 주변부는캐소드필름의주변부와동일평면에있는것을특징으로 하는전기화학 전지. [청구항 15] 제14항에 있어서,상기 애노드는 상기 애노드 집전체와 일체형인 애노드 탭을 포함하고 있으며, 상기 캐소드는 캐소드 집전체와 일체형인캐소드탭포함하고있는것을특징으로 하는전기화학 전지. [청구항 16] 제12항에 있어서,상기 애노드 집전체는구리포함하고있는것을특징으로 하는전기화학 전지. [청구항 17] 제12항에 있어서,상기 캐소드 집전체는알루미늄포함하고있는것을특징으로 하는전기화학 전지. [청구항 18] 제12항에 있어서,상기 애노드 필름은 그래파이트, 코크스 및 메조카본으로 이루어진 군으로부터 선택된카본물질포함하고있는것을특징으로 하는전기화학 전지. [청구항 19] 제12항에 있어서,상기 캐소드 필름은 리튬 코발트 산화물, 리튬 망간 산화물, 리튬 니켈 산화물 및 그 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된캐소드물질포함하고있는것을특징으로 하는전기화학 전지. [청구항 20] 제18항에 있어서,상기 캐소드 필름은 리튬 코발트 산화물, 리튬 망간 산화물, 리튬 니켈 산화물 및 그 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된캐소드물질포함하고있는것을특징으로 하는전기화학 전지. [청구항 21] 애노드 집전체의 적어도 일 면상에 형성된 애노드 물질 필름의 적어도 일 면에, 애노드 집전체를 라미네이팅하여 애노드 프리커서를 형성하고, 상기 애노드 집전체는 애노드 물질 필름의 에지로부터 연장되어 있는 연장 애노드 탭을 포함하며, 상기 애노드 물질 필름은 제1폴리머, 인터컬레이션 카본 물질 및 제1가소제를 포함하고 있는 제1라미네이팅 스테이션 캐소드 집전체의 적어도 일 면상에 형성된 캐소드 물질의 적어도 일 면에, 캐소드 집전체를 라미네이팅하여 캐소드 프리커서를 형성하고, 상기 캐소드 집전체는 캐소드 물질 필름의 에지로부터 연장되어 있는 연장 캐소드 탭을 포함하며, 상기 캐소드 물질 필름은 제2폴리머, 캐소드 활물질 물질 및 제2가소제를 포함하고 있는 제2라미네이팅 스테이션 제3가소제를 포함하고 있는 폴리머층을 애노드 프리커서와 캐소드 프리커서사이에 배치하여, 폴리머층이 애노드 집전체와 캐소드 집전체간의 직접적인 접촉을 막을 수 있도록 하는 어셈블링 스테이션 폴리머층을 애노드 프리커서와 캐소드 프리커서와 용착시켜 2전지 밧데리를 형성하는 용착 스테이션 복수개의 2전지 밧데리를 연속적으로 하나씩 차례로 스택을 형성하는 스택킹 스테이션 스택의 복수개의 애노드 탭을 서로 용접시키고, 이를 전도성 애노드 리드에 용접하고, 스택의 복수개의 캐소드 탭을 서로 용접시키고 이를 전도성 캐소드 리드에 용접하는 용접 스테이션 용접 스테이션 이후에 실시하며, 스택으로부터 제1, 제2 및 제3가소제를 추출하는 추출 스테이션 추출 스테이션 이후에 실시하며, 애노드 리드와 캐소드 리드의 적어도 일부분이 스택 리셉터클의 외주부 바깥으로 연장될 수 있도록 스택 리셉터클의 리세스부 에 설치되는 인스톨레이션 스테이션 전해질 용매와 무기염을 함유하는 전해액을 리셉터클, 애노드 프리커서, 캐소드 프리커서 및 폴리머층으로 충전하는 필링 스테이션; 및 애노드 리드와 캐소드 리드의 일부분이 밀폐된 스택 리셉터클의 주변부 바깥에 놓여질 수 있도록, 뚜껑을 스택 리셉터클의 리세스부 위에 밀폐되는 클로징 스테이션 을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 전기화학전지의 제조장치 [청구항 22] 제21항에 있어서,상기 애노드 물질 필름이 제1라미네이팅 스테이션에서 애노드 집전체의 양 면에라미네팅되는것을특징으로 하는장치. [청구항 23] 제21항에 