플라즈마 생성용 고주파파워의 제어방법 및 플라즈마 발생장치 document_id 1019990029080

[청구항 6] 플라즈마를 발생시키는 장치에 있어서, 플라즈마 생성용의 챔버 ; 챔버 의 안에 설치된 플라즈마 생성용의 방전전극 이 방전전극에 공급하는 플라즈마 생성용의 고주파파워를 출력하는 고주파전원 유전체제의 격벽을 통하여 챔버중의 플라즈마에 플라즈마 밀도정보 계측용의 고주파파워를 공급함과 동시에, 플라즈마 부하에 의한 고주파파워의 흡수상황을 나타내는 물리량의 측정결과로부터 플라즈마 밀도에 기인하여 고주파 파워의 강한 흡수가 일어나는 플라즈마 흡수 주파수를 플라즈마 밀도 정보로서 구하는 플라즈마 밀도정보 구출(救出)수단 플라즈마 밀도정보 구출수단에 의해 구해진 정보에 기초하여 실측 플라즈마 밀도와, 목표 플라즈마 밀도와의 차가 해소되도록 플라즈마 생성용의 고주파파워를 제어하는 고주파파워 제어수단을 포함하는 플라즈마 발생장치 [청구항 9] 제 6항에 있어서,고주파파워 제어수단은 임피던스 정합기가 설치되어 있어서 플라즈마 밀도정보에 기초하여 임피던스 정합기를 제어하여 전원측과 플라즈마측 사이의 임피던스 정합상태를 조정함으로써 플라즈마 생성용의 고주파파워의 제어행하는,플라즈마 발생장치. [청구항 10] 제 6항에 있어서,상기 장치는 플라즈마 생성용의 채임버에 삽입됨과 동시에 선단이 밀폐되어 있는 유전체제의 튜브와, 튜브의 선단측에 수용되어서 고주파파워를 방사하는 안테나와, 튜브의 뒤쪽에 수용되어서 안테나에 접속되어 있는 고주파파워 전송용의 케이블을 포함하는 플라즈마 밀도정보 측정용 프로브를 구비하고,상기 유전체제의 튜브의 관벽을 유전체제의 격벽으로 하여 튜브 내의 안테나에서 플라즈마 밀도정보 계측용의 고주파파워가플라즈마공급되도록구성되어 있는,플라즈마 발생장치. [청구항 11] 제 10항에 있어서,유전체제의 튜브에는 복수의 안테나가 튜브의 선단으로부터의 거리가 각각 다르도록 수용되어 있으며, 플라즈마 밀도정보 구출수단이 각 안테나마다 얻어진 물리량의 측정결과로부터 플라즈마 밀도에 따라 고주파파워의 강한 흡수가 일어나는 플라즈마 흡수주파수를 각각 구함과 동시에 플라즈마 흡수주파수 중 공통주파수의 플라즈마 흡수주파수를 플라즈마 표면파 공명주파수구성되어 있는,플라즈마 발생장치. [청구항 12] 제 10항에 있어서,플라즈마 밀도정보 측정용 프로브가 플라즈마 생성용의 채임버에 진퇴 가능하게 삽입되어 있음과 동시에, 측정하지 않을 때는 프로브의 선단이 채임버 내의 측정위치에서 채임버의 벽면부근의 퇴피위치로 인입되도록 프로브를 이동시키는 프로브 이동수단구비하고 있는플라즈마 발생장치. [청구항 13] 제 10항에 있어서,플라즈마 밀도정보 측정용 프로브의 후단에, 프로브 안의 안테나로 잘못 들어가는 과대한 플라즈마 생성용의 고주파파워를 저지하는 보호수단배설되어 있는,플라즈마 발생장치. [청구항 14] 제 10항에 있어서,고주파파워 전송용의 케이블이, 심선과 실드용의 도체제 튜브와, 심선·도체제 튜브 사이의 공극을 채우는 절연용 세라믹재로 이루어지는,플라즈마 발생장치. [청구항 15] 제 10항에 있어서,유전체제의 튜브는 측정범위가 미피복 상태로 되도록 하여 튜브 표면이 금속피복되어 있는,플라즈마 발생장치. [청구항 16] 제 10항에 있어서,안테나가유전체제의튜브의내면근접하여연장되어 있는,플라즈마 발생장치.