문맥 (context)
[청구항 2]
제 1 항에 있어서,웨이퍼의 뒷면에 도전기판을 부착하기전에 반도체 웨이퍼를 얇게 만드는단계포함하는것을특징으로 하는공정.
[청구항 3]
제 2 항에 있어서,반도체 웨이퍼를 얇게 만드는 단계는 웨이퍼의 뒷면을 연마하는단계포함하는것을특징으로 하는공정.
[청구항 4]
제 2 항에 있어서,반도체 웨이퍼를 얇게 만드는 단계는 웨이퍼의 뒷면을 랩핑하는단계포함하는것을특징으로 하는공정.
[청구항 5]
제 2 항에 있어서,반도체 웨이퍼를 얇게 만드는 단계는 웨이퍼의 뒷면을 에칭하는단계포함하는것을특징으로 하는공정.
[청구항 6]
제 1 항에 있어서,웨이퍼의 뒷면에 도전기판을 부착하는 단계는 도전시멘트를 이용하는단계포함하는것을특징으로 하는공정.
[청구항 7]
제 1 항에 있어서,도전기판은 구리 및 알루미늄으로 구성된 기에서 선택된재료로이루어지는것을특징으로 하는공정.
[청구항 8]
제 1 항에 있어서,라이브선을 따라 웨이퍼를 절단하는 단계는톱질단계포함하는것을특징으로 하는공정.
[청구항 9]
제 1 항에 있어서,라이브선을 따라 웨이퍼를 절단하는 단계는포토리소그래피패턴및에칭단계포함하는것을특징으로 하는공정.
[청구항 10]
제 1 항에 있어서,금속층을 형성하는 단계는 제 1 금속 부층을 스퍼터링하는 단계 및 상기 제 1 금속 부층위에 제 2 금속 부층을 스퍼터링하는단계포함하는것을특징으로 하는공정.
[청구항 11]
제 10 항에 있어서,제 1 금속 부층은 티타늄으로 이루어지고,제2금속부층알루미늄으로이루어지는것을특징으로 하는공정.
[청구항 12]
제 11 항에 있어서,제 1 금속층을 형성하는 단계는 제 2 금속 부층상에 제 3 금속 부층을 도금하는단계포함하는것을특징으로 하는공정.
[청구항 13]
제 12 항에 있어서,제 3 금속 부층은니켈로이루어지는것을특징으로 하는공정.
[청구항 14]
제 13 항에 있어서,제 1 금속층을 형성하는 단계는 제 3 금속 부층상에 제 4 금속 부층을 도금하는단계포함하는것을특징으로 하는공정.
[청구항 15]
제 14 항에 있어서,제 4 금속 부층은금으로이루어지는것을특징으로 하는공정.
[청구항 16]
제 1 항에 있어서,금속층을 형성하는 단계는:다이의 정면, 다이스의 측단부, 및 도전기판의 노출부상에 금속 부층을 디포지션하는 단계;마스크층을 디포지션하는 단계;상기 마스크층을 패턴하는 단계;상기 금속 부층의 제 1 부분을 노출시키는 개구부를 형성하기 위해 상기 마스크층의 일부를 제거하는 단계;상기 금속 부층의 제 1 부분을 제거하는 단계; 및상기 마스크층의 잔여부분을 제거하는 단계로 이루어지고,상기 마스크층의 잔여부분은 금속 부층의 제 2 부분을 덮고 있으며, 금속 부측의 제 2 부분은도전기판및다이의측단부접촉하고있는것을특징으로 하는공정.
[청구항 17]
제 16 항에 있어서,금속 부층을 디포지션하는 단계는스퍼터링단계포함하는것을특징으로 하는공정.
[청구항 18]
제 16 항에 있어서,금속층을 형성하는 단계는 금속 부층위에 제 2 금속 부층을 도금하는단계포함하는것을특징으로 하는공정.
[청구항 19]
제 1 항에 있어서,금속층의 적어도 일부상에 적어도 하나의 솔더 포스트를 형성하는단계포함하는것을특징으로 하는공정.
[청구항 20]
제 1 항에 있어서,금속층의 적어도 일부상에 적어도 하나의 솔더 볼을 형성하는단계포함하는것을특징으로 하는공정.
[청구항 21]
제 20 항에 있어서,적어도 하나의 솔더 볼을 형성하는 단계는스크린 프린팅단계포함하는것을특징으로 하는공정.
[청구항 22]
제 20 항에 있어서,적어도 하나의 솔더 볼을 형성하는 단계는솔더 제팅단계포함하는것을특징으로 하는공정.