있어서,상기 캐소드 물질 필름이 제1라미네이팅 스테이션에서 캐소드 집전체의 양 면에라미네팅되는것을특징으로 하는장치. [청구항 24] 제21항에 있어서,제3라미네이션 스테이션을 더 포함하며, 제2라미네이션 스테이션에서 제2캐소드 집전체의 적어도 일 면상에 형성되며, 제2폴리머, 캐소드 활물질 및 제2가소제를 포함하는 제2캐소드 물질 필름의 적어도 일 면에, 제2캐소드 집전체를 라미네이팅하여 제1캐소드 프리커서와 실질적으로 동일한 제2캐소드 프리커서를 형성하는 장치에 있어서,어셈블링 스테이션에서는 폴리머층이 애노드 집전체와 캐소드 집전체간의 직접적인 접촉을 막을 수 있도록, 제3가소제를 포함하는 제2폴리머층을 애노드 프리커서와 제2캐소드 프리커서 사이에 배치하고, 용착 스테이션에서는, 폴리머층을 애노드 프리커서와 제1캐소드 프리커서에 용착시켜2전지밧데리형성하는것을특징으로 하는장치. [청구항 26] 제25항에 있어서,폴리머층을 애노드 프리커서와 캐소드 프리커서에 용착하여 2전지 밧데리를 형성시키는용착스테이션더포함하고있는것을특징으로 하는장치. [청구항 27] 제26항에 있어서,복수개의 2전지 밧데리를 차례로 하나씩 스택킹하여 스택을 형성하는스택킹스테이션더포함하고있는것을특징으로 하는장치. [청구항 28] 제27항에 있어서,상기 애노드 집전체는 애노드 물질 필름의 에지 바깥으로 연장되어 있는 애노드 탭을 포함하고, 캐소드 집전체는 캐소드 물질 필름의 에지 바깥으로 연장되어 있는 캐소드 탭을 포함하며, 상기 장치는 스택의 복수개의 애노드 탭을 서로 용접하고 이들을 전도성 애노드 리드에 용접하고, 스택의 복수개의 캐소드 탭을 서로 용접하고 이들을 전도성 캐소드 리드에 용접하는용접 스테이션더포함하는것을특징으로 하는장치. [청구항 29] 제28항에 있어서,추출 스테이션 다음에 위치하며, 애노드 리드 및 캐소드 리드의 적어도 일부분이 스택 리셉터클의 주변부 바깥으로 연장될 수 있도록 스택을 스택 리셉터클의 리세스부에 설치하는 인스톨레이션스테이션더포함하는것을특징으로 하는장치. [청구항 30] 제29항에 있어서,애노드 리드 및 캐소드 리드가 밀폐된 스택 리셉터클의 주변부 바깥으로 위치되도록, 뚜껑을 스택 리셉터클의 리세스부에 덮는클로징스테이션더포함하는것을특징으로 하는장치. [청구항 31] 제27항에 있어서,추출 스테이션 다음에 위치하며, 스택을 스택 리셉터클의 리세스부에 설치하는 인스톨레이션스테이션더포함하는것을특징으로 하는장치. [청구항 32] 제25항에 있어서,셈블링 스테이션에서는, 제3가소제를 포함한 제2폴리머층을 애노드 프리커서와 제2캐소드 프리커서사이에 배치하고, 상기 제2캐소드 프리커서는, 제2캐소드 집전체의 적어도 일 면상에, 제2폴리머, 캐소드 활물질 및 제2가소제를 포함하는 제2캐소드 물질 필름이 라미네이팅된 제2캐소드 집전체를 포함하며 제1캐소드 프리커서와 실질적으로 동일하여, 폴리머층이 애노드 집전체와 제2캐소드 집전체간의 직접적인 접촉을 막을 수 있도록 하며, 그리고용착 스테이션에서는 폴리머층을 애노드 프리커서와 제2캐소드 프리커서에 용착시켜2전지밧데리형성하는것을특징으로 하는장치. [청구항 33] 제32항에 있어서,애노드 물질 필름과 애노드 집전체를 함께 라미네이팅시키는 제1라미네이팅 스테이션, 제1캐소드 물질 필름과 제1캐소드 집전체를 함께 라미네이팅시키는 제1라미네이팅 스테이션 및 제2캐소드 물질 필름과 제2캐소드 집전체를 함께 라미네이팅시키는 제3라미네이팅스테이션더포함하는것을특징으로 하는장치. [청구항 34] 제33항에 있어서,상기 제1라미네팅 스테이션에서, 애노드 물질 필름을 애노드 집전체의 양 면에라미네팅하는것을특징으로 하는장치. [청구항 35] 제33항에 있어서,상기 제2라미네이팅 스테이션에서, 제1캐소드 물질 필름을 