[청구항 23]
제 1 항에 있어서,금속층의 적어도 일부상에 적어도 하나의 도전 폴리머 볼을 형성하는단계포함하는것을특징으로 하는공정.
[청구항 24]
제 1 항에 있어서,라이브선을 따라 도전기판을 절단하는 단계는톱질단계포함하는것을특징으로 하는공정.
[청구항 25]
제 1 항에 있어서,다이스를 분리하기 위해 제 1 및 제 2 절단부에 수직방향으로 도전기판과 웨이퍼를 절단하는단계포함하는것을특징으로 하는공정.
[청구항 26]
제 25 항에 있어서,웨이퍼 및 도전기판을 절단하는 단계는포토리소그래피패턴및에칭단계포함하는것을특징으로 하는공정.
[청구항 27]
제 1 항에 있어서,반도체장치는 mosfet이고, 다이의 정면은 소스 연결패드 및 게이트 연결패드로 이루어지며, 도전기판은 다이의 뒷면상에서 드레인 단자와 접촉하고 있고, 금속층의 드레인부는 도전기판과 접촉하며, 금속층은 또한 소스 연결패드와 접촉하는 소스부 및 게이트 연결패드와 접촉하는 게이트부를 포함하고, 금속층의 소스, 게이트, 및 드레인부는서로전기적절연되어있는것을특징으로 하는공정.
[청구항 28]
제 1 항에 있어서,반도체장치는 mosfet으로이루어지는것을특징으로 하는공정.
[청구항 29]
제 1 항에 있어서,반도체장치는다이오드로이루어지는것을특징으로 하는공정.
[청구항 30]
제 1 항에 있어서,반도체장치는 jfet으로이루어지는것을특징으로 하는공정.
[청구항 31]
제 1 항에 있어서,반도체장치는바이폴러트랜지스터로이루어지는것을특징으로 하는공정.
[청구항 32]
제 1 항에 있어서,반도체장치는 ic로이루어지는것을특징으로 하는공정.
[청구항 35]
제 34 항에 있어서,웨이퍼를 절단하는 단계에 의해 형성된 제 1 커프는 도전기판을 절단하는 단계에 의해 형성된 제 2 커프보다 너비가 더 넓은 것특징으로 하는공정.
[청구항 36]
제 34 항에 있어서,웨이퍼를 절단하는 단계는톱질단계포함하는것을특징으로 하는공정.
[청구항 37]
제 34 항에 있어서,도전기판을 절단하는 단계는톱질단계포함하는것을특징으로 하는공정.
[청구항 39]
제 38 항에 있어서,연결패드와 전기적 접촉하는제2금속층포함하는것을특징으로 하는패키지.
[청구항 40]
제 38 항에 있어서,금속층은 적어도 2개의 금속 부층으로 이루어지고, 제 2 금속 부층이제1금속부층위에놓이는것을특징으로 하는패키지.
[청구항 41]
제 40 항에 있어서,제 1 금속 부층은 스퍼터링되고,제2금속부층도금되는것을특징으로 하는패키지.
[청구항 42]
제 39 항에 있어서,금속층과 접촉하는 적어도 하나의 제 1 솔더 포스트 및 제 2 금속층과 접촉하는적어도하나의제2솔더 포스트포함하는것을특징으로 하는패키지.
[청구항 43]
제 39 항에 있어서,금속층과 접촉하는 적어도 하나의 제 1 솔더 볼 및 제 2 금속층과 접촉하는적어도하나의제2솔더볼포함하는것을특징으로 하는패키지.
[청구항 44]
제 39 항에 있어서,금속층과 접촉하는 적어도 하나의 제 1 도전 폴리머 볼 및 제 2 금속층과 접촉하는적어도하나의제2도전폴리머볼포함하는것을특징으로 하는패키지.
[청구항 45]
제 38 항에 있어서,도전판은 다이의 너비(x1)보다 큰너비갖는것을특징으로 하는패키지.
[청구항 46]
제 38 항에 있어서,다이는수직파워이루어지는것을특징으로 하는패키지.
[청구항 47]
제 38 항에 있어서,다이는다이오드로이루어지는것을특징으로 하는패키지.
[청구항 48]
제 38 항에 있어서,다이는바이폴러트랜지스터로이루어지는것을특징으로 하는패키지.
[청구항 49]
제 38 항에 있어서,다이는 jfet으로이루어지는것을특징으로 하는패키지.
[청구항 50]
제 38 항에 있어서,다이는 ic로이루어지는것을특징으로 하는패키지.
[청구항 52]
제 51 항에 있어서,소스 금속층과 접촉하는 적어도 하나의 솔더 포스트, 게이트 금속층과 접촉하는 적어도 하나의 솔더 포스트, 및 드레인 금속층과 접촉하는적어도하나의솔더 포스트포함하는것을특징으로 하는패키지.
[청구항 53]
제 51 항에 있어서,소스 금속층과 접촉하는 적어도 하나의 솔더 볼, 게이트 금속층과 접촉하는 적어도 하나의 솔더 볼, 및 드레인 금속층과 접촉하는적어도하나의솔더볼포함하는것을특징으로 하는패키지.
[청구항 54]
제 51 항에 있어서,소스 금속층과 접촉하는 적어도 하나의 도전 폴리머 볼, 게이트 금속층과 접촉하는 적어도 하나의 도전 폴리머 볼, 및 드레인 금속층과 접촉하는적어도하나의도전폴리머볼포함하는것을특징으로 하는패키지.
[청구항 56]
제 55 항에 있어서,도전기판의 단부를 다이의 단부 너머 측부상으로연장되는것을특징으로 하는패키지.
[청구항 57]
제 55 항에 있어서,플랜지는 다이의 면에 수평한 방향으로 다이로부터 윗방향으로세로연장되는것을특징으로 하는패키지.
[청구항 59]
제 58 항에 있어서,각각의 다이의 정면은 적어도 하나의 연결패드를 포함하고, 금속층은 연결패드로부터전기적절연되는것을특징으로 하는반도체 구조체.
[청구항 60]
제 58 항에 있어서,연결패드와 전기적 접촉하는제2금속층포함하는것을특징으로 하는반도체 구조체.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
반도체 장치가 MOSFET인 경우, 금속층의 소스부, 게이트부 및 드레인부는 서로 어떠한 관계를 가지며 각각 무엇과 접촉하는가?
추론 과정 (compact_reasoning)
-
1과제 해석
task_interpretation반도체 장치가 MOSFET일 때 금속층의 소스부, 게이트부, 드레인부 사이의 관계와 각각의 접촉 대상을 파악해야 한다.
-
2정보 추출
information_extraction청구항 27에서 MOSFET의 구성 요소인 소스 연결패드, 게이트 연결패드, 드레인 단자와 금속층의 각 부위(소스부, 게이트부, 드레인부)에 대한 정보를 추출한다.
- 반도체장치는 mosfet이고, 다이의 정면은 소스 연결패드 및 게이트 연결패드로 이루어지며, 도전기판은 다이의 뒷면상에서 드레인 단자와 접촉하고 있고, 금속층의 드레인부는 도전기판과 접촉하며, 금속층은 또한 소스 연결패드와 접촉하는 소스부 및 게이트 연결패드와 접촉하는 게이트부를 포함하고, 금속층의 소스, 게이트, 및 드레인부는서로전기적절연되어있는것을특징으로 하는공정
-
3근거 선택
evidence_selection금속층의 각 부위가 무엇과 접촉하는지, 그리고 부위 간의 관계를 명시한 구절을 선택한다.
- 금속층의 드레인부는 도전기판과 접촉하며, 금속층은 또한 소스 연결패드와 접촉하는 소스부 및 게이트 연결패드와 접촉하는 게이트부를 포함하고, 금속층의 소스, 게이트, 및 드레인부는서로전기적절연되어있는것을특징
-
4논리 통합
logical_integration추출된 정보를 종합하면, 소스부는 소스 연결패드와, 게이트부는 게이트 연결패드와, 드레인부는 도전기판과 접촉하며, 이 세 부위는 서로 전기적으로 절연된 관계이다.
- 금속층의 드레인부는 도전기판과 접촉하며, 금속층은 또한 소스 연결패드와 접촉하는 소스부 및 게이트 연결패드와 접촉하는 게이트부를 포함하고, 금속층의 소스, 게이트, 및 드레인부는서로전기적절연되어있는것을특징
-
5결론 도출
conclusion_formulation질문에 대한 답변으로 각 부위의 접촉 대상과 상호 관계(전기적 절연)를 정리한다.
-
6답변 생성
answer_generation최종 답변을 작성한다.
최종 답변 (final_answer)
금속층의 소스부, 게이트부 및 드레인부는 서로 전기적으로 절연되어 있는 관계이며, 소스부는 소스 연결패드와 접촉하고, 게이트부는 게이트 연결패드와 접촉하며, 드레인부는 도전기판과 접촉한다.
핵심 해석 (core_interpretation)
MOSFET 반도체 장치에서 금속층의 각 전극 부위(소스, 게이트, 드레인)가 각각의 연결 패드 또는 도전기판과 접촉하면서도 상호 간에는 전기적으로 절연되도록 구성된 구조를 나타낸다.