제1캐소드 집전체의 양면에 라미네이팅하고, 상기 제3라미네이팅 스테이션에서 제2캐소드 물질 필름을 제2캐소드 집전체의 양면에라미네팅하는것을특징으로 하는장치. [청구항 36] 리셉터클의 리세스부내 에 위치하며, 애노드 집전체의 적어도 일 면상에 형성되며 제1폴리머, 인터컬레이션 카본 물질을 포함한 애노드 물질 필름의 적어도 일 면에, 라미네이팅되어 있는 애노드 집전체를 포함하는 애노드 프리커서, 캐소드 집전체의 적어도 일 면상에 형성되며 제2폴리머, 캐소드 활물질 및 제2가소제를 포함한 캐소드 물질 필름상의 적어도 일면에, 라미네이팅되어 있는 캐소드 집전체를 포함하는 캐소드 프리커서 및 제3가소제를 함유하며 애노드 집전체와 캐소드 집전체간의 직접적인 접촉을 막을 수 있도록, 어셈블링 스테이션에서 애노드 프리커서와 캐소드 프리커서사이에 배치되고, 애노드 프리커서와 캐소드 프리커서 사이에서 용착되는 폴리머층을 포함하고 있고, 애노드 프리커서, 캐소드 프리커서 및 폴리머층으로부터 제1, 제2 및 제3가소제를 추출하여 상기 애노드 프리커서, 캐소드 프리커서 및 폴리머층안에 기공을 형성시킨 하나 이상의 2전지 밧데리를 구비하고 있는 전기화학전지의 활성화장치로서, 전해질 용매와 무기염을 함유하는 전해액의 제1함량을 리셉터클에 충전하여, 전해액을 애노드 프리커서, 캐소드 프리커서 및 폴리머층의 기공에 흡수시키는 제1필링 스테이션 제1필링 스테이션이후에 실시하며, 전해액을 리셉터클에 충전하고 이 전해액을 애노드 프리커서, 캐소드 프리커서 및 폴리머층의 기공에 흡수시키는 데 있어서, 각 후속 필링 스테이션에서 부가하는 전해액의 함량이 제1필링 스테이션과 후속 필링 스테이션의 전단계에서 부가한 함량 이하인 하나 이상의 후속 필링 스테이션 리셉터클의 리세스부내에 있는 하나이상의 2전지 밧데리를 제1필링 스테이션과 하나 이상의 후속 필링 스테이션으로 수송시키는 수단 을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 전기화학전지의 활성화장치 [청구항 37] 제36항에 있어서,애노드 프리커서의 애노드 집전체는 애노드 리드에 부착되어 있고, 각 캐소드 프리커서의 캐소드 집전체는 캐소드 리드에 부착되어 있고, 제1필링 스테이션에서 채워지는 전해액의 제1함량과 하나 이상의 후속 필링스테이션에서 채워지는 전해액의 함량이, 전해액이 애노드 리드나 캐소드 리드에 접촉되지 않을 만큼양인것을특징으로 하는장치. [청구항 38] 제36항에 있어서,제1필링 스테이션에서 채워지는 전해액의 제1함량과 후속 필링공정에서 채워지는 전해질의 함량과, 제1필링 스테이션과 후속 필링 스테이션의 각 스테이션 사이의 시간 간격이,제1필링 스테이션의 바로 다음 필링 스테이션에서 채워지는 전해액이 채워지기 이전에, 전해액의 제1함량이 애노드 프리커서, 캐소드 프리커서 및 폴리머층의 기공에 완전히 흡수되고, 그리고 각 후속 필링 스테이션에서의 전해액의 함량이, 인접된 후속 필링 공정에서 전해액이 채워지기 이전에, 애노드 프리커서, 캐소드 프리커서 및 폴리머층의 기공에 완전히 흡수될 수 있는정도인것을특징으로 하는장치. [청구항 39] 제36항에 있어서,상기 수송 수단이 간헐적으로 이동하는콘장치인것을특징으로 하는장치. [청구항 40] 제36항에 있어서,상기 수송수단이 연속적으로 이동하는콘장치인것을특징으로 하는장치. [청구항 41] 제36항에 있어서,제1필링 스테이션과 바로 다음 후속 필링스테이션의 충전 시간 간격이 두 개의 연속적인필링스테이션간의시간간격동일한것을특징으로 하는장치. [청구항 42] 제36항에 있어서,제1필링 스테이션과 모든 후속 필링 스테이션들에서 채워지는 전해액 총함량의 1/2 이상이 제1필링 스테이션에서 채위지는 것특징으로 하는장